Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Enabler #293600549 zu verkaufen
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ID: 293600549
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2008
Etcher, 12"
Factory interface: FI 5.3
Centura AP Mainframe
RF Rack, 12"
Bias 2 RF generator rack
TOYOTA T100L LL/MF Dry pump
SHIMADZU TMP-3403LMC Turbo pump
DAIHEN RMN-50N6 matcher
Shower head assy, TKI SIC SGD, With Alum Plug, E5
12" Facilities interface box: wFIB, eFIB
Inner/Outer independent temperature control
Independent Gas injection: 2 gases for each step
Closer cooling and heating showerhead design
Power supply:
High bias RF power capacity: 7.5 kW (max combined power)
RF Frequency: 162 MHz Source, 13.56/2 MHz Bias
2008 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Enabler Reaktor ist eine fortschrittliche CVD-Ausrüstung (Chemical Vapor Deposition), die für die Herstellung von Halbleitermaterialien entwickelt wurde. Dieser Einzel-Wafer-Reaktor bietet robuste, zuverlässige und wiederholbare Prozessleistung mit Ultra-Niederdruck-CVD-Kammer und einem patentierten Homura-Kühlsystem. Der AMAT Enabler Reaktor bietet eine hochwertige Dünnschichtabscheidung bei Temperaturen bis 850 ° C und eignet sich gut zur Herstellung von Verbindungen wie Siliciumdioxid (SiO2), Siliciumnitrid (SiNx) und Siliciumcarbid (SiCX). ANGEWANDTE MATERIALIEN Die einzigartige und patentierte Homura-Kühleinheit des Enabler-Reaktors reduziert die Prozesszykluszeiten erheblich, indem eine innovative Anordnung von Gasimpulsen verwendet wird, um Wärme aus den Wafern zu extrahieren. Dies ermöglicht eine dünnere Filmabscheidung und schnellere Wachstumsraten gegenüber herkömmlichen, nicht Homura-gekühlten Reaktoren. Enabler bietet zudem ein benutzerfreundliches Design, eine intuitive Steuerungsmaschine und eine grafische Benutzeroberfläche. AMAT/APPLIED MATERIALS Enabler Reaktor nutzt das CVD-Verfahren, um dünne Filme aus spezifischen Halbleitermaterialien präzise abzuscheiden und ermöglicht die Optimierung der Halbleitermaterialeigenschaften (wie Druck- oder Zugspannung, Porosität, Korngröße, Zusammensetzungshomogenität) mit großer Genauigkeit. Das Werkzeug gewährleistet auch die Gleichmäßigkeit der Filmabscheidung für Wafer mit unterschiedlichen Größen, Niveaus und mehreren Abscheidungsoperationen mit schneller Abkühlung und ausgezeichneter Gleichmäßigkeit. Die homogenen Gasströme, vordefinierten Prozessparameter und die fortschrittliche Mantelheizmethode sorgen für zuverlässige und wiederholbare Prozessergebnisse und eine hervorragende Gleichmäßigkeit. Darüber hinaus verfügt der AMAT Enabler Reaktor über ein modernes thermisches Management-Asset (TMS) mit variablen Kühlraten und Tieftemperaturzonen, um Schäden oder Übersättigungen von Materialien zu verhindern. Dies ist durch die Leistung des TMS des Reaktors möglich, der eine exakte Steuerung der Kühlgeschwindigkeit ermöglicht. ANGEWANDTE MATERIALIEN Enabler Reaktor ist ein robustes, zuverlässiges und wiederholbares Werkzeug zur Herstellung von Halbleitermaterialien und wird in der Industrie für seine überlegene Leistung und Wiederholbarkeit sehr angesehen. Dieser fortschrittliche Reaktor bietet dem Benutzer viel Flexibilität, der die Abscheidung an seine Bedürfnisse anpassen und profilieren kann. Die Fähigkeit, eine exakte Kontrolle des Abscheidungsprozesses zu erhalten und die Gesamtgleichmäßigkeit zu erreichen, ist einer der größten Vorteile des Enabler Reaktors und macht den Reaktor für verschiedene Halbleiteranwendungen geeignet.
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