Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9183325 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9183325
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2000
HDP-CVD System, 8"
Software version: B3.7_34
CIM: Linked
Hardware configuration:
Main system:
(1) Centura 5200
SMIF System: (2) Asyst SMIF Interfaces
Handler system: (1) HP ROBOT
Process chmber: (3) FHDP Chamber ultima
Hardware configuration (Subfab / Auxiliary units)
(1) SMC Heat exchanger
(3) ETO Generators
(2) CDO
(3) EBARA Pumps AAS70WN
Buffer / Loadlock EBARA Pump: (2) EBARA Pumps AA20N
Missing / Faulty parts / Accessories list
(1) RPS (AT APP pending to repair)
(1) Side match (At fab 35)
2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA Reaktor ist ein sehr vielseitiges Stück Silizium-Verarbeitungsanlagen für die Herstellung von Halbleitern verwendet. Seine Flexibilität macht es zu einem nützlichen Werkzeug für eine Vielzahl von Projekten, vom kleinen Prototyping bis zu hohen Produktionsläufen. AMAT CENTURA Reactor ist ein einstufiger Hochvakuumreaktor zur Verarbeitung von Siliziumsubstraten in einer thermischen Verarbeitungskammer. Dieses einzigartige, patentierte Design bietet eine sehr gleichmäßige, dielektrisch konstante Beschichtung. Die Kammer ist mit einem quarzbalgdichten Niederdruckpumpsystem ausgestattet, das mit einem Gasfördersystem mit Schnellventilen und rechnergesteuerten Durchflussmengen gekoppelt ist. Dieser Reaktor wurde entwickelt, um kostspielige Prozessschritte zu reduzieren und gleichzeitig die industriellen Anforderungen an die Gleichmäßigkeit, Zuverlässigkeit und Ausbeute der Folie zu erfüllen. Der Reaktor wird hauptsächlich zur Abscheidung von Wolframsilizid, Titansilizid, Kobaltsiliziden und anderen Silizidmaterialien verwendet. Es verfügt über eine einzelne Kammer, die 15 Zoll in der Höhe, zwei Fuß in der Breite und vier Fuß in der Tiefe. Die Kammer ist mit zwei unabhängigen elektronischen Mikroprozessor-Reglern, mehreren Temperatur- und Gasstrom-Sensorsystemen und einem Kammerblickanschluss ausgestattet. Die Temperatur kann von 50 - 1000⁰C eingestellt werden, mit einer maximalen Verarbeitungstemperatur von 850⁰C. Der Reaktor weist austauschbare Waferträger auf, die Wafergrößen von 3 bis 8 Zoll Durchmesser aufnehmen. Die Träger bieten eine genaue horizontale und vertikale Position jedes Wafers. Die vom Drehträger aufgebrachte Fliehkraft erzeugt eine Oberflächenladung, die eine gleichmäßige Gleichmäßigkeit und Dicke der resultierenden Folie gewährleistet. Angewandte Materialien CENTURA Reaktor ist ein unschätzbares Werkzeug für viele Halbleiterprozesse. Mit der Vielseitigkeit der einstellbaren Parameter, einschließlich Temperatur, Gasfluss, Druck und Reaktionszeiten, kann dieser Reaktor die Effizienz verbessern und gleichzeitig Kosten und Zeit im Herstellungsprozess reduzieren. Die präzise Hüllenkonstruktion, die robuste Elektronik und die präzise Gas- und Temperaturregelung sorgen dafür, dass die Prozessergebnisse konsistent und präzise sind.
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