Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 2 #293827408 zu verkaufen
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ID: 293827408
Weinlese: 2015
Physical Vapor Deposition (PVD) system
Part number / Description
0410-10000 / System, 12"
FAM300E2 / MDP E2 Endura, 12"
0415-10014 / -
0415-10346 / Impulse AIN
0415-10046 / Dual mode degas
0415-10054 / RGA Manual valve
0395-09095 / Infopad pos A or B
0395-09026 / E78 Ionizer
0395-09073 / Upper E84 Data logging sensors and cables
0395-09071 / TIRIS with RF E99 Carrier ID
0395-00114 / Operator access switch
0395-09056 / Remote flat panel monitor on stand
0395-09007 / Effective 75 Feet with 66 Feet
0415-10080 / Umbilical’s 75 Feet Mainframe to equipment rack
TR-STND-22 / Standard training package
WT-12MO / Standard 12-month warranty
0415-10082 / FIF Generic kit
0415-10089 / Lifting aids
0415-10090 / Maintenance lift
0395-09029 / FI Align and levelling tool kit
0395-09039 / Ionizer calibration tools
0395-09055 / Outrigger levelling tools
0395-09031 / FI Service lift
0395-09123 / Load Port Service Tool (7) Salop
0395-09013 / Controller recovery tools
0395-09066 / YAT Teach tools, 12”
0415-10288 / Cons kit - Impulse
0415-10313 / Shutter disk, ESC, Ti, AL Arc spray
2015 vintage.
AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA 2 ist ein Hochleistungs-, volles Feld, absetzungsbasierter Reaktor, der für das fortgeschrittene Steindruckverfahren und die Musternvoraussetzungen in der Halbleiterfertigung entworfen ist. AMAT Endura 2 kombiniert eine robuste Architektur mit fortschrittlichen Abscheidetechnologien, um ein hocheffizientes und zuverlässiges System zur Erfüllung kritischer Maßregelungsanforderungen in der Halbleiterproduktion zu bieten. ANGEWANDTE MATERIALIEN Endura 2 ist eine kurzwellige ultraviolette (SWUV) Quelle und hat eine verbesserte Quellenleistung, die eine verbesserte Prozessgenauigkeit und Wiederholbarkeit ermöglicht. Endura 2 verfügt zudem über eine fortschrittliche, isolierte Kammer- und Sensortechnologie. Dies gewährleistet eine optimale Vakuumleistung, erhöhte Substrattemperatur-Gleichmäßigkeit und einen höheren Durchsatz. Darüber hinaus kann es alle kritischen Anforderungen an die Umweltstabilität erfüllen, die für fortschrittliche Lithographie- und Musterverfahren wie Atomic Layer Deposition (ALD) und Seed Layer Deposition (SLD) erforderlich sind. AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 2 verfügt über eine fortschrittliche Temperatur- und Druckregelung sowie eine verbesserte Prozesssteuerungssoftware für eine überlegene Produktionseffizienz. Dies ermöglicht eine präzise Steuerung sowohl der Prozessparameter als auch der Abscheidungsschichten. AMAT Endura 2 ist ein modulares System, das eine einfache Erweiterbarkeit, Aktualisierbarkeit und Neukonfiguration ermöglicht. Dies ermöglicht Flexibilität bei der Herstellung verschiedener Arten von Halbleiterbauelementen und -bauelementen. ANGEWANDTE MATERIALIEN Endura 2 bietet eine zuverlässige und kostengünstige Lösung für die Serienproduktion mit höheren Erträgen in kurzer Zeit. Darüber hinaus ist es in der Lage, mit hohen Temperaturen und Drücken zu arbeiten und kann höhere als normale Durchsatzraten bereitstellen. Endura 2 verhindert zudem durch seine automatisierten Reinigungs- und Abscheideprozesse jederzeit Verschmutzungen. Dadurch ist sichergestellt, dass alle Substrate von hoher Qualität sind, mit wiederholbaren und zuverlässigen Metallmusterleistung. Insgesamt ist AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 2 ein fortschrittliches und zuverlässiges System, das die anspruchsvollen Anforderungen der Halbleiterproduktion erfüllen kann. Es ist in der Lage, kritische Abmessungen und Anforderungen an die Gleichmäßigkeit der Temperatur zu erfüllen und gleichzeitig hohe Durchsatzraten, außergewöhnliche Prozesswiederholbarkeit und erhöhte Elementausbeuten in einer kompakten Verpackung bereitzustellen.
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