Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9409984 zu verkaufen

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ID: 9409984
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1998
Etcher, 6" Chiller RF Generator rack Controller rack (3) PC Racks 1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA Reaktor ist eine umfassende Lösung für eine breite Palette komplexer Ätz- und Abscheidungsprozesse, die in der Halbleiterschaltungsindustrie eingesetzt werden. Der Reaktor zeichnet sich durch seine hohe Dosisrate, die präzise Steuerung verschiedener Prozessparameter sowie die Verwendung von Spezialgasen oder Kombinationen von Gasen zur Abscheidung, Ätzung und Reinigung aus. Der Reaktor hat eine geschlossene Kammer, mit einer Konstruktion, die Gleichmäßigkeit und präzises Ätzen maximiert. Es verwendet eine Vielzahl von Gasen, wie Sauerstoff, Stickstoff und Argon, um die Temperatur, den Druck, die Dicke und die Oberflächenqualität des Ätzbereichs zu steuern. Prozessgase können direkt aus dem Reaktor gelagert und verteilt werden, mit Systemen mit bis zu 10 integrierten Gasleitungen. Der Argon-Sauerstoff-Mix ist beispielsweise in der Lage, Wolfram und Aluminiumfolien zu ätzen. Die geschlossene Kammerausführung reduziert auch die Partikelabscheidung und Verschmutzung erheblich. Dies ist ein großer Vorteil gegenüber anderen Ausführungen, da sich die auftretende Verunreinigung nachteilig auf die Produktgleichmäßigkeit und -ausbeute auswirkt. Die Human Machine Interface (HMI) verfügt über einen großen Touchscreen, der die Prozessinteraktion vereinfacht und ein Maß an Kontrolle und Genauigkeit verleiht, das auf weniger fortschrittlichen Ätzsystemen nicht verfügbar ist. Der AMAT CENTURA Reaktor verfügt neben seiner ausgeklügelten Steuerung auch über eine Kombination aus Sensoren, Zyklen und Reglern. Dadurch können unterschiedliche Kombinationen von Gasen zum Ätzen oder Abscheiden und zur genauen Steuerung von Prozessgrößen verwendet werden. Das ausgeklügelte Materialanalysesystem (MAS) ermöglicht eine schnelle und zuverlässige Diagnose. Dies erfolgt in Echtzeit, d.h. es können sofort Charakterisierungen vorgenommen und der Prozess entsprechend eingestellt werden. Das MAS verfügt auch über integrierte Wafer-Zuordnungsfunktionen und kann nicht nur die Breite eines KE, sondern auch seinen Seitenwandwinkel messen. Abschließend bietet der Reaktor APPLIED MATERIALS CENTURA ein leistungsfähiges, vielseitiges und hochgenaues System zum Ätzen von Bauteilen in der Halbleiterindustrie. Die Empfindlichkeit des Systems ermöglicht eine präzise Steuerung der verschiedenen Parameter, wodurch ein gleichbleibend hochwertiges Produkt gewährleistet wird. Der Reaktor verfügt zudem über ein innovatives und ausgefeiltes HMI, das sowohl die Anwendung als auch die Charakterisierung von Produkten vereinfacht. Schließlich sorgt die Kombination aus Sensoren, Cyclern und Controllern für einen intuitiven und konsistenten Prozess, der zu einer gleichbleibenden Ertrags- und Produktqualität beiträgt.
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