Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9237390 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA
ID: 9237390
PVD System With (2) GAMMA 2 TiN (ESC) chambers.
AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA ist ein niedriger Temperaturpolysilikonabsetzungsreaktor, der Polysilikonfilme erzeugt. AMAT CENTURA Polysiliziumreaktor (AMAT) wird bei der Herstellung vieler mikroelektronischer Bauelemente eingesetzt. Der Polysiliziumreaktor CENTURA arbeitet typischerweise bei Temperaturen zwischen 500 und 600 ° C zur Herstellung von Filmen mit einer Reinheit von 99,999%. Der CENTURA Polysiliziumreaktor besteht aus einem mehrstufigen Quarzrohr, das als „Stapel“ bezeichnet wird. Der Stapel enthält mehrere Schichten Quarz, Quarzbleche und eine Reaktionskammer. Die oberen und unteren Quarzrohre bilden die Wände der Reaktionskammer, während die zwischenliegenden Quarzbleche thermisch isolierte Metallkomponenten sind, die als Barrieren zur Verteilung der Wärmeenergie wirken. Die Reaktionskammer wird durch eine Hochtemperatur-Induktionsheizung und heiße Wasserstoffzuleitung aus dem Einsatzmaterial erwärmt. Der Polysiliziumreaktor CENTURA ist darauf ausgelegt, Filme mit hoher Reinheit, einheitlicher kristalliner Struktur und hoher Kontrolle der Folieneigenschaften herzustellen. Es ist auch in der Lage, die Abscheiderate und Eigenschaften der Folien zur Optimierung der gewünschten Ergebnisse feinabzustimmen. Im Betrieb wird Siliziumpulver in die Reaktionskammer eingebracht, das einer Kombination aus hoher Temperatur und Druck ausgesetzt ist. Das mit Siliziumpulver vermischte heiße Wasserstoffgas verdampft zu einzelnen Siliziumpartikeln, die bei Kontakt mit den heißen Wänden und Quarzblenden reagieren und sich auf dem Substrat abscheiden, um Filme zu erzeugen. Anschließend werden die Folien nachbearbeitet, gekühlt und zur Nachbearbeitung in Wafer geschnitten oder zum Versand verpackt. Die Abscheidegeschwindigkeit des AMAT CENTURA Reaktors kann so gesteuert werden, dass dünne Filme mit guten Oberflächeneigenschaften erreicht werden können. Die Verwendung eines fortschrittlichen Gasfördersystems verkürzt die Produktionszeit für einen einzelnen Wafer-Zyklus und bietet eine verbesserte Prozesssteuerung. Die Fähigkeit des CENTURA-Systems, dünne Filme mit extrem gleichmäßiger Größe und Form herzustellen, macht es zu einer idealen Wahl für Hersteller von Dünnschichtkomponenten wie MEMs, integrierten Schaltungen und Photovoltaikzellen. Seine Fähigkeit, die Abscheiderate, Gleichmäßigkeit und Filmeigenschaften genau zu kontrollieren, macht es zu einem leistungsstarken Werkzeug im Mikroelektronik-Herstellungsprozess.
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