Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9386335 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA
ID: 9386335
Wafergröße: 12"
Etcher, 12" (2) Minos Carina Axiom.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA Reactor ist eine Kombination aus fortschrittlichen Abscheidungsausrüstungen und Materialmanagementfunktionen, die einzigartige CVD-Prozess- und Ausstattungslösungen für die Herstellung von Halbleiterscheiben bieten. AMAT CENTURA ist ein modulares, vielseitiges System und in der Lage, bis zu 92 Prozent der vollen Fertigungsrate von Wafern zu erreichen. ANGEWANDTE MATERIALIEN Der CENTURA-Reaktor besteht aus zwei Hauptkomponenten: der Kathode und einer Anode. Die Kathode ist die Hauptquelle der CVD-Abscheidung und besteht aus einem Gaseinlaß, einer Reaktionskammer und einer Gasabgasöffnung. Die Anode dient als Elektronenquelle, während die Reaktionskammer dazu dient, aus einem Reaktantgas ein Plasma zu erzeugen, das dann auf die Waferoberfläche getrieben wird. Der Gaseinlass steuert die Strömung der Reaktantgase und ermöglicht eine präzise Steuerung des CVD-Prozesses. CENTURA Reactor verfügt über eine breite Palette von Funktionen, die die Herstellung einer Vielzahl von Chip-Level-Geräten wie Verbindungen, Diffusionsbereiche, Speicherlegierungsmerkmale und andere Funktionen ermöglichen. Es hat auch die Fähigkeit, dünne Filme aus Materialien wie Aluminium und Nickel abzuscheiden. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA Reaktor kann auch Wafer-Nachbearbeitung durchführen, wie chemisch-mechanisches Polieren, Diffusionsreinigung und Strukturierung. Mit der Single Wafer Handling Unit von AMAT CENTURA Reactor können alle Schritte des CVD-Prozesses in einem Durchgang bei hohen Geschwindigkeiten durchgeführt werden, was die Produktionseffizienz und Produktivität erhöht. Die Software SPC (Statistical Process Control) ermöglicht eine präzise Steuerung des CVD-Prozesses, wodurch reproduzierbare Ergebnisse und hervorragende Erträge gewährleistet werden. ANGEWANDTE MATERIALIEN CENTURA Reactor ist für den Betrieb in einer vollautomatischen Vakuummaschine konzipiert, die Zuverlässigkeit, Wiederholbarkeit und Reproduktion des Prozesses gewährleistet. Das Tool ermöglicht den effizienten Austausch von Rezepten und Prozessinformationen zwischen Wafern und mehreren Produktionsstandorten, was die Effizienz und den Durchsatz erhöht. CENTURA Reactor hat auch die Fähigkeit, in einer Hybrid-Reaktor-Umgebung zu arbeiten, so dass es mit anderen Reaktoren in der gleichen Ressource verwendet werden kann. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA Reactor ist ein leistungsstarkes und vielseitiges Modell, das eine vollständige Kontrolle über den CVD-Prozess bietet und es ermöglicht, eine Vielzahl komplexer Geräte zu produzieren. Es ist ein unverzichtbares Werkzeug für Halbleiterbauelementehersteller, da es ausgezeichnete Erträge, hohe Produktionsgeschwindigkeiten und niedrige Betriebskosten bietet. Das Gerät eignet sich gut für die Herstellung von großvolumigen Wafern und ist eine ideale Lösung für Chip-Level-Geräte.
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