Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Chamber for P5000 #9255084 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 AMAT/APPLIED MATERIALS Chamber for P5000 ist ein hocheffizienter Multimodus-Vakuumreaktor, der für viele Prozesse in der Halbleiterindustrie eingesetzt wird. Es wird zum Ätzen, Abscheiden und Glühen von Wafern verwendet. Es ist mit einer fortschrittlichen Vakuumausrüstung, fortschrittlichen Strom- und Gasversorgungssystemen und einem integrierten Controller ausgestattet. Die P5000 Kammer ermöglicht eine effiziente und präzise Steuerung der Reaktionsbedingungen, einschließlich Druck, Temperatur und Gaszusammensetzung. Das P5000 System verfügt über eine abgedichtete Hochtemperatur-Vakuumkammer. Diese Kammer hat eine Doppeltürkonstruktion, um eine effiziente Isolierung gegen Wärme- und Prozessgase zu gewährleisten. Die Kammerwände bestehen aus Quarz, der den hohen Temperaturen und der Intensität des Verfahrens standhalten kann. Die Kammer hat ein Innenvolumen von 5,9 Litern und kann gegen einen Basisdruck von 10−6Torr abgedichtet werden. Die P5000-Kammer nutzt fortschrittliche Prozesspumpen, Massenstromregler und Gasverteilerventile, um Gasströme und -drücke exakt zu regeln. Die Massendurchflussregler sorgen für eine genaue Steuerung der Gasdurchflussraten und in der Leitungsmischung mehrerer Gase. Die P5000 Kammer ist mit einer fortschrittlichen Stromversorgungseinheit ausgestattet. Es enthält eine planare HF-Quelle mit einem breiten Frequenzbereich von 50 Hz-1 MHz und eine heiße Filamentquelle mit einem Frequenzbereich von bis zu 4 MHz. Die Leistungsabgabemaschine ermöglicht eine präzise Regelung von Leistungsstufen und Gleichmäßigkeit des Plasmas und ermöglicht so gleichmäßige reaktive Ionenätzprozesse. Das P5000 Werkzeug verfügt auch über einen hochauflösenden Temperaturregler mit der Fähigkeit, die Temperatur bis zu 1000 ° C zu rampen. Die integrierte Steuerung der P5000 Anlage ermöglicht einen einfachen und effizienten Betrieb des Reaktors. Seine Touchscreen-Schnittstelle macht es einfach, auf Aufgaben zuzugreifen, und seine erweiterten Programmieroptionen ermöglichen eine optimale Prozesssteuerung. Das P5000 ist auch mit unterschiedlichen Sicherheitsmerkmalen wie Druckkontrolle, Stallerkennung und Wärmeschutz ausgestattet. AMAT/APPLIED MATERIALS/AMAT P5000 Chamber ist eine vielseitige und zuverlässige Lösung für viele Prozesse in der Halbleiterindustrie. Die fortschrittlichen Vakuum-, Strom- und Gaszufuhrsysteme, die integrierte Steuerung und Sicherheitsfunktionen sorgen für eine effiziente und präzise Prozesssteuerung. Die P5000 ist in der Lage, Ätz-, Abscheide-, Glüh- und andere Prozesse auf einer Vielzahl von Wafern durchzuführen.