Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9121573 zu verkaufen

Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.

ID: 9121573
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1998
RTP System, 8" (2) Mod 1 Chambers SNNF Loadlock: Wide body Signal tower Software version: C4.01a Hard drive GEM OTF Mainframe information: HP Robot type L/L Wafer mapping Robot blade: Quartz W/F Slippage sensor: Slide detect N2 Purge Chamber types: Chamber A: Mod1 ATM RTP Chamber B: Mod1 ATM RTP Chamber D: Cool Chamber F: Cool Gas configuration: Chamber A MFC 1 N2: Tylan 10L MFC 2 N2: Tylan 20L MFC 3 O2: Tylan 5L MFC 4 NH3: Tylan 10L Chamber B MFC 1 N2: Tylan 10L MFC 2 N2: Tylan 20L MFC 3 O2: Tylan 5L MFC 4 NH3: Tylan 10L 1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA ist ein von AMAT gebauter großflächiger Mehrzweckreaktor zur Herstellung von Halbleitern. Die Anlagen sind so konzipiert, dass sie den stetig steigenden Anforderungen der Halbleiterindustrie an hochpräzise und ertragsstarke Komponenten gerecht werden. Das System verfügt über modernste Technologie und einzigartige Funktionen, um eine hervorragende Produktionsleistung zu gewährleisten. Der AMAT CENTURA Reaktor ist auf einer Galliumarsenid (GaAs) -Plattform aufgebaut und kann virtuelle Wafergrößen von bis zu 3,5 Zoll erzeugen. Es ist in der Lage, ultrapräzise Komponenten für integrierte Schaltungsstruktur, Dünnschichten und HDI-Substrate herzustellen. Das Gerät wurde entwickelt, um die volle Funktionalität sowohl für Deep Reactive Ion Etching (DRIE) als auch für Physical Vapor Deposition (PVD) -Schichten bereitzustellen. Die Hauptmerkmale der Maschine sind ihr Hochleistungszyklus, hervorragende Materialeigenschaften und eine außergewöhnliche Prozesskontrolle. Die Hochgeschwindigkeitsproduktionsfähigkeit ermöglicht es, Teile schnell zu fertigen und die Betriebszykluszeiten für die Halbleiterherstellung zu reduzieren. Seine Ionen- und Photonenstrahlbearbeitungsfähigkeiten ermöglichen es ihm, die hohe Genauigkeit zu erreichen, die von der Industrie benötigt wird. Es ist auch in der Lage, sich einfach an verschiedene Prozesskonfigurationen anzupassen und kann schnell neu konfiguriert werden, um den Anforderungen gerecht zu werden. Das Tool kann auch eine komplette Reihe von Prozesssteuerungsfunktionen bereitstellen, einschließlich Echtzeit-Überwachung und Berichterstattung von Parametern, Substratregistrierung und -platzierung, Partikelsteuerung, Kammerdruck und Staubsaugerigkeit, Kammerprofilerfassung und Prozessparameteroptimierung. Darüber hinaus verfügt das Asset über eine breite Palette von Automatisierungsoptionen, um Prozessänderungen effektiv zu bewältigen und den Durchsatz zu erhöhen, sowie eine Bibliothek mit Rezepten für eine schnelle und zuverlässige Produktherstellung. Der CENTURA-Reaktor von APPLIED MATERIALS wurde entwickelt, um höchsten Qualitätsanforderungen gerecht zu werden und liefert Zuverlässigkeit und Präzision, bietet gleichzeitig einen höheren Durchsatz und reduziert kostspielige Zeitverzögerungen im Zusammenhang mit manuellen Prozessen. Das Modell ist ideal für die Herstellung von hochleistungsfähigen, hochauflösenden Nanostrukturen mit ausgezeichneter Steuerbarkeit und Wiederholbarkeit.
Es liegen noch keine Bewertungen vor