Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Enabler #293753880 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Enabler ist ein fortschrittlicher thermischer Hochtemperaturreaktor, der für den Einsatz in der Verarbeitung einer Reihe von Materialien entwickelt wurde. Dieser Reaktor ist auch als plasmaverbesserter CVD- oder chemischer Dampfabscheidungsreaktor bekannt und wird hauptsächlich in der Halbleiterindustrie eingesetzt. Es handelt sich um eine Mehrkammereinrichtung mit einer zentralen Bearbeitungskammer, die die Plasmaerzeugungsquelle aufnimmt und von einer Reihe von Quarzwänden umgeben ist. Die Kammerwände sind isoliert, um eine gleichbleibend hohe Temperatur zu erhalten und eine homogene Wärmeverteilung in der gesamten Kammer zu gewährleisten. Das System soll die Abscheidung von dünnen Filmen oder Deckschichten auf Mikrochips oder Wafern steuern. Dies wird erreicht, indem Gase wie Sauerstoff, Stickstoff, gasdotiertes Silizium oder eine Kombination davon durch eine induktiv gekoppelte Plasmaquelle (ICP) geleitet werden. Die ICP-Quelle ist dazu ausgelegt, die erforderlichen ionisierten Partikel oder Ionen zu erzeugen, die dann auf die Substratoberfläche gerichtet sind. Dadurch entsteht eine Reaktion zwischen der Waferoberfläche und den ionisierten Partikeln, wodurch Wärme entsteht, die zur Abscheidung von Schichtfilmen auf dem Substrat führt. AMAT Enabler ist mit mehreren Sicherheitsmerkmalen konzipiert. Das Gerät wurde getestet, um die Druck- und Temperaturanforderungen der Industrie zu erfüllen und ist so konzipiert, dass es Spitzentemperaturen bis 1000 ° C bewältigen kann. Die Maschine wird auch mit einem hydraulischen Verschluss und erweiterten Druck- und Temperaturregelungsmechanismen ausgestattet, die eine präzise Steuerung und Überwachung des Abscheideprozesses ermöglichen. Das Werkzeug ist entworfen, um eine hohe Rate der Abscheidung zur Verfügung zu stellen und kann eine Reihe von Metallen und Materialien verarbeiten, einschließlich Silizium, Titan, Wolfram und andere. Dieser Reaktor wird aufgrund seiner Flexibilität und Energieeffizienz sehr geschätzt und ist eine zuverlässige Wahl für eine Reihe von Halbleiterherstellungs- und -technikanwendungen.