Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9236582 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA ist ein CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der in der Lage ist, eine breite Palette von Verarbeitungslösungen für die Abscheidung dünner Filme zu liefern. Der CVD-Reaktor nutzt chemische Quellen, erhitzte Oberflächen und andere Energieformen, wie Plasma, um dünne Schichten aus polykristallinen, amorphen und teilweise direkt gebundenen Legierungen oder anderen Verbindungen auf verschiedenen Substraten abzuscheiden. AMAT CENTURA wird hauptsächlich bei der Herstellung von Halbleiterchips eingesetzt und ist in der Lage, Schichtdicken von wenigen Angströmen bis zu mehreren Mikrometern mit einer maximalen Abscheiderate von 2 Mikrometern/Stunde abzuscheiden. Die Kammer des CVD-Reaktors bietet eine Vakuumumgebung, die ein zuverlässiges Wachstum komplexer Dünnschichtstrukturen und die Abscheidung fortschrittlicher Materialien ermöglicht. ANGEWANDTE MATERIALIEN CENTURA verwendet mehrere Gaseinführungssysteme, einschließlich separater Evakuierungs- und Einführungsmodule, um die genaue Steuerung von Verarbeitung und Substrattemperatur zu ermöglichen. Der CVD-Reaktor verfügt zudem über eine fortschrittliche optische Ausrüstung zur genauen In-situ-Beobachtung und Messung der Abscheideprozesse. Das System umfasst auch eine Reihe von Sicherheitssensoren, eine fortschrittliche Abschreckeinheit, eine Oxidverkapselungsmaschine und ein automatisiertes Wartungswerkzeug, die alle einen sicheren und effizienten Betrieb gewährleisten. CENTURA CVD Reaktor ist sowohl für kommerzielle als auch für Forschungsanwendungen konzipiert. Die Kammer des Reaktors ist aus korrosionsbeständigem Edelstahl aufgebaut und von stark isolierten Wänden umgeben, die Wärmeübertragung von der Kammer weg verhindern, was zu einem hocheffizienten Prozess führt. Das Innere der Kammer wird durch spezielle Beleuchtungsquellen beleuchtet, die eine Umgebung bieten, die für eine Vielzahl von CVD-Abscheidungsprozessen geeignet ist. AMAT/APPLIED MATERIALS Die fortschrittliche Prozesskontrolle des CENTURA CVD Reaktors sorgt für genaue und wiederholbare Abscheidungsergebnisse sowie eine effiziente Nutzung der Gasquellen. Das integrierte computerbasierte automatisierte Prozesssteuerungsmodell liefert zudem detaillierte Daten zur Prozessumgebung und ermöglicht es Anwendern, den Abscheidungsprozess einfach zu optimieren. Schließlich ist der CVD-Reaktor mit einer automatisierten Reinigungsanlage ausgestattet, die Ausfallzeiten reduziert und langfristige Zuverlässigkeit gewährleistet. Darüber hinaus ermöglicht der modulare Aufbau des Systems eine einfache Wartung und Aufrüstung in der Zukunft. Daher ist der AMAT CENTURA CVD Reaktor eine ideale Wahl sowohl für kommerzielle Anwendungen als auch für Forschungsanforderungen.