Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Chamber for P5000 #293634883 zu verkaufen
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ID: 293634883
AMAT-APPLIED MATERIALS P5000 Chamber ist ein Hochleistungsreaktor für den Einsatz in Halbleiterherstellungsprozessen. Mit dieser Kammer wird ein Vakuum erzeugt, das das Ätzen und Abscheiden verschiedener Materialien auf Halbleitern erleichtert. Die Kammer verfügt über einen einzigartig gestalteten Roboterarm zur Handhabung von Wafern, der eine effiziente und präzise Manipulation der Halbleitermaterialien ermöglicht. Die P5000-Kammer verfügt über eine lufttragende, dreiachsige Bewegungsplattform, die die Roboter präzise von Substrat zu Substrat bewegt. Diese Bewegungsplattform ist in der Lage, eine kontrollierte Geschwindigkeit von bis zu fünf Zoll pro Sekunde zu erreichen. Darüber hinaus verfügt die Kammer über eine automatisierte Temperaturregeleinrichtung, die eine gleichmäßige, temperaturgeregelte Umgebung für die Wafer während der Verarbeitung bereitstellt. Die Kammer ist mit einem Vakuumsystem ausgestattet, das eine dichte Abdichtung an der Grundkammer erzeugt. Dieses Gerät erzeugt ein Vakuum von bis zu 10-7 Torr. Die Kammer ist dann mit einer Gasfördermaschine ausgestattet, die es dem Benutzer ermöglicht, eine Vielzahl von Gasen wie Helium, Argon und Stickstoff zu wählen, um die gewünschte Atmosphäre für den Abscheide- oder Ätzprozess zu schaffen. Neben seinem ausgezeichneten Vakuumwerkzeug ist das P5000 auch mit einer hochmodernen Rasterelektronenmikroskopie ausgestattet. Dieses Modell verwendet einen ultrahochdefinierten Elektronenstrahl, der Funktionen bis zu 0,005 Mikrometer auflösen kann. Dieser Auflösungsgrad ermöglicht es dem Benutzer, den Abscheide- oder Ätzprozess in Echtzeit zu überwachen und erforderliche Anpassungen vorzunehmen, bevor der Prozess abgeschlossen ist. Insgesamt bietet AMAT/APPLIED MATERIALS-AMAT P5000 Chamber hervorragende Leistung und Zuverlässigkeit für das Ätzen und Abscheiden von Halbleitermaterialien. Die Kammer ist in der Lage, unter extremen Bedingungen zu arbeiten und bietet aufgrund ihrer robusten Bauweise langfristige Zuverlässigkeit. Daher ist es die ideale Wahl für die Herstellung von hochleistungsfähigen, zuverlässigen Halbleiterprodukten.
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