Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9358629 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA
ID: 9358629
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2014
System, 12" 2014 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA ist ein fortschrittlicher CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der für die Verarbeitung einer Vielzahl von Materialien und Wafern entwickelt wurde. Es verfügt über ein fortschrittliches Gerätedesign, das es ermöglicht, bei großen Durchsätzen mit genauer Kontrolle über die Prozessbedingungen zu verarbeiten. Sein fortschrittliches Steuerungssystem sorgt dafür, dass Wafer bei der richtigen Temperatur und dem richtigen Druck verarbeitet werden und dass die Abscheidung über den Wafer gleichmäßig und konsistent ist. Es hat auch eine selbstregulierende Gasfördereinheit, die einen stetigen Strom von hochreinen Gasen bereitstellt. Die Kammer von AMAT CENTURA wurde speziell entwickelt, um die Prävalenz von Freiformablagerungen zu reduzieren und ist darauf ausgelegt, jegliche Nebenprodukte oder Verunreinigungen fernzuhalten, was zu einer besseren Prozesssicherheit und Wiederholbarkeit führt. Es verfügt auch über ein leistungsstarkes Dual-Mode-Netzteil, in dem HF- und DC-Leistung verwendet werden können, um die Abscheiderate unabhängig zu steuern. Eine fortgeschrittene Plasmaquelle wird auch verwendet, um die Geschwindigkeit und Gleichmäßigkeit des Abscheidungsprozesses zu verbessern. ANGEWANDTE MATERIALIEN CENTURA verfügt auch über eine vollautomatische Reinigungs- und Reinigungsmaschine, die die Möglichkeit einer Kontamination verringern und Probleme minimieren soll, die während des Prozesses auftreten können. Es hat auch ein High-End-Source-Boot und Kassettengehäuse, die Top-of-the-line-Präzision und Steuerung. Ein Vakuumflanschwerkzeug sorgt auch dafür, dass die Be-/Entladung mit minimalem Aufwand und Durcheinander erfolgt. Eine Reihe von eingebauten Sicherheitsvorrichtungen und Alarmen verbessern seine Sicherheitsfunktionen. CENTURA ist in der Lage, eine Vielzahl von Materialien mit hohem Durchsatz mit Genauigkeit und Konsistenz zu verarbeiten. Die fortschrittliche Steuerung und das ausgeklügelte Kammerdesign ermöglichen eine präzise und zuverlässige Prozesssteuerung. Die automatisierten Reinigungsfunktionen und die ausgeklügelten Sicherheitsmerkmale machen es zu einer sicheren, zuverlässigen und effizienten Waferbearbeitungsplattform.
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