Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9170824 zu verkaufen

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ID: 9170824
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1998
WCVD System, 8" WxZ Optima (4) Chambers 1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA ist ein fortschrittlicher Plasmaätzreaktor, der in Industrie- und Forschungsanwendungen im Halbleiterbereich eingesetzt wird. Dieser Reaktor ist eine sehr vielseitige kostengünstige Alternative zu herkömmlichen Ätz- und Abscheideprozessen. Es ist in der Lage, eine breite Palette von Materialien zu verarbeiten und verfügt über ein kompaktes Design für eine einfache Integration in eine Prozesslinie. AMAT CENTURA ist mit fortschrittlicher Prozesssteuerung ausgestattet und liefert zuverlässige, wiederholbare Verarbeitungsergebnisse. Zu den Kernkomponenten des Ätzreaktors gehören eine Vakuumkammer, eine HF-Stromquelle, eine Gasverteilereinrichtung und eine Heizplatte. Die Vakuumkammer ist aus Edelstahl gefertigt und mit einer variablen Druckfähigkeit bis 10-7 Torr ausgestattet. Die HF-Stromquelle bietet Leistungsstufen bis 250 Watt und kann sowohl im Pulsmodus als auch im Crystal Controlled Operation laufen. Das Gasverteilungssystem nimmt bis zu 10 Gasleitungen und zwei Spülleitungen auf und kann sowohl parallele als auch aufeinanderfolgende Gasströme aufnehmen. Die Heizplatte besteht aus Messinganoden und Kupferheizgeräten, die eine präzise Temperaturregelung bei Ätz- und Abscheideprozessen ermöglichen. Die beliebtesten Anwendungen für APPLIED MATERIALS CENTURA Ätzreaktor sind Poly-Si-Modul Etch, SiN Etch, Nitrid Etches, selektive Si Etch und Oxid/Nitrid Deposition. Es ist in der Lage, eine breite Palette von Materialien zu verarbeiten, darunter Silizium, Galliumarsenid (GaAs), Aluminium, Silizide, Bor dotiertes Silizium, Materialien und eine Vielzahl von Metallen und Kunststoffen. CENTURA ist in der Lage, Ätzprozesse bei Temperaturen von -20 ° C bis + 250 ° C durchzuführen, so dass es eine Reihe von verschiedenen Ätz- und Abscheidungsprozessen aufnehmen kann. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA Ätzreaktor bietet auch eine Vielzahl von Optionen, darunter einen Touchscreen-Monitor, integrierte Mikrowelle/HF-Steuereinheit, und eine Vision-Maschine. Dies ermöglicht eine präzise Steuerung des Ätzprozesses und bietet die Möglichkeit, die Prozessparameter mit großer Genauigkeit zu überwachen und zu steuern. Zusätzlich kann ein Vakuumverriegelungswerkzeug in den Reaktor integriert werden, um sichere und konsistente Ergebnisse zu gewährleisten. Insgesamt ist der AMAT CENTURA Ätzreaktor ein äußerst kostengünstiger, wartungsarmer und vielseitiger Vermögenswert. Das kompakte Design und die fortschrittliche Prozesssteuerung machen es zu einer guten Wahl für Ätz- und Abscheidungsprozesse in der Halbleiterindustrie. Die flexible Temperaturregelung, zuverlässige Ergebnisse und eine breite Palette an Materialverträglichkeit machen es zu einer idealen Lösung für viele Prozesse. ANGEWANDTE MATERIALIEN CENTURA bietet eine einfache und effektive Möglichkeit, eine Vielzahl von Ätz- und Ablagerungsvorgängen effizient und präzise durchzuführen.
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