Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9189948 zu verkaufen

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ID: 9189948
Wafergröße: 8"
PVD System, 8" Chamber A: AL Chamber B: TTN Chamber C: PCII Chamber F: Orient degas LLC: Narrow body HP Robot Missing parts.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA ist ein von AMAT entwickelter Hochleistungsreaktor, der hauptsächlich in der Halbleiterindustrie für Lithographieverfahren wie Deep-UV- und Etch-Verfahren eingesetzt wird. Die AMAT CENTURA Plattform basiert auf einer Mehrkammer-Mehrzonenkonfiguration zur Maximierung von Produktivität und Effizienz. Es ist mit Hochtemperatur-Quarzätzen, Hochdruckvakuumabscheidungen und Hochfrequenz-Plasmaabscheidungssystemen ausgestattet. Das Mehrkammerdesign von APPLIED MATERIALS CENTURA-Geräten ermöglicht eine bessere Prozessleistung im Vergleich zu Einzelkammersystemen. Dies ist auf die verbesserten Temperatur-, Druck- und Gleichmäßigkeitsmessungen zurückzuführen, die bei der Mehrkammerausführung möglich sind. Die Mehrkammerkonstruktion sorgt auch für einen erhöhten Gasdurchsatz, was höhere Durchsatzraten ermöglicht und gleichzeitig die Prozessgleichförmigkeit verbessert. Das CENTURA-System ist in der Lage, bis zu vier separate Prozesskammern zu verwalten. Dies ermöglicht einen verbesserten Durchsatz und die Möglichkeit, mit den getrennten Kammern unterschiedliche Prozesse gleichzeitig durchzuführen. Jede Kammer ist mit einem unabhängigen Regler für die verschiedenen Prozessparameter wie Temperatur, Druck und Abscheideraten ausgestattet. Es ist auf Temperaturgenauigkeit ausgelegt, die eine genaue Kontrolle der Ätz- und Abscheidungsschritte ermöglicht. Die Einheit verfügt auch über Vakuumabscheidungstechnologien wie plasmaverbesserte chemische Dampfabscheidung und atomare Schichtabscheidung, wodurch komplexere Strukturen erzeugt werden können. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA verfügt auch über Hochfrequenz-Plasma-Abscheidung zur Reduzierung der Zykluszeit und verbesserte Gleichmäßigkeit. Die Hochfrequenzplasmen weisen eine größere Toleranz für Bor auf, was sowohl zur Reduzierung der Zykluszeit als auch zur Erleichterung der High-K-Dielektrizitätsabscheidung verwendet werden kann. Die Maschine umfasst auch Sicherheitsmechanismen wie Gaskästen, aktive Abgase und piezoelektrische Sensoren, die die verschiedenen Prozessparameter überwachen. Dadurch ist das Werkzeug sicher im Einsatz und die Prozesse entsprechen den höchstmöglichen Sicherheitsstandards. Die Anlage ist auch entworfen, um Kontaminationen zu minimieren und die Effizienz zu maximieren, und die Benutzeroberfläche macht es einfach, die verschiedenen Parameter zu überwachen und anzupassen. Abschließend ist AMAT CENTURA ein leistungsstarkes und effizientes Reaktormodell mit mehreren Kammern und Zonen, das Produktivität und Effizienz verbessert und gleichzeitig verbesserte Temperatur-, Druck- und Gleichmäßigkeitsmessungen ermöglicht. APPLIED MATERIALS CENTURA Platform kann vier separate Kammern verwalten und ist mit Vakuumabscheidung, Hochfrequenz-Plasmaabscheidung und Sicherheitsmechanismen ausgestattet, um die Sicherheit der Benutzer und die Qualität der produzierten Teile zu gewährleisten. Damit ist es ein ideales Werkzeug für alle hochpräzisen Lithographieverfahren.
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