Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS CVD Producer #9013333 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9013333
APPLIED MATERIALS CVD Producer Split tool with (2) twin BPSG chambers, 8"
Wafer size & type : 200mm, jmf ( no smif interface )
Chamber position : ch#a & ch#b
Manometer : 20/1000torr
Rps : mks
Electrical information : 208v, 240a, 60hz
Monitor : stand alone & through the wall
Mainframe information:
Mainframe type : shrinkage
Robot : vhp dual robot
Loadlock cassette : manual 2 cassette
Ozone generator : ax8403
Loadlock pump : ipx100
Gas delivery:
Mfc : unit 8161
Valve : fujikin 5 ra max
Filter : millipore
Transducer : mks w/o display
Regulator : veriflo
Single line drop : yes
Gas line feed : bottom feed
System cabinet exhaust : bottom
Gas pallet ( ch#a & ch#b ):
O2 20slm ufc8161
Nf3 3 slm ufc8161
Ar 5 slm ufc8161
He 20slm ufc8161
N2 20slm ufc8161
Teos 4000 lf-410a-evd
Teb 500 lf-310a-evd
Tepo 250 lf-310a-evd
2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS CVD Producer ist eine Art CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der zur Abscheidung dünner Filme auf verschiedenen Substraten verwendet wird. Als Hochdurchsatz-Abscheideausrüstung bietet AMAT CVD Producer überlegene Gleichmäßigkeit, hohe Geschwindigkeit und präzise Rezeptsteuerung sowie niedrige Betriebskosten. CVD-Hersteller ist ein Mehrkammersystem, bestehend aus einer Vakuumkammer, einer Gasfördereinheit und einer Heizquelle. Die Vakuumkammer ist als abgedichtete Umgebung ausgebildet, um die Abscheidung von dünnen Folien ohne Störung oder Einbringung von Verunreinigungen zu ermöglichen. Die Gasfördermaschine umfasst Massenstromregler und Ventile, um eine präzise Steuerung der Prozessgaszusammensetzung zu ermöglichen. Die Heizquelle besteht aus einer Bank aus Hochspannungselektroden und einem Graphit-Suszeptor, mit denen eine gleichmäßige Temperatur auf dem Substrat erzeugt wird. Der Abscheidevorgang beginnt mit der Evakuierung der Reaktorkammer. Sobald der Druck das gewünschte Niveau erreicht hat, wird das Prozessgas eingeleitet und erwärmt. Dies bewirkt eine Reaktion, die zur Abscheidung auf das Substrat führt. Die Gleichmäßigkeit und Geschwindigkeit der Reaktion kann durch Einstellung des Prozessflusses gesteuert werden. Gas und die Bewegungen des Suszeptors. Darüber hinaus verfügt CVD Producer über eine präzise Rezeptsteuerung, um die Prozessoptimierung zu ermöglichen. AMAT/APPLIED MATERIALS CVD Producer wird in einer Vielzahl von Branchen eingesetzt, einschließlich akademischer Forschung, Biotechnologie, Halbleiter- und Photovoltaik-Herstellung und Display-Produktion. Es eignet sich für eine Reihe von Materialien, einschließlich Siliciumoxynitrid und Siliciumnitrid, die für Passivierungsschichten in fortgeschrittenen Verpackungsprozessen verwendet werden, und „Black Diamond“ Nitro-basierte antireflektive Beschichtungen, die häufig in Consumer-elektronischen Geräten verwendet werden. Darüber hinaus sind weitere Anwendungen die Abscheidung von Dielektrika, wie Siliziumdioxid, Siliziumnitrid und Metallen, beispielsweise Kupfer und Wolfram. AMAT CVD Producer ist eine kostengünstige Alternative zu herkömmlichen Systemen aufgrund seiner schnellen Ablagerungsrate, präzisen Kontrolle und Hochdurchsatzfunktionen. Darüber hinaus ermöglicht sein modularer Aufbau eine einfache Einrichtung und Bedienung, und seine niedrigen Betriebskosten machen es zu einer attraktiven Wahl für diejenigen mit einem knappen Budget. Schließlich macht seine Verträglichkeit mit einer Vielzahl von Materialien es zu einem wertvollen Werkzeug für die Herstellung von hochwertigen Dünnschichtschichten.
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