Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9155625 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA
ID: 9155625
Chamber.
Ausrüstung von AMAT/AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA ist ein fortschrittlicher Batch-Prozessreaktor, der in der Halbleiterverarbeitung verwendet wird. Dieses System ermöglicht eine vollständige thermische und Abscheidungssteuerung, die Prozessstabilität und eine präzise Kontrolle des gesamten Herstellungsprozesses ermöglicht. AMAT CENTURA ist mit fortschrittlicher Prozesssteuerungsfunktion ausgestattet und bietet höchste Präzision und Wiederholbarkeit. Es ermöglicht Prozessanpassungen im Handumdrehen, die eine optimale Steuerung der Prozessparameter ermöglichen. Die Maschine enthält auch einen umfassenden Satz von Software-Tools, mit denen Prozessingenieure die Prozessbedingungen genau vorhersagen und festlegen können, wodurch eine genaue Kontrolle über die Prozesszeitachse möglich ist. ANGEWANDTES WERKZEUG CENTURA verwendet fortschrittliche Heizmechanismen, um eine präzise thermische Verarbeitung zu erreichen. Es umfasst einen konvektionsbasierten beheizten Umgebungsgaskopfraum, ein elektrobetriebenes externes Heizelement und eine gleichstrombeheizte Lasertragkammer. Der Gaskopfraum soll sicherstellen, dass die Anlage die Druckkontrolle über den gesamten Prozess aufrechterhält. Das externe Heizelement sorgt für eine präzise Wärmebilanz, die eine optimale Wärmeleistung ermöglicht. Die beheizte Lasertragkammer ermöglicht eine präzise Steuerung der Laserprozessparameter für hochpräzise Abscheideprozesse. Das CENTURA-Modell bietet eine umfassende Palette von Standard- und optionalen Funktionen, um eine optimale Leistung zu gewährleisten. Es umfasst eine große und leicht zugängliche Wafer-Handling-Ausrüstung, die ein präzises Be- und Entladen von Wafern und Substraten ermöglicht. Das System enthält auch eine Dual-Source-Ionenquelle für zusätzliche Genauigkeit während der Ionenimplantation. Darüber hinaus verfügt die Einheit AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA über eine Hochgeschwindigkeits-offene HF- und DC-Sputterquelle, die erweiterte Abscheidungsprozesse mit ultrahochauflösenden Schichten ermöglicht. AMAT CENTURA Maschine ist hoch anpassbar, so dass Prozessingenieure und Wissenschaftler die genauen Prozessergebnisse erzielen können, die sie benötigen. Es ist leicht an verschiedene Umgebungen angepasst, so dass es eine gute Wahl für neue oder bestehende Halbleiterherstellungsanlagen. Das Tool umfasst auch verschiedene Sicherheitsmechanismen, die die Sicherheit des Personals und des Vermögenswertes selbst gewährleisten. Angewandte Materialien CENTURA Modell ist ein fortschrittlicher Batch-Prozess-Reaktor entwickelt, um die höchsten Ebenen der Präzision und Wiederholbarkeit in der Halbleiterverarbeitung zu erfüllen. Seine hochmodernen Funktionen ermöglichen eine präzise Wärme- und Abscheidungssteuerung, so dass Prozessingenieure eine optimale Prozessleistung erzielen können. Die fortschrittlichen Heiz- und Kühlmechanismen, gekoppelt mit Hochgeschwindigkeits-offenen HF- und DC-Sputterquellen, machen diese Ausrüstung zu einer idealen Wahl für Halbleiterherstellungsanlagen.
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