Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9204753 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Enabler ist ein hochmoderner Substratverarbeitungsreaktor, der darauf ausgelegt ist, eine kommerzielle Halbleiterproduktion zu ermöglichen. Dieses fortschrittliche Ätzverfahren Reaktivstrahl, physikalische Dampfabscheidung (PVD) und chemische Dampfabscheidung (CVD) Kammern, so dass ein verbesserter Durchsatz und erhöhte Ausbeuten. Das innovative Design von AMAT Centura Enabler umfasst eine große Auswahl an Kammergrößen, so dass Kunden den Reaktor an ihre eigene Produktionsumgebung anpassen können. Darüber hinaus ist APPLIED MATERIALS Centura Enabler sowohl unter Berücksichtigung der physischen als auch der Umweltsicherheit konzipiert. Seine molekulare Ausschlusstinte (MEI) Kammerdesign bietet präzise temperaturgesteuerte thermische Verarbeitung mit Ionenkanten, die eine verbesserte Gleichmäßigkeit und Prozesswiederholbarkeit ermöglicht. Für zusätzliche Sicherheit enthält Centura Enabler ein eingebautes Gasstromsteuerungssystem, das eine präzise Steuerung und eine konsistente Überwachung der Gasverteilung innerhalb der Kammer ermöglicht. Die Kammer verfügt auch über ein eingebautes Vakuumsystem, um sicherzustellen, dass alle Komponenten dicht verschlossen sind, ohne Dichtungen oder Dichtungen. Darüber hinaus ist die Kammer so konzipiert, dass sie rückdiffundierte Ionen minimiert und die Kontrolle von Abscheidungsflächen verbessert, die Gleichmäßigkeit und Ausbeute verbessert. AMAT/APPLIED MATERIALS Das effiziente Wärmemanagementsystem von Centura Enabler sorgt auch dafür, dass im gesamten Reaktor konstante Temperaturen eingehalten werden und optimale Verarbeitungsbedingungen gewährleistet sind. Seine einwandige vertikale Konstruktion reduziert den Platzbedarf des Reaktors und maximiert die Bodennutzung. AMAT Centura Enabler verfügt zudem über eine ergonomische, höhenverstellbare Benutzeroberfläche, die eine einfache Bedienung und Steuerung des Reaktors ermöglicht. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura Enabler ist ein wesentlicher Baustein für die kommerzielle Halbleiterherstellung. Es bietet eine große Auswahl an Kammergrößen, eine präzise temperaturgesteuerte thermische Verarbeitung, Gasflusssteuerung, Vakuumsysteme, verbesserte Gleichmäßigkeit und Prozesswiederholbarkeit, verbesserte Ausbeute, effizientes Wärmemanagement, ein einwandiges vertikales Design und eine ergonomische Schnittstelle.