Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9231993 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9231993
Wafergröße: 8"
PVD System, 8"
(3) Chambers
Load lock: Narrow body
HP Robot
Position A: STD AL
Position B: G12
Position C: PC II
Position F: Orienter degass
Chamber A:
Options:
Application: AL
Chamber body: Standard
Wafer heater: Standard
Cryo gate valve: 2PGV
Source assembly: 12.9"
Source adapter: 12.9"
Magnet type: Dura source
Magnet part number: 0010-20328
Chamber B:
Options:
Application
Chamber body: Wide
Wafer heater: A101
Cryo gate valve: 2PGV
Source assembly: G12
Source adapter: G12
Magnet type: G12
Magnet part number: 0010-20768
Shutter assy included
Chamber C:
Options:
Application: PC II
Chamber body: PC II
LEYBOLD 361c Turbo pump
LEYBOLD 360 Pump controller
RF Match: 0010-20524
Generator rack options: Selected option
Position A RF generator: AE MDX-20K
Position B RF generator: AE MDX-L6K
Position C RF generator: RF Generators (CPS1001, LF-10).
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA ist eine hochentwickelte, anspruchsvolle und automatisierte Ausrüstung zur Verarbeitung fortschrittlicher Halbleiterscheiben. Es handelt sich um einen Produktionsreaktor, der speziell für die Verarbeitung von Wafern mit 300 Millimeter (mm) Durchmesser gebaut wurde. Das System ist mit einem vollautomatischen Transport, einer Kammer und einem Ladeport ausgestattet, der sowohl effizient als auch wirtschaftlich ist. AMAT CENTURA hat drei Hauptkammerkomponenten. Die vordere Kammer umfaßt einen Ladeplatz und die hintere Kammer ist mit Hochenergie-Plasmaquellen und einem Roboterarm zum Aufsetzen und Sammeln von Wafern in der Kammer ausgestattet. Die dritte Kammer, die Prozesskammer, ist zur schnellen und genauen Bearbeitung jedes Wafers ausgelegt. Diese Kammer weist eine Kombination aus hochenergetischen Elektronen- und Gasquellen auf. In der Prozesskammer findet der volle Kammerspiegelbehandlungszyklus statt. Die Maschine hat auch ein großes und konfigurierbares granulares Gasförderwerkzeug. Diese Anlage liefert der Prozesskammer reaktive Gasarten zur Erzeugung und Steuerung von Reaktionsnebenprodukten und Verunreinigungen. Durch die Konfigurierbarkeit kann der Benutzer aus mehreren Sollpunkten wählen, um die gewünschten Waferergebnisse zu erzielen. Das Modell ist mit Selbstdiagnose und optischen Qualitätskontrollmodulen (QC) ausgestattet, um eine qualitativ hochwertige Produktion zu gewährleisten. Das Gerät verfügt auch über ein TEM (< 100nm) Bildgebungssystem und Echtzeit-Elektronenmikroskopie-Einheit mit Zoom bis zu 3000 mal. Neben den Hauptkammern umfasst die Maschine auch mehrere Nebensysteme. Diese Systeme dienen zur Steuerung des Reaktivgasstroms und zur Steuerung von Werkzeugparametern wie Druck, Temperatur und Feuchtigkeit. Die Anlage ist auch mit zwei unabhängigen Kühlgeräten, einem HF-Generator und Vakuumpumpen ausgestattet. Das Modell wird mit einer Hochleistungsdatenerfassungsausrüstung für die automatisierte Datenerfassung und Analyse ausgestattet. Angewandte Materialien CENTURA System hat ein breites Spektrum von Anwendungen, einschließlich Back-End-of-Line-Verarbeitung und Distanzfehlererkennung. Das Gerät bietet auch eine Reihe von erweiterten Prozesssteuerungsoptionen wie In-situ, schnelle thermische Verarbeitung und Selbstgrenzenätzen. Die Flexibilität der Maschine ermöglicht es Anwendern, ihren Produktionsprozess und ihre Einstellungen auf optimale Leistung und Qualität abzustimmen. Durch die Optimierung der Sollwerte und Parameter kann das Werkzeug verschiedene Produktionsanforderungen und Anwendungen von der Klein- bis zur Großserienfertigung erfüllen.
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