Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 2 #293827407 zu verkaufen

ID: 293827407
Weinlese: 2015
Physical Vapor Deposition (PVD) system Part number / Description 0410-10000 / System, 12" FAM300E2 / MDP E2 Endura, 12" 0415-10014 / - 0415-10346 / Impulse AIN 0415-10046 / Dual mode degas 0415-10054 / RGA Manual valve 0395-09095 / Infopad pos A or B 0395-09026 / E78 Ionizer 0395-09073 / Upper E84 Data logging sensors and cables 0395-09071 / TIRIS with RF E99 Carrier ID 0395-00114 / Operator access switch 0395-09056 / Remote flat panel monitor on stand 0395-09007 / Effective 75 Feet with 66 Feet 0415-10080 / Umbilical’s 75 Feet Mainframe to equipment rack TR-STND-22 / Standard training package WT-12MO / Standard 12-month warranty 0415-10082 / FIF Generic kit 0415-10089 / Lifting aids 0415-10090 / Maintenance lift 0395-09029 / FI Align and levelling tool kit 0395-09039 / Ionizer calibration tools 0395-09055 / Outrigger levelling tools 0395-09031 / FI Service lift 0395-09123 / Load Port Service Tool (7) Salop 0395-09013 / Controller recovery tools 0395-09066 / YAT Teach tools, 12” 0415-10288 / Cons kit - Impulse 0415-10313 / Shutter disk, ESC, Ti, AL Arc spray 2015 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 2 Reaktor ist ein revolutionäres Produkt für Halbleiterherstellungsprozesse. Es bietet branchenführende Leistung und Kosteneffizienz. Diese fortschrittliche Ausrüstung liefert maximalen Durchsatz, überlegene Produktqualität und niedrige Partikelanzahl. Der Reaktor AMAT Endura 2 umfasst sowohl Einzelwafer- als auch Chargenkonfigurationen und ist damit für mehrere Märkte vielseitig einsetzbar. Das System besteht aus verschiedenen Komponenten, einschließlich der Bearbeitungskammer, der Quarzkammer und einer Lastschloßkammer. Seine flüssige Liefereinheit und in - situ Oblatencharakterisierungswerkzeuge ermöglicht Benutzern zur Geldstrafenmelodie ihre Verarbeitung für optimale Ergebnisse. ANGEWANDTE MATERIALIEN Endura 2 wird von AMAT patentierten Krypton™ Gaskontrollmaschine angetrieben. Diese innovative Vorrichtung mischt präzise Gaszusammensetzungen für optimales Waferätzen sowie dielektrische Abscheidung und Photolithographie. Das Werkzeug umfasst auch automatisierte rezeptgetriebene Prozesssteuerungstechnologien, die eine hochpräzise Temperatur- und Druckregelung für eine feinabgestellte Wafer-zu-Wafer-Prozessgleichförmigkeit ermöglichen. Darüber hinaus bietet Endura 2 eine flexible Vakuumplattform für mehrere Anwendungsbedürfnisse. Dies führt zu optimaler Betriebszeit und geringeren Betriebs- und Wartungskosten. Es kommt auch mit der OPTIMMIX™-Funktion, die hilft, Diagnostik und Analytik für die funktionale Schicht Gleichförmigkeit Verifizierung integrieren, Sicherstellung hochpräzise Betrieb während kritischer Photolithographie Schritte. Insgesamt ist der Endura 2 Reaktor ein fortschrittliches Werkzeug für die Herstellung von Halbleiterbauelementen. Es wurde entwickelt, um die Verarbeitungsleistung mit höherem Durchsatz, überlegener Produktqualität und Zykluszeitersparnis zu revolutionieren. Dank seiner fortschrittlichen Eigenschaften ist es eine gute Wahl für präzise mikroelektronische Operationen, die eine optimale Genauigkeit erfordern.
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