Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 2 #293827409 zu verkaufen
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ID: 293827409
Weinlese: 2016
Physical Vapor Deposition (PVD) system
Part number / Description
0410-10000 / System, 12"
FAM300E2 / MDP E2 Endura, 12"
0415-10014 / -
0415-10346 / Impulse AIN
0415-10046 / Dual mode degas
0415-10054 / RGA Manual valve
0395-09095 / Infopad pos A or B
0395-09026 / E78 Ionizer
0395-09073 / Upper E84 Data logging sensors and cables
0395-09071 / TIRIS with RF E99 Carrier ID
0395-00114 / Operator access switch
0395-09056 / Remote flat panel monitor on stand
0395-09007 / Effective 75 Feet with 66 Feet
0415-10080 / Umbilical’s 75 Feet Mainframe to equipment rack
TR-STND-22 / Standard training package
WT-12MO / Standard 12-month warranty
0415-10082 / FIF Generic kit
0415-10089 / Lifting aids
0415-10090 / Maintenance lift
0395-09029 / FI Align and levelling tool kit
0395-09039 / Ionizer calibration tools
0395-09055 / Outrigger levelling tools
0395-09031 / FI Service lift
0395-09123 / Load Port Service Tool (7) Salop
0395-09013 / Controller recovery tools
0395-09066 / YAT Teach tools, 12”
0415-10288 / Cons kit - Impulse
0415-10313 / Shutter disk, ESC, Ti, AL Arc spray
2016 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 2 ist ein hochentwickelter Kaltwandreaktor der Produktionsklasse, der Herstellern zuverlässige und kosteneffiziente Verarbeitungsmöglichkeiten für Halbleitermaterialien bietet. Der Reaktor verfügt über eine Temperaturregelung von bis zu 1120 ˚C und bietet eine Druck- und Temperaturregelung von bis zu 7 Torr. Dies ermöglicht es, Prozesse wie Einzelwafer-Abscheidung, Atomschichtabscheidung (ALD), chemische Dampfabscheidung (CVD) und plasmaverstärktes CVD (PECVD) durchzuführen. Der Reaktor ist für bis zu 30 "-Wafer ausgelegt und enthält eine Reihe von Funktionen, mit denen Benutzer den Reaktor an ihre gewünschten Verarbeitungsanforderungen anpassen können. Zum Beispiel verfügt AMAT Endura 2 über einen innovativen, selbstreinigenden Duschkopf, der die Kontamination der Prozesskammer minimiert und die Gleichmäßigkeit des Prozesseinsatzes gewährleistet. Es enthält auch eine thermische Steuerung und mehrere Ventile, die es Benutzern ermöglichen, den Gasfluss und die Temperatur des Systems einzustellen. Darüber hinaus enthält APPLIED MATERIALS Endura 2 eine inerte Zweiring-Abgasanlage, die hilft, die Prozessspezies aus dem Reaktor für die Evakuierung zu ziehen, sowie eine Kühlmaschine, die beim Schutz der Prozesskammer während des Betriebs hilft. In Bezug auf die Prozesssteuerung kommt der Reaktor mit einem einzigartigen intelligenten Tester, der hilft, Parameter wie Probentemperaturen, Drücke, Gasströme und Wellenformen zu messen. Dadurch wird eine zuverlässige Prozessoptimierung und Gleichmäßigkeit gewährleistet. Endura 2 verfügt zudem über eine intuitive, benutzerfreundliche grafische Benutzeroberfläche (GUI), die die Einrichtung und Steuerung des Tools vereinfacht. Darüber hinaus enthält AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 2 eine effiziente Reinigungsanlage, die eine gründliche Reinigung des Modells zwischen jedem Prozesszyklus gewährleistet. Der Reaktor bietet auch eine Reihe von Optionen für Prüfungsfunktionen wie Hot-Wall und erweiterte anwendungsspezifische Funktionen wie Peressurization, die die Prozesseffizienz maximieren. AMAT Endura 2 ist ein unglaublich fortschrittlicher und zuverlässiger Halbleiterverarbeitungsreaktor, der enorme Leistung und Kosteneffizienz für die Hersteller liefert. Es verfügt über eine zuverlässige Temperatur-, Druck- und Gasflussregelung, eine intuitive GUI-Schnittstelle und eine effiziente Reinigungsausrüstung, die alle dazu beitragen, eine effiziente und gleichmäßige Verarbeitung von Halbleitermaterialien zu gewährleisten.
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