Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9098405 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA Reaktor ist eine chemische Dampfabscheidung (CVD) Ausrüstung für die Abscheidung von dünnen Schichten auf Substraten wie Wafer in der Halbleiterindustrie verwendet. Das System ist in der Lage, hohe Abscheidungsraten und Gleichmäßigkeit in einer breiten Palette von Materialien, einschließlich Silizium, Galliumarsenid, Titannitrid und verschiedenen anderen Metallen und Oxiden. Der AMAT CENTURA Reaktor wurde entwickelt, um die thermischen Schäden zu minimieren und Partikel zu minimieren, indem „Hotspots“ mit einheitlicher Temperaturregelung beseitigt werden, eine präzise Gas- und Druckregelung bereitgestellt wird und eine enge Prozesskammerdesign mit geringer Masse für eine schnellere Thermalisierung integriert wird. Die Einheit wird durch Infrarotlampen oder ein elektrisches Heiz- „Scharnier“ -Element temperiert und verfügt über ein pyromagnetisches Feld, um die Prozessgleichförmigkeit zu konzentrieren und zu erhöhen. Angewandte Materialien CENTURA Reaktor ist mit hoher Reinheit Tantal für Korrosionsbeständigkeit und chemische Inertität, sowie eine Edelstahlauskleidung für eine bessere Prozessautomation konstruiert. Die Maschine verfügt zudem über eine geringe partikuläre Bauweise, die das Risiko von Verschmutzungen minimiert, sowie über ein Abgaswerkzeug, das TEOS-Wäscher und Katalysator umfasst. CENTURA-Reaktor kann programmiert werden, um mit Einzel- und Dual-Source-Prozessen zu arbeiten, so dass es für verschiedene Wachstumsraten geeignet ist, einschließlich flacher Grabenisolierung, Dual-Damaszene, chemisch-mechanische Planarisierung (CMP) und Salizid-Prozesse. Es bietet eine präzise Kontrolle von Druck, Temperatur, Prozesszeit und Molekularstrahltechnik, was zu einer ausgezeichneten Gleichmäßigkeit, Dichte und Linearität (Rampe nach oben und Rampe nach unten) führt. Neben der hohen Performance, die mit AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA erhältlich ist, ist das Asset auch einfach zu bedienen. Die Schnittstelle ermöglicht es Benutzern, alle Aspekte des Prozesses genau zu steuern, vom Rezept und Zeitplan bis zur Leistungs- und Gassteuerung, und bietet eine genaue Vorhersage der Substratschichtdicke während des Abscheidungsprozesses. Das Modell ist auch skalierbar und aufrüstbar, so dass Benutzer die Ausrüstung leicht an ihre sich ändernden Bedürfnisse anpassen können. Insgesamt ist AMAT CENTURA aufgrund seines einzigartigen Designs, seiner hervorragenden Leistung und Flexibilität ein führendes CVD-System. Es ist in der Lage, qualitativ hochwertige Ergebnisse mit minimalen thermischen Schäden zu erzielen, auch bei hohen Abscheideraten und hoher Präzision. Aus diesen Gründen ist die Einheit in der Halbleiterindustrie für die Prozessentwicklung, Produktion und Qualifizierung (QA/QC) Tests weit verbreitet.