Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9251311 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA ist ein hochgradiger chemischer und physikalischer Aufdampfreaktor (CVD/PVD), der eine tragende Säule in vielen Halbleiterherstellungsanlagen darstellt. AMAT CENTURA ist dazu fähig, schnelllaufend und Hopräzisionsdünnfilmabsetzungsprozesse für eine Vielfalt von Substratgrößen zu leisten. Das Gerät ist mit einer fortschrittlichen, automatisierten Steuerungstechnologie ausgestattet, die eine präzise Ätz- und Abscheidungssteuerung sowie eine Niedertemperatur-Dünnschichtabscheidung mit hoher Gleichmäßigkeit ermöglicht. Darüber hinaus verfügt der Reaktor über eine integrierte, direkt gekoppelte Pumpe und eine robuste Wärmesteuerungstechnik für optimale Leistung. Angewandte Materialien CENTURA ist für den Einsatz in Halbleiterherstellungsprozessen auf Siliziumbasis konzipiert. Es wird hauptsächlich bei der Herstellung von Dünnschichttransistoren (TFTs) und integrierten Schaltungen (ICs) verwendet, die häufig in einer Vielzahl von elektronischen Produkten wie Computern und Mobiltelefonen verwendet werden. CENTURA wird auch zur Herstellung von Halbleiterfotodetektoren und Anzeigetechnologien wie OLEDs, AMOLEDs und anderen Flachbildschirmtechnologien verwendet. Der Reaktor nutzt eine präzise Substrathandhabungstechnologie, die aus einem Roboter- und Indexiersystem besteht, das eine präzise, automatisierte Handhabung von Substraten im Bereich von 0,5 bis 12 Zoll ermöglicht. Die präzise Handhabung durch AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA ermöglicht eine präzise Ätz- und Dünnschichtabscheidung ohne Beschädigung des Substrats. Darüber hinaus nutzt das Gerät ein fortschrittliches Diagnosepaket, mit dem Prozesse in Echtzeit überwacht und bei Bedarf automatisch angepasst werden können. Die Maschine ist außerdem mit einer Reihe fortschrittlicher Steuerungssoftware ausgestattet, die eine präzise Abscheidung und Ätzsteuerung für eine Vielzahl von Anwendungen ermöglicht. Dies ermöglicht eine genaue Kontrolle des Abscheideprozesses sowie exakte Ätz- und Abscheideraten zur Gewährleistung der Prozessstabilität. Die Software ermöglicht auch genaue und wiederholbare Schichtprofile, die eine präzise Dünnschichtabscheidung und Ätzergebnisse gewährleisten. AMAT CENTURA ist das fortschrittlichste und zuverlässigste chemische und physikalische Dampfabscheidungswerkzeug (CVD/PVD). Es ist zu schnelllaufenden und Hopräzisionsdünnfilmabsetzungsprozessen für eine Vielfalt von Substratgrößen fähig, die es den bevorzugten Vermögenswert in vielen Halbleiterherstellungsmöglichkeiten um die Welt machen. Die präzise Handhabung des Modells und die fortschrittliche Steuerungstechnik machen es zu einem der zuverlässigsten und genauesten Systeme auf dem Markt.