Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Chamber for P5000 #9377276 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS Chamber for P5000
ID: 9377276
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1995
8" 1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Chamber ist eine Arbeitszelle für Prozessgeräte, die speziell für die Durchführung einer Vielzahl von Mikroherstellungsprozessen entwickelt wurde. Es ist eine robuste, hochpräzise Ausrüstung, die für den Einsatz in großen potenziellen Anwendungen wie Nanolithographie, Nanomaterialwachstum und Geräteprototyping entwickelt wurde. Die Konstruktions- und Konstruktionsmerkmale machen sie zu einer idealen Kammer sowohl für komplexe, langlebige Prozesse als auch für Prozesse mit hohem Durchsatz. AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Chamber ist eine vertikale Kammer, die mit einer Kryopumpe und einer mechanischen Verstärkerpumpe ausgestattet ist. Es verfügt über eine patentierte, zweiringige, unidirektionale ICP-Quelle und einen Vakuum-Betriebsdruckbereich von rau bis ultrahoch. Zwei Ionenbeschuss-Häfen und zwei Faraday-Schilde sind auf dem oberen und unteren Teil der Kammer positioniert. Die Kammer hat einen abnehmbaren Deckel für einfachen Zugang zum Wafer-Laden und die Grundplatte kann von oben oder von unten geöffnet werden. Die gesamte Kammer kann mit einer vertikalen Schiebetür verschlossen werden, die die Kammer und ihre äußere Umgebung abdichtet. Die Kammer ist hochgradig konfigurierbar und bietet verschiedene Möglichkeiten zum Be- und Entladen von Proben, einschließlich manueller, automatisierter Kassetten-zu-Kassetten-Austausch und in-situ Substratwechselsysteme. Es kann eine Vielzahl von Gassystemen wie Multi-Element-Ionen- oder Massenstromregler oder ein Eingasspeicher unterstützen. Darüber hinaus verfügt die P5000-Kammer über eine integrierte In-Vakuum-Unit-Steuerung (ISC) mit einer „intelligenten“ Heizmaschine, die die Integration von Laserablation, schnellem thermischem Glühen und anderer Hochtemperaturverarbeitung ermöglicht. Die P5000-Kammer ist für die Verwendung mit einer Vielzahl von Verfahren wie physikalische Dampfabscheidung, Sputtern, CVD, Verdampfung, Ätzen, Abscheidung, Nanolithographie, Partikelimplantation und mehr konzipiert. Die Eigenschaften der Kammer sowie ihre Konstruktion und Konstruktion bieten eine Umgebung, die sich ideal für volumenstarke Prozesse eignet. Es bietet auch eine verlängerte Lebensdauer, Zuverlässigkeit, geringe Wartungskosten und ein hydrostatisches Lagerwerkzeug von hoher Gesamtqualität. AMAT APPLIED MATERIALS P5000 Chamber ist eine fortschrittliche Hochleistungskammer, die für den Einsatz in einer Vielzahl von Mikrofabrikationsverfahren entwickelt wurde. Es bietet außergewöhnliche Effizienz, längere Lebensdauer, eine Vielzahl von Konfigurationen und die Fähigkeit, sowohl Prozessparameter als auch Umgebungsbedingungen genau zu steuern. Als solche ist es eine ideale Wahl für Anwendungen, die hohe Präzisionsergebnisse erfordern.
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