Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Chambers for Centura DPS II #293664214 zu verkaufen
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ID: 293664214
Parts to be removed:
P/N / Description
4746896-0001-REF / Turbo pump
4715467-0001-REF / Bias match
4744307-0001-REF / Source match
4742800-0001-REF / Bias generator
4742799-0001-REF / Source generator
4744329-0001-REF / Helium controllers
4678617-0001 / Process manometer
1021020-0405 / Service manometer
Various / Chamber boards
4746946-0001-REF / Turbo pump controller
4650875-0001-REF / High voltage module
4733410-0001 / TGV
4744185-0001 / End point AMAT DPS II Spectrograph SD1024 (0190-42853)
0190-29887 / Eyed IEP flash lamp, ROHS.
AMAT Centura DPS II ist ein fortschrittlicher Hochleistungs-Einzelwaferreaktor, der Anwendern einen hohen Durchsatz und maximale Betriebszeit bietet. Es ist ideal für die Herstellung von hochwertigen Silizium-Wafern für den Einsatz in der Elektronikindustrie. Die Maschine verfügt über eine patentierte Dual Process, Single-Wafer Equipment (DPS) -Technologie, mit der sie eine Vielzahl von Prozessfunktionen auf einer Reaktorkammer ausführen kann. Es ist mit zwei Sätzen von zylindrischen Kammern ausgestattet, jede Kammer kann bis zu 24 Wafer verarbeiten. Die Kammern sind robust frei schwimmend, doppelt dicht ausgebildet, was Verschmutzungen und hohe Streumagnetfelder verhindert. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura DPS II besteht aus vier getrennten Kammern, nämlich der Lastverriegelungs-, Prozess-, Reinigungs- und Austrittskammer. Die Load Lock-Kammer ist die erste Kammer, in die ein Siliziumwafer geladen wird. Diese Kammer ist mit antimikrobieller Verschmutzungsschutztechnik ausgestattet, die ein Eindringen von Verunreinigungen in das System verhindert. Die Prozesskammer beherbergt die präzise gesteuerte HF-Heizeinheit mit einstellbaren Leistungsstufen und ist für maximale Ausbeute bei gleichmäßiger Substrattemperatur in der gesamten Kammer ausgelegt. Diese Kammer ist auch mit einer bordeigenen Prozesssteuerung ausgestattet, mit der die Prozessparameter konfiguriert und gesteuert werden können. Die Reinigungskammer wurde entwickelt, um alle verbleibenden Reaktionsgase und Partikel sicher zu entfernen und so saubere Prozessergebnisse zu gewährleisten. Die Austrittskammer ist so konzipiert, dass eine sichere Entfernung von Wafern aus der Maschine gewährleistet ist. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II ist mit fortschrittlichen Diagnose- und Überwachungsfunktionen konzipiert. Dieser Reaktor ist mit einem Process Control Computer (PCC) ausgestattet, einem Hauptsteuerrechner, der seinen Betrieb regelt. Das PCC verfügt auch über Fernüberwachungsfunktionen, die es Anwendern ermöglichen, die Leistung des Reaktors von praktisch überall auf der Welt zu überwachen. Das Tool bietet auch detaillierte Diagnose- und Alarmfunktionen, die eine optimale Performance der Anlage gewährleisten. Abschließend ist AMAT Centura DPS II ein fortschrittlicher Einzelwaferreaktor, der zur Herstellung hochwertiger Siliziumwafer für die Elektronikindustrie entwickelt wurde. Es ist mit vier separaten Kammern ausgestattet, die jeweils für einen bestimmten Zweck konzipiert sind und über erweiterte Diagnose- und Überwachungsfunktionen verfügen. Es ist mit der neuesten Prozesssteuerungstechnologie konzipiert und hat die Fähigkeit, eine Vielzahl von Prozessfunktionen an einer Reaktorkammer auszuführen.
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