Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9160522 zu verkaufen

ID: 9160522
Etch frame Without chambers P/N: 0010-75005.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA Reaktor ist ein Hochleistungs, halbautomatische PECVD (Plasma-verbesserte chemische Dampfabscheidung) Ausrüstung entwickelt, um kostengünstige Plasmaabscheidung von anorganischen bei hohen Raten zu bieten. Die Prozesskammer enthält vier Hochfrequenzquellen, die an 13.56MHz arbeiten und zur Zündung und Aufrechterhaltung eines Mikrowellenplasmas in der Prozesskammer dienen. Die Plasmaquelle ist in der Lage, niedrige bis mäßige Drücke (< 10-3 Torr) zu handhaben und leistet bis zu 8 kW. Mit diesem vielseitigen System sind Verfahrenstechniker in der Lage, Oxid-, Nitrid- und Karbid-Dünnschichten für die Herstellung und Erforschung fortschrittlicher mikroelektronischer Geräte abzuscheiden. Durch den Einbau eines Einwafer-Lastschlosses spült die Kammer schnell, wodurch Anwendereingriffe entfallen und das Verunreinigungspotenzial der Prozesskammer verringert wird, was zu geringeren Betriebskosten und Betriebskosten führt. Durch die Verwendung einer Dämpfungseinheit mit Balgdichtung ist die Kammer so ausgelegt, dass sie Endvakuum einfängt und die Betriebskosten senkt. Zusätzlich verwendet das Dünnschichtabscheideverfahren einen Gasabgabekrümmer und kann für reaktive und nicht-reaktive Gase konfiguriert werden. Innerhalb der Kammer wird ein Feinwinkelduschkopfwerkzeug verwendet, um die Prozessgase gleichmäßig zu verteilen und ein vordefiniertes Duschkopfmuster sorgt für eine gleichmäßige Verteilung der Gase, was zu einer besseren Prozessgleichmäßigkeit über alle Wafer führt. AMAT CENTURA Reaktor enthält auch eine benutzerfreundliche grafische Benutzeroberflächensoftware. Diese Software ermöglicht die Überprüfung, Konfiguration und Überwachung von Prozessparametern aus einem einheitlichen Menü, wodurch Schnittstelle, Bedienung und Dokumentation von Dünnschichtabscheidungsprozessen vereinfacht werden. Diese Maschine wird hauptsächlich zur Herstellung von Halbleiterbauelementstrukturen mit Dünnschichtabscheidung mit höheren Raten, besseren Bauelementeigenschaften, höherer P- und E-Qualität und geringeren Kosten pro Teil verwendet. Angewandte Materialien CENTURA Reaktor entspricht den Anforderungen an FAB20, SEMI-S2 Standards und bietet einen sauberen, sicheren und effizienten Dünnschichtabscheidungsprozess.
Es liegen noch keine Bewertungen vor