Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9231993 zu verkaufen

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ID: 9231993
Wafergröße: 8"
PVD System, 8" (3) Chambers Load lock: Narrow body HP Robot Position A: STD AL Position B: G12 Position C: PC II Position F: Orienter degass Chamber A: Options: Application: AL Chamber body: Standard Wafer heater: Standard Cryo gate valve: 2PGV Source assembly: 12.9" Source adapter: 12.9" Magnet type: Dura source Magnet part number: 0010-20328 Chamber B: Options: Application Chamber body: Wide Wafer heater: A101 Cryo gate valve: 2PGV Source assembly: G12 Source adapter: G12 Magnet type: G12 Magnet part number: 0010-20768 Shutter assy included Chamber C: Options: Application: PC II Chamber body: PC II LEYBOLD 361c Turbo pump LEYBOLD 360 Pump controller RF Match: 0010-20524 Generator rack options: Selected option Position A RF generator: AE MDX-20K Position B RF generator: AE MDX-L6K Position C RF generator: RF Generators (CPS1001, LF-10).
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA ist eine hochentwickelte, anspruchsvolle und automatisierte Ausrüstung zur Verarbeitung fortschrittlicher Halbleiterscheiben. Es handelt sich um einen Produktionsreaktor, der speziell für die Verarbeitung von Wafern mit 300 Millimeter (mm) Durchmesser gebaut wurde. Das System ist mit einem vollautomatischen Transport, einer Kammer und einem Ladeport ausgestattet, der sowohl effizient als auch wirtschaftlich ist. AMAT CENTURA hat drei Hauptkammerkomponenten. Die vordere Kammer umfaßt einen Ladeplatz und die hintere Kammer ist mit Hochenergie-Plasmaquellen und einem Roboterarm zum Aufsetzen und Sammeln von Wafern in der Kammer ausgestattet. Die dritte Kammer, die Prozesskammer, ist zur schnellen und genauen Bearbeitung jedes Wafers ausgelegt. Diese Kammer weist eine Kombination aus hochenergetischen Elektronen- und Gasquellen auf. In der Prozesskammer findet der volle Kammerspiegelbehandlungszyklus statt. Die Maschine hat auch ein großes und konfigurierbares granulares Gasförderwerkzeug. Diese Anlage liefert der Prozesskammer reaktive Gasarten zur Erzeugung und Steuerung von Reaktionsnebenprodukten und Verunreinigungen. Durch die Konfigurierbarkeit kann der Benutzer aus mehreren Sollpunkten wählen, um die gewünschten Waferergebnisse zu erzielen. Das Modell ist mit Selbstdiagnose und optischen Qualitätskontrollmodulen (QC) ausgestattet, um eine qualitativ hochwertige Produktion zu gewährleisten. Das Gerät verfügt auch über ein TEM (< 100nm) Bildgebungssystem und Echtzeit-Elektronenmikroskopie-Einheit mit Zoom bis zu 3000 mal. Neben den Hauptkammern umfasst die Maschine auch mehrere Nebensysteme. Diese Systeme dienen zur Steuerung des Reaktivgasstroms und zur Steuerung von Werkzeugparametern wie Druck, Temperatur und Feuchtigkeit. Die Anlage ist auch mit zwei unabhängigen Kühlgeräten, einem HF-Generator und Vakuumpumpen ausgestattet. Das Modell wird mit einer Hochleistungsdatenerfassungsausrüstung für die automatisierte Datenerfassung und Analyse ausgestattet. Angewandte Materialien CENTURA System hat ein breites Spektrum von Anwendungen, einschließlich Back-End-of-Line-Verarbeitung und Distanzfehlererkennung. Das Gerät bietet auch eine Reihe von erweiterten Prozesssteuerungsoptionen wie In-situ, schnelle thermische Verarbeitung und Selbstgrenzenätzen. Die Flexibilität der Maschine ermöglicht es Anwendern, ihren Produktionsprozess und ihre Einstellungen auf optimale Leistung und Qualität abzustimmen. Durch die Optimierung der Sollwerte und Parameter kann das Werkzeug verschiedene Produktionsanforderungen und Anwendungen von der Klein- bis zur Großserienfertigung erfüllen.
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