Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9122659 zu verkaufen
URL erfolgreich kopiert!
Tippen Sie auf Zoom
ID: 9122659
Weinlese: 2000
RTP Xe+ System
RP Type
TPCC M/F
Toxic
Wide body loadlock
ISSG
2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA ist ein Vakuum-Abscheidungsgerät zur Herstellung von Halbleitersubstraten oder Wafern. Es bietet eine ideale Umgebung für eine Vielzahl von Prozessanwendungen, einschließlich chemischer Dampfabscheidung (CVD), physikalischer Dampfabscheidung (PVD) und Atomschichtabscheidung (ALD). Das System besteht aus einer Reihe von Komponenten, darunter eine Vakuumverarbeitungskammer, die die Hauptverarbeitungskammer, eine Duschkopfabscheidungsquelle, eine Sublimationsquelle und eine Cryo-Thin Source ist. Die Vakuumverarbeitungskammer hat eine Vakuumnote von 10-8 Torr und ist die Hauptprozesskammer, in der die Abscheidung der dünnen Filme stattfindet. Es ist typischerweise in keramischem Material eingeschlossen, das zusätzliche Stabilität bietet und eine In-situ-Spülöffnung umfasst, um unerwünschte Partikel zu entlüften. Es umfasst auch Heizelemente, Temperaturregler und eine kryogene Stickstoffdecke zur Temperaturregelung. Die Vakuumverarbeitungskammer hat eine einstellbare Höhe, Breite und Tiefe, um eine kundenspezifische Dünnschichtabscheidung zu ermöglichen. Die Duschkopfabscheidungsquelle ist eine Abscheidungsquelle, die auf die Vakuumverarbeitungskammer gelegt wird und zur Abscheidung einheitlicher dünner Filme verwendet wird. Es besteht aus einer Anzahl von individuell einstellbaren Düsenstrahlen, die genau eingestellt werden können, um gleichmäßige Folien gewünschter Dicke bereitzustellen. Die Sublimationsquelle befindet sich zwischen der Vakuumverarbeitungskammer und der Duschkopfabscheidungsquelle und dient zur Abscheidung von Metallfolien. Diese Quelle verwendet eine beheizte Quellplatte zum Verdampfen des Metalls und kondensiert es dann auf dem Substrat in Form von dünnen Filmen. Die Cryo-Thin Source ist eine Abscheidungsquelle zur gleichmäßigen Abscheidung von Metallfilmen auf dem Substrat. Es liegt zwischen der Sublimationsquelle und der Duschkopfabscheidungsquelle und wird typischerweise mit flüssigem Stickstoff versorgt. Es besteht aus einer kryogenen Düse und einer beheizten Brunnenplatte, mit der die Temperatur der Metallatome verringert wird, was zu ihrer gleichmäßigen Abscheidung auf dem Substrat führt. AMAT CENTURA ist eine vielseitige Vakuumabscheidungseinheit, mit der eine breite Palette von Hochleistungs-Halbleitersubstraten mit perfekter Filmhaftung und gleichmäßiger Dicke hergestellt werden kann. Es ist eine zuverlässige, kostengünstige Maschine, mit der eine hervorragende Dünnschichtabscheidung für eine Vielzahl von Anwendungen erreicht werden kann.
Es liegen noch keine Bewertungen vor