Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Chamber for P5000 #9213363 zu verkaufen
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ID: 9213363
AMAT P5000 Chamber ist ein Ultrahochvakuumreaktor zur Dünnschichtverarbeitung. Diese hochmoderne Kammer ist für jede Art von Atmosphäre geeignet, während Vielfalt und Flexibilität Standard sind und es dem Reaktor ermöglichen, verschiedene Substrate und Prozesse zu handhaben. Der Reaktor selbst ist aus Edelstahl, Aluminium und sauerstofffreiem Kupfer gefertigt, was eine zuverlässige Leistung und Lebensdauer gewährleistet. Mit UHV-Kammerwänden ist der Reaktor auch in der Lage, schwierige und reaktive Materialien in inerter Atmosphäre zu verarbeiten. APPLIED MATERIALS P5000 Chamber verfügt auch über spezialisierte Komponenten, wie Zweizonen-Heizelemente und ein HF-Matching-Netzwerk, um eine optimale Leistung und die gewünschten dünnen Folien zu gewährleisten. Die Kammer ist bis zu einer Temperatur von 3000 Grad Celsius betreibbar und hat einen Arbeitsdruckbereich von 1,3x10-10 mbar bis zu 1x10-6 mbar. Es kann enge Temperatur- und Druckprofile in der gesamten Kammer für Synergien zwischen den Materialien und einen optimalen Prozess zu schaffen. Darüber hinaus verfügt die Kammer über eine Hybrid-Indexraster-Scan-Fähigkeit, Substratbereiche gleichmäßig anzuzielen und eine voll programmierbare motorisierte Stufe zum Zugriff auf das gesamte Substrat. AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Chamber ist mit einer Vielzahl von Quellen und Einführungssystemen kompatibel, einschließlich E-Gun, Thermion, Ionenkanone, Elektronenstrahl und Ionenquelle. Die fortschrittliche Diagnose, das robuste Pumpsystem und die flexiblen Konfigurationen machen es zu einer idealen Wahl für jede Dünnschichtherstellung. Die Kammer ist einfach zu installieren und zu warten, mit benutzerfreundlichen Kontrollen und Diagnosen, die Prozesse und Aufgaben vereinfachen. AMAT P5000 Chamber ist mit seinen vielen fortschrittlichen Eigenschaften ein zuverlässiger und vielseitiger Reaktor für die Dünnschichtverarbeitung. Es bietet eine optimale Prozessatmosphäre, enge Temperatur- und Druckprofile und eine gleichmäßige Substratabdeckung in einer Vielzahl von Prozessen. Dadurch kann dieser Reaktor zu hochwertigen Dünnschichtkomponenten und konsistenten Produkten beitragen.
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