Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9250769 zu verkaufen
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ID: 9250769
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2009
Oxide etcher, 12"
(3) Enabler chambers
RF Generator rack
AC Rack
Missing parts:
GHW50A
(3) B5002
EFEM
Buffer chamber
RF Generators
Robot
2009 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Enabler ist ein CVD-Reaktor für eine Reihe von Halbleiterprozessen. Es ermöglicht das Wachstum von Dünnschichten und Sperrschichten aus CVD-Vorläufern, um komplexe und feine Strukturen auf einer Vielzahl von Werkstücksubstraten zu bilden. AMAT Centura Enabler verfügt über eine fortschrittliche Prozesskammer mit einem Wafer, die eine schnelle Temperaturrampe problemlos aufnehmen kann. Diese Kammer ermöglicht eine Gleichmäßigkeit von 0,3 ° C über den gesamten Wafer, was eine verbesserte Leistung und verbesserte Prozesssicherheit ermöglicht. Der Enabler ist mit einem Flex Temperature Control Design ausgestattet - ein patentiertes Feature, das eine sauerstofffreie Umgebung schafft, die Kontamination reduziert und die Lebensdauer des Wafers verlängert. Diese Technologie ermöglicht eine präzise Temperaturregelung ohne Kompromisse bei der prozesskritischen Dimensionsgenauigkeit (CD). Mit APPLIED MATERIALS Centura Enabler wird die thermische Bearbeitungsfähigkeit des Werkstücks gesteigert, da es die präzise Abgabe von Gasen für eine Vielzahl von Prozessen ermöglicht und gleichzeitig eine beispiellose Kontrolle der Substrattemperatur ermöglicht. Der Reaktor ist auch mit einem Duplex-Gaspanel und einem Hochgeschwindigkeitsgasventil mit mehreren Quellen ausgestattet, die beide vollständig anpassbar sind, um den Anforderungen der Fertigungsumgebung am besten gerecht zu werden. Centura Enabler verfügt über einen erweiterten PID-Regelkreis zur Steuerung der Ofentemperatur und des Ofendrucks. Dieser Regelkreis ist einstellbar, um die Leistung sowohl bei hohen als auch bei niedrigen Temperaturen zu optimieren und gewährleistet eine genaue Temperaturregelung während der Abscheidung von Materialien. Der Reaktor verfügt zudem über eine Niederdruckplasmaquelle und eine Plasmafremsteuerung. Dies ermöglicht eine genaue Plasmakontrolle und ermöglicht den Einsatz unterschiedlichster Prozesschemien. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Enabler ist mit hoher Produktivität konzipiert und mit einem schnellen thermischen Zyklussystem ausgestattet. Dies ermöglicht eine schnelle Erwärmung und Abkühlung, so dass die Anwender den Produktionsdurchsatz erhöhen können. Der Reaktor verfügt außerdem über eine parallele Prozesskammertechnik zur Unterstützung mehrerer Prozesse. AMAT Centura Enabler ist ideal für Prototypen und Produktionsanlagen, die Ertrag und Zuverlässigkeit steigern möchten. Mit seinen umfassenden und flexiblen Eigenschaften ist es ein unschätzbares Werkzeug für die moderne Halbleiterindustrie.
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