Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 2 #293827407 zu verkaufen
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ID: 293827407
Weinlese: 2015
Physical Vapor Deposition (PVD) system
Part number / Description
0410-10000 / System, 12"
FAM300E2 / MDP E2 Endura, 12"
0415-10014 / -
0415-10346 / Impulse AIN
0415-10046 / Dual mode degas
0415-10054 / RGA Manual valve
0395-09095 / Infopad pos A or B
0395-09026 / E78 Ionizer
0395-09073 / Upper E84 Data logging sensors and cables
0395-09071 / TIRIS with RF E99 Carrier ID
0395-00114 / Operator access switch
0395-09056 / Remote flat panel monitor on stand
0395-09007 / Effective 75 Feet with 66 Feet
0415-10080 / Umbilical’s 75 Feet Mainframe to equipment rack
TR-STND-22 / Standard training package
WT-12MO / Standard 12-month warranty
0415-10082 / FIF Generic kit
0415-10089 / Lifting aids
0415-10090 / Maintenance lift
0395-09029 / FI Align and levelling tool kit
0395-09039 / Ionizer calibration tools
0395-09055 / Outrigger levelling tools
0395-09031 / FI Service lift
0395-09123 / Load Port Service Tool (7) Salop
0395-09013 / Controller recovery tools
0395-09066 / YAT Teach tools, 12”
0415-10288 / Cons kit - Impulse
0415-10313 / Shutter disk, ESC, Ti, AL Arc spray
2015 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 2 Reaktor ist ein revolutionäres Produkt für Halbleiterherstellungsprozesse. Es bietet branchenführende Leistung und Kosteneffizienz. Diese fortschrittliche Ausrüstung liefert maximalen Durchsatz, überlegene Produktqualität und niedrige Partikelanzahl. Der Reaktor AMAT Endura 2 umfasst sowohl Einzelwafer- als auch Chargenkonfigurationen und ist damit für mehrere Märkte vielseitig einsetzbar. Das System besteht aus verschiedenen Komponenten, einschließlich der Bearbeitungskammer, der Quarzkammer und einer Lastschloßkammer. Seine flüssige Liefereinheit und in - situ Oblatencharakterisierungswerkzeuge ermöglicht Benutzern zur Geldstrafenmelodie ihre Verarbeitung für optimale Ergebnisse. ANGEWANDTE MATERIALIEN Endura 2 wird von AMAT patentierten Krypton™ Gaskontrollmaschine angetrieben. Diese innovative Vorrichtung mischt präzise Gaszusammensetzungen für optimales Waferätzen sowie dielektrische Abscheidung und Photolithographie. Das Werkzeug umfasst auch automatisierte rezeptgetriebene Prozesssteuerungstechnologien, die eine hochpräzise Temperatur- und Druckregelung für eine feinabgestellte Wafer-zu-Wafer-Prozessgleichförmigkeit ermöglichen. Darüber hinaus bietet Endura 2 eine flexible Vakuumplattform für mehrere Anwendungsbedürfnisse. Dies führt zu optimaler Betriebszeit und geringeren Betriebs- und Wartungskosten. Es kommt auch mit der OPTIMMIX™-Funktion, die hilft, Diagnostik und Analytik für die funktionale Schicht Gleichförmigkeit Verifizierung integrieren, Sicherstellung hochpräzise Betrieb während kritischer Photolithographie Schritte. Insgesamt ist der Endura 2 Reaktor ein fortschrittliches Werkzeug für die Herstellung von Halbleiterbauelementen. Es wurde entwickelt, um die Verarbeitungsleistung mit höherem Durchsatz, überlegener Produktqualität und Zykluszeitersparnis zu revolutionieren. Dank seiner fortschrittlichen Eigenschaften ist es eine gute Wahl für präzise mikroelektronische Operationen, die eine optimale Genauigkeit erfordern.
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