Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 2 #293827408 zu verkaufen

ID: 293827408
Weinlese: 2015
Physical Vapor Deposition (PVD) system Part number / Description 0410-10000 / System, 12" FAM300E2 / MDP E2 Endura, 12" 0415-10014 / - 0415-10346 / Impulse AIN 0415-10046 / Dual mode degas 0415-10054 / RGA Manual valve 0395-09095 / Infopad pos A or B 0395-09026 / E78 Ionizer 0395-09073 / Upper E84 Data logging sensors and cables 0395-09071 / TIRIS with RF E99 Carrier ID 0395-00114 / Operator access switch 0395-09056 / Remote flat panel monitor on stand 0395-09007 / Effective 75 Feet with 66 Feet 0415-10080 / Umbilical’s 75 Feet Mainframe to equipment rack TR-STND-22 / Standard training package WT-12MO / Standard 12-month warranty 0415-10082 / FIF Generic kit 0415-10089 / Lifting aids 0415-10090 / Maintenance lift 0395-09029 / FI Align and levelling tool kit 0395-09039 / Ionizer calibration tools 0395-09055 / Outrigger levelling tools 0395-09031 / FI Service lift 0395-09123 / Load Port Service Tool (7) Salop 0395-09013 / Controller recovery tools 0395-09066 / YAT Teach tools, 12” 0415-10288 / Cons kit - Impulse 0415-10313 / Shutter disk, ESC, Ti, AL Arc spray 2015 vintage.
AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA 2 ist ein Hochleistungs-, volles Feld, absetzungsbasierter Reaktor, der für das fortgeschrittene Steindruckverfahren und die Musternvoraussetzungen in der Halbleiterfertigung entworfen ist. AMAT Endura 2 kombiniert eine robuste Architektur mit fortschrittlichen Abscheidetechnologien, um ein hocheffizientes und zuverlässiges System zur Erfüllung kritischer Maßregelungsanforderungen in der Halbleiterproduktion zu bieten. ANGEWANDTE MATERIALIEN Endura 2 ist eine kurzwellige ultraviolette (SWUV) Quelle und hat eine verbesserte Quellenleistung, die eine verbesserte Prozessgenauigkeit und Wiederholbarkeit ermöglicht. Endura 2 verfügt zudem über eine fortschrittliche, isolierte Kammer- und Sensortechnologie. Dies gewährleistet eine optimale Vakuumleistung, erhöhte Substrattemperatur-Gleichmäßigkeit und einen höheren Durchsatz. Darüber hinaus kann es alle kritischen Anforderungen an die Umweltstabilität erfüllen, die für fortschrittliche Lithographie- und Musterverfahren wie Atomic Layer Deposition (ALD) und Seed Layer Deposition (SLD) erforderlich sind. AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 2 verfügt über eine fortschrittliche Temperatur- und Druckregelung sowie eine verbesserte Prozesssteuerungssoftware für eine überlegene Produktionseffizienz. Dies ermöglicht eine präzise Steuerung sowohl der Prozessparameter als auch der Abscheidungsschichten. AMAT Endura 2 ist ein modulares System, das eine einfache Erweiterbarkeit, Aktualisierbarkeit und Neukonfiguration ermöglicht. Dies ermöglicht Flexibilität bei der Herstellung verschiedener Arten von Halbleiterbauelementen und -bauelementen. ANGEWANDTE MATERIALIEN Endura 2 bietet eine zuverlässige und kostengünstige Lösung für die Serienproduktion mit höheren Erträgen in kurzer Zeit. Darüber hinaus ist es in der Lage, mit hohen Temperaturen und Drücken zu arbeiten und kann höhere als normale Durchsatzraten bereitstellen. Endura 2 verhindert zudem durch seine automatisierten Reinigungs- und Abscheideprozesse jederzeit Verschmutzungen. Dadurch ist sichergestellt, dass alle Substrate von hoher Qualität sind, mit wiederholbaren und zuverlässigen Metallmusterleistung. Insgesamt ist AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 2 ein fortschrittliches und zuverlässiges System, das die anspruchsvollen Anforderungen der Halbleiterproduktion erfüllen kann. Es ist in der Lage, kritische Abmessungen und Anforderungen an die Gleichmäßigkeit der Temperatur zu erfüllen und gleichzeitig hohe Durchsatzraten, außergewöhnliche Prozesswiederholbarkeit und erhöhte Elementausbeuten in einer kompakten Verpackung bereitzustellen.
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