Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9412368 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA ist ein fortschrittliches System zur Herstellung von Halbleitern und zur Abscheidung von Dünnschichten. Es besteht aus einem integrierten Reaktor und integriertem Prozessregler, der eine präzise Steuerung von Temperaturen, Drücken, Abscheideraten und anderen verwandten Parametern ermöglicht. AMAT CENTURA kann zur Herstellung von kleinen Molekülen, großen Molekülen und dünnen Filmen verwendet werden. Der Reaktor besteht aus einem Quarzzylinder, der in einer zylindrischen Vakuumkammer eingeschlossen ist. Der Quarzzylinder enthält eine Reihe unabhängiger Burrolöcher, die auf eine einzige zentrale Kathode ausgerichtet sind. Diese Anordnung ermöglicht die Bildung eines gleichmäßigen elektrischen Feldes zwischen der zentralen Kathode und den Gratlöchern, was eine präzise Steuerung des Abscheideprozesses ermöglicht. Die Vakuumkammer ist dort, wo das Prozessgas eingeleitet wird und die Reaktion stattfindet. Die Oberseite der Kammer hat ein Fenster, durch das verschiedene optische Sondierungstechniken verwendet werden können, um den Prozess zu beobachten und zu steuern. Der Boden der Kammer weist ein elektrostatisches Spannfutter auf, mit dem Substratscheiben während der Verarbeitung gehalten werden. APPLIED MATERIALS CENTURA verfügt über einen leistungsstarken integrierten Prozessregler, der eine präzise Steuerung von Temperaturen, Drücken, HF-Leistungen und anderen verwandten Parametern ermöglicht. Zum Einrichten der Prozessparameter sowie zum Betrachten der erzeugten experimentellen Daten kann eine grafische Benutzeroberfläche verwendet werden. Zur Prozesssteuerung gehört auch ein automatisches Prozessabstimmsystem, mit dem CENTURA die Parameter automatisch anpassen kann, um die optimale Prozessleistung zu erreichen. Das Prozeßgas wird durch einen Satz von Rohrleitungen und Ventilen in die Vakuumkammer eingebracht, je nach Art des verwendeten Prozesses. Beispielsweise werden bei der Abscheidung von Siliziumoxid üblicherweise Silan und Stickstoff verwendet. Zur Regelung der in die Kammer eingeleiteten Prozessgasmenge, die von einigen Millibar bis zu mehreren hundert Millibar reichen kann, dienen Druckregler. Bei der Abscheidung werden zwei Arten von Kammersputterquellen verwendet: induktiv gekoppeltes Plasma (ICP) und Gleichstrom (DC) Magnetronsputtern. Zur Erzeugung eines elektrischen Feldes zwischen dem Zielmaterial und dem Substrat wird ein HF- oder DC-Netzteil verwendet. Dieses elektrische Feld erzeugt Ionen, die dann das Material auf die Substratoberfläche übertragen. Sobald der Prozess abgeschlossen ist, wird das Substrat dann von AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA entladen und der Prozess kehrt automatisch in den Standby-Modus zurück. AMAT CENTURA ist ein vielseitiges und hochzuverlässiges System, das weit verbreitet in der Halbleiterherstellung und Dünnschichtabscheidungsprozessen eingesetzt wird. Der integrierte Prozessregler bietet eine präzise Steuerung von Temperaturen, Drücken, Abscheideraten und anderen verwandten Parametern. Es ist weit verbreitet in der Herstellung von kleinen Molekülen, großen Molekülen und dünnen Filmen für verschiedene industrielle Anwendungen.