Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9116528 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA
ID: 9116528
Wafergröße: 8"
IPS System, 8".
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA Reaktor ist ein fortschrittliches Materialabscheidungssystem, das bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet wird. Das System wird verwendet, um Dünnschichtmaterialien auf die Halbleiterscheibenoberflächen abzulegen, um Schaltungen, Transistoren und andere kritische Komponenten von integrierten Schaltungen zu bilden. Der AMAT CENTURA Reaktor besteht aus mehreren Komponenten, darunter einem horizontalen Bahnspinner, einem Plasmagenerator und einer Generatorhalterung, einer Plasmaversorgung, einer Vakuumkammer und einer Ladeschloss. Der horizontale Bahnspinner spinnt eine dünne Halbleiterbahn, die dann auf die Ladelasche geladen und in die Vakuumkammer eingelegt wird. Innerhalb der Vakuumkammer wird die Bahn mit Dünnfilmmaterialien nach einem fortschrittlichen Plasma-basierten Verfahren beschichtet. Der Plasmagenerator erzeugt ein Plasma aus Argon-, Stickstoff- und Sauerstoffatomen, die dann bei hohen Temperaturen und Drücken auf die Bahn geleitet werden. Die negativen Ionen im Plasma wirken dann mit den Materialien auf der Bahn zusammen, um Dünnschichtschichten zu erzeugen. Durch Variation der reaktiven Gase und der Betriebsbedingungen können auf den Dünnschichtschichten Verfahren wie Abscheidung, Oxidation und Legierung durchgeführt werden. Der Plasmagenerator kann auch verwendet werden, um die Bahn mit Ozon oder hochenergetischem Plasma zu behandeln, um die Waferoberfläche zu reinigen und Fremdpartikel oder Verunreinigungen vor oder nach dem Aufbringen von Dünnschichtschichten zu entfernen. Das Plasma hat auch eine große Flexibilität in Bezug auf die Prozesssteuerung und kann verwendet werden, um Schritte in verschiedene Richtungen durchzuführen. Dies ermöglicht eine präzisere Prozesssteuerung, die für die Geräteherstellung entscheidend ist. Der CENTURA-Reaktor ist mit einer ausgeklügelten ControlLogix-Software ausgestattet, die die Anpassung der Parameter des Prozesses wie die Leistungseinstellung, die Gasströme und die Vakuumeinstellung an die gewünschten Prozessanforderungen ermöglicht. Die Software zeichnet auch Daten aus dem Prozess auf, so dass der Benutzer die Ergebnisse analysieren und eventuelle Probleme beheben kann. Der CENTURA-Reaktor ist ein unschätzbares Werkzeug für die Herstellung von Halbleiterbauelementen, da er eine höhere Präzision, einen höheren Durchsatz und schnellere Verarbeitungsgeschwindigkeiten ermöglicht. Mit seiner fortschrittlichen Technologie und Prozesssteuerungsfunktionen ist es ein wichtiger Bestandteil der Halbleiterindustrie geworden.
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