Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 2 #293827409 zu verkaufen
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ID: 293827409
Weinlese: 2016
Physical Vapor Deposition (PVD) system
Part number / Description
0410-10000 / System, 12"
FAM300E2 / MDP E2 Endura, 12"
0415-10014 / -
0415-10346 / Impulse AIN
0415-10046 / Dual mode degas
0415-10054 / RGA Manual valve
0395-09095 / Infopad pos A or B
0395-09026 / E78 Ionizer
0395-09073 / Upper E84 Data logging sensors and cables
0395-09071 / TIRIS with RF E99 Carrier ID
0395-00114 / Operator access switch
0395-09056 / Remote flat panel monitor on stand
0395-09007 / Effective 75 Feet with 66 Feet
0415-10080 / Umbilical’s 75 Feet Mainframe to equipment rack
TR-STND-22 / Standard training package
WT-12MO / Standard 12-month warranty
0415-10082 / FIF Generic kit
0415-10089 / Lifting aids
0415-10090 / Maintenance lift
0395-09029 / FI Align and levelling tool kit
0395-09039 / Ionizer calibration tools
0395-09055 / Outrigger levelling tools
0395-09031 / FI Service lift
0395-09123 / Load Port Service Tool (7) Salop
0395-09013 / Controller recovery tools
0395-09066 / YAT Teach tools, 12”
0415-10288 / Cons kit - Impulse
0415-10313 / Shutter disk, ESC, Ti, AL Arc spray
2016 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 2 Reaktor ist eine revolutionäre Ätz- und Abscheidekammer für die Halbleiterverarbeitung. Es ist einer der neuesten Durchbrüche in der AMAT SPECTOR Serie von fortschrittlichen Chemie-Produkten. AMAT Endura 2 ist die Ätz- und Ablagerungsplattform der zweiten Generation und verfügt über mehrere Innovationen, die sie von der Konkurrenz unterscheiden. ANGEWANDTE MATERIALIEN Endura 2 verfügt über eine einzigartige Doppelpumpkonfiguration, die es der Kammer ermöglicht, beispiellose Kammerdrücke und Prozessparameter zu erzielen. Es weist außerdem ein reduziertes Kammervolumen und ein geringes Kammerprofil auf, was die für eine bestimmte Wafergröße zur Verfügung stehende Gesamtfläche drastisch reduziert, was zu einer höheren Auslastung und geringeren Kosten pro Wafer führt. Der Reaktor ist mit zwei Kammern ausgestattet: der Ätzkammer und der Abscheidekammer. Die Ätzkammer verwendet eine ausgewogene reaktive Ionenätztechnologie in Echtzeit, um Funktionsprofile mit genauer Kontrolle des Seitenverhältnisses und der Topographie zu bilden. Die Abscheidekammer verwendet induktiv gekoppelte Plasmaquellen (ICP), um dünne Filme mit enger Dickengleichförmigkeit und präziser Zusammensetzungssteuerung abzuscheiden. Endura 2 verfügt auch über automatisierte Wafer-Handhabungsmechanismen, wie einen Roboterarm, der Wafer genau und effizient zwischen Kammern und einem Wafer-Mapping-Gerät übertragen kann, das einzelne Wafer identifiziert und ihre Positionen im Prozess verfolgt. Es verfügt auch über eine ausgeklügelte Software zur Überwachung und Optimierung der Parameter der Ätz- und Abscheidungsprozesse. AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 2 verfügt über ein fortschrittliches System zur Datenerfassung und -analyse. Diese erweiterte Einheit bietet Echtzeitüberwachung sowie Nachbearbeitungsanalyse von Ätz- und Abscheidungsparametern. AMAT Endura 2 Maschine ist mit hohen Sicherheitsstandards ausgelegt. Es verfügt über mehrere redundante Sicherheitsfunktionen, wie Notabschaltungen, Notentlüftungssysteme und fortschrittliche Überwachungssysteme. Diese Merkmale gewährleisten die Sicherheit von Personal und Ausrüstung. APPLIED MATERIALS Endura 2 ist eine revolutionäre Ätz- und Abscheidekammer, die neue Maßstäbe für die Halbleiterverarbeitungsindustrie setzt. Es verfügt über eine einzigartige Doppelpumpkonfiguration, ein niedriges Kammerprofil und automatisierte Wafer-Handhabungsmechanismen, so dass es eine beispiellose Prozesskontrolle und Präzision erreichen kann. Darüber hinaus bietet das fortschrittliche Datenerfassungs- und Analysetool umsetzbare Einblicke in Prozessparameter. Sicherheit und Zuverlässigkeit werden durch die fortschrittlichen Sicherheitsmerkmale weiter gewährleistet. Damit ist Endura 2 die ideale Wahl für eine kostengünstige, leistungsstarke und effiziente Halbleiterverarbeitung.
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