Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9157220 zu verkaufen

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ID: 9157220
PVD System.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA® reactor ist ein fortschrittliches Halbleiterherstellungsgerät, das zur Herstellung mikroelektronischer Schaltungen zur Herstellung von Computerchips, integrierten Schaltungen und anderen anspruchsvollen Bauelementen verwendet wird. AMAT CENTURA® ist eine hocheffiziente, in sich geschlossene Reaktorausrüstung, die mehrere verschiedene Verarbeitungskammern und Umgebungen zu einem einzigen Stück halbautomatischer Ausrüstung kombiniert. Der Reaktor besteht aus drei Hauptteilen: der Hauptkammer, in der der Hauptprozess stattfindet, den Vorbehandlungs- und Temperaturregelkammern sowie den Nachbehandlungs- und Ausgangskammern. Herzstück des Reaktors ist die Hauptkammer, die eine Vielzahl von hochenergetischen Plasmaquellen, wie HF- oder mikrowellenerzeugte Plasmen, aufweist und ferner eine Ionenquelle, eine Zielquelle und eine Substratquelle (Wafer) umfasst, um gewünschte Verarbeitungsergebnisse zu erzielen. Die Substratquelle wird zum Laden und Entladen von Wafern verwendet, während die Ionenquelle den Ionentyp, die Ionenenergie und den Ionenfluss konfiguriert, um das Ätzen, Abscheiden und Polieren zu optimieren. Die Zielquelle liefert ein Metalltarget, das bei der chemischen Dampfabscheidung als Quelle für eine Vielzahl von Materialien dient. Die Vorbehandlungskammer wird in einer Vielzahl von Verfahren wie chemischer Reinigung, Metallätzen, thermischem Ätzen und Oberflächenaktivierung eingesetzt, während die Temperaturregelkammer dazu dient, die Temperatur sowohl des Targets als auch des Substrats vor und während der Hauptverarbeitung in der Hauptkammer genau zu steuern. Die Temperaturregelkammer ist ein besonders wichtiger Bestandteil des EINSATZMATERIALIEN CENTURA® Reaktorsystems, da sie optimale Ätz-, Aufdampf-, Diffusions- oder Lithographieverfahren ermöglicht. Die Nachbehandlungskammer dient zur Gasreinigung, thermischen Verarbeitung und zur Endpassivierung. Darüber hinaus verwendet CENTURA® Reaktoreinheit eine fortschrittliche Steuerungsmaschine, um eine präzise, wiederholbare Leistung von einem Prozess zum nächsten zu gewährleisten. Darüber hinaus ist der Reaktor modular und flexibel in seinem Betrieb ausgelegt, so dass er sich auf wechselnde Anwendungen einstellen kann. Insgesamt ist der CENTURA® -Reaktor von AMAT/APPLIED MATERIALS speziell auf ein zuverlässiges, effizientes und hochgradig konfigurierbares Werkzeug ausgelegt, das den anspruchsvollen Anforderungen der Halbleiterherstellungsindustrie gerecht wird. Die fortschrittlichen Plasmaquellen, die Temperaturkontrollfunktionen, das ausgeklügelte Gasmanagementwerkzeug und der vielseitige modulare Aufbau machen es zur idealen Plattform für Forschungs- und Produktionsanwendungen.
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