Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9101735 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA ist ein leistungsstarker Mehrzweckreaktor zur Erforschung und Herstellung von fortschrittlichen Halbleiterfilmen und integrierten Schaltungen. Der Reaktor wird von AMAT hergestellt, einem Unternehmen, das sich auf automatisierte Prozessanlagen und Systeme spezialisiert hat. AMAT CENTURA ist eine Einwafer-Plasmabearbeitungsanlage mit hoher Dichte mit vier reaktiven Niederdruck-Gasquellen, Hochleistungs-Mikrowellenenergie und einem proprietären In-situ-Messsystem. Zur Verbesserung der Prozessintegration und der On-Wafer-Messungen verwendet APPLIED MATERIALS CENTURA zwei unterschiedliche Prozessmodule, die je nach Bedarf leicht verändert werden können. Das erste Modul ist eine Niederdruck-chemische Dampfabscheidungseinheit (LP-CVD). Dieses Modul enthält eine induktiv gekoppelte Plasmaquelle, die ideal für die Synthese von dünnen Filmen und die Oberflächenmodifizierung von Filmen mit reaktiven Gasen ist. Das zweite Modul ist eine plasmaverbesserte chemische Aufdampfmaschine (PECVD). Dieses Modul dient zur Abscheidung von Siliciumoxynitrid, Siliciumnitrid, dotierten Siliciumoxiden und anderen dünnen Filmen. CENTURA verfügt über ein kostengünstiges Substratübertragungswerkzeug, das teure Arbeit im Zusammenhang mit der Waferbearbeitung reduziert. Es umfasst auch proprietäre Messtechnik in situ und Umgebungstemperatur-Prozessüberwachung und liefert genaue und zuverlässige Messungen, die angepasst werden können, um optimale Prozessergebnisse zu erzielen. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA enthält auch einen patentierten Abwasserfilter mit niedrigem Widerstand, der das Eindringen gefährlicher Partikel in die Atmosphäre verhindert. AMAT CENTURA ist in der Lage, Folien mit einer breiten Palette von Eigenschaften herzustellen, wie hervorragende elektrische Eigenschaften, überlegene thermische Eigenschaften, überlegene Oberflächenmorphologie und niedrige Rekristallisationstemperaturen. ANGEWANDTE MATERIALIEN CENTURA verwendet die Kombination aus Hochleistungs-Mikrowellen, induktiv gekoppelter Plasmaquelle und mehreren reaktiven Gasquellen zur Abscheidung von Filmen mit überlegener Schrittabdeckung und dünneren Filmen für einen verbesserten Durchsatz. Seine Mehrfachgasquellen ermöglichen die Abscheidung von Filmen mit abnehmendem Widerstand und geringer Oberflächenspannung. Kurz gesagt, CENTURA ist eine hochmoderne Anlage, die für die Forschung und Produktion von fortschrittlichen Halbleiterfilmen und integrierten Schaltungen entwickelt wurde. Dazu gehören vier Niederdruckgasquellen, Hochleistungs-Mikrowellenenergie, patentierte In-situ-Messungen und ein kostengünstiges Substratübertragungsmodell. Es ist in der Lage, Filme mit ausgezeichneten elektrischen Eigenschaften, überlegenen thermischen Eigenschaften, überlegener Oberflächenmorphologie und niedrigen Rekristallisationstemperaturen herzustellen. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA enthält auch einen patentierten niederohmigen Filter, der das Eindringen gefährlicher Partikel in die Atmosphäre verhindert.