Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #190620 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 190620
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1995
PVD Sputtering system, 8"
Chamber Type: 4 Chamber (1 Standard Body, 3 Wide Body), Pre-Clean 1 Type
Process: Al Cu, Ti, TiN
Wafer size: 8" / JMF
Configuration:
Chamber A: Pass through
Chamber B: Cool down
Chamber D: Preclean I
Chamber F: Orienter degas
Chamber 1: ALCu (clamp)
Chamber 2: TiN (101)
Chamber 3: Ti (101)
Chamber 4: Ti (clamp)
Robot:
Buffer: HP
Transfer: HP
Load Lock:
Narrow body with tilts in/out
No sliding sensor kit
Chamber A:
Type: pass through
Lid: metal
Cooling method: N/A
Chamber B:
Type: cool down
Lid: metal
Cooling method: by PCW / by gas
Chamber D:
Type: Preclean I
Process: oxide etch
RF Gen/DC power supply 1: CPS-1001
RF Gen/DC power supply 2: N/A
Leybold 361C: Turbo/Cryo pump Type
Chamber 1:
Type: standard body
Process: Al Cu, 0010-20225
RF Gen/DC power supply 1: AE MDX-L12M (Master)
RF Gen/DC power supply 2: AE MDX-L12 (Slave)
RF Gen/DC power supply 3: N/A
Turbo/Cryo pump Type: Cryo Pump, 3 phase
Gate valve type: 2-position
Pedestal type: Clamp (4F)
Process Gas:
Ar STEC 100 N2 100sccm
Ar-HTR STEC 100 N2 100sccm
Chamber 2:
Type: wide body
Process: TiN, 0010-20223 B+
RF Gen/DC power supply 1: AE MDX-L12
RF Gen/DC power supply 2: N/A
RF Gen/DC power supply 3: N/A
Turbo/Cryo pump Type: Cryo Pump, 3 phase
Gate valve: 3-position
Pedestal type: 101
Process Gas:
N2 STEC 200 N2 200sccm
Ar STEC 100 N2 100sccm
Chamber 3:
Type: wide body
Process: Ti, 0010-20223 B+
RF Gen/DC power supply 1: AE MDX-L12
RF Gen/DC power supply 2: N/A
RF Gen/DC power supply 3: N/A
Turbo/Cryo pump Type: Cryo Pump, 3 phase
Gate valve: 3-position
Pedestal type: 101
Process Gas:
N2 STEC 200 N2 200sccm
Ar STEC 100 N2 100sccm
Chamber 4:
Type: wide body
Process: Ti, 0010-20223 B+
RF Gen/DC power supply 1: AE MDX-L12
RF Gen/DC power supply 2: N/A
RF Gen/DC power supply 3: N/A
Turbo/Cryo pump Type: Cryo Pump, 3 phase
Gate valve type: 3-position
Pedestal type: clamp (4F)
Process gas:
N2 STEC 200 N2 200sccm
Ar STEC 100 N2 100sccm
Ar-HTR STEC 100 N2 100sccm
Heat exchanger: Neslab Type II
Compressor type: CTI 8500, CTI 9600
SBC type in controller: V21
Ion gauge type: nude
Main AC box: 220VAC, 3 Phase, 60Hz
System Monitor:
1st Monitor: stand alone
2nd Monitor: through the wall
3rd Monitor: -
Installed
1995 vintage.
AKT AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 Reactor ist eine fortschrittliche thermische Verarbeitungsausrüstung für effizientes und effizientes Sintern von Keramikkondensatoren. Das System verfügt über eine optimierte thermische Prozesssteuerungsfähigkeit, die eine gleichmäßige und wiederholbare Erwärmung von keramischen Materialien gewährleistet und eine bessere Temperaturregelung über einen weiten Prozessbereich ermöglicht. AKT Endura 5500 bietet darüber hinaus hohe Durchsatzraten mit umfassenden Kontaminationsschutzfunktionen für einen zuverlässigen und wiederholbaren Sinterprozess. AMAT ENDURA 5500 verfügt über eine Niederdruck- und Reaktivgasumgebung für optimales Sintern. Eine unabhängige Modulationssteuerung ermöglicht maximale Flexibilität für einzelne Prozessparameter. Mehrzonige, niederdruckbeheizte Prozesskammern sind thermisch gut isoliert und können zur schnellen Erwärmung und Kühlung der Werkstücke verwendet werden. APPLIKATIONSMATERIALIEN ENDURA 5500 ermöglicht auch Änderungen der Zykluszeiten, um spezifische Anforderungen zu erfüllen. Das Gerät ist mit fortschrittlichen Prozessüberwachungs- und Steuerungsfunktionen ausgestattet, die zur Optimierung der Maschinenleistung verwendet werden können. Dazu gehören aktive Zonensteuerung, Temperaturgleichförmigkeit, Fehlerrückgewinnung, Übertemperaturschutz, Wärmeauslaufschutz, Drucküberwachung, Zyklusabschluss und Profilüberwachung. Dies hilft Benutzern, die Genauigkeit des Sinterzyklus für bessere Qualität und wiederholbare Ergebnisse zu maximieren. Endura 5500 verfügt auch über automatische Wafer-Mapping und Tracking-Funktionen für die volle Rückverfolgbarkeit entlang des Sinterprozesses. Um höchsten Zuverlässigkeitsanforderungen gerecht zu werden, wurde das Werkzeug entwickelt, um die Prozessreinheit zur Vermeidung von Kontaminationen zu unterstützen und entspricht den Industriestandards. AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500 ist ein fortschrittlicher und zuverlässiger Reaktor, der speziell für das Keramikkondensatorsintern entwickelt wurde. Die Anlage bietet eine verbesserte Prozesssteuerung mit aktiver Zonensteuerung, Temperaturgleichmäßigkeit, Fehlerrückgewinnung, Übertemperaturschutz und Drucküberwachung für bessere wiederholbare Ergebnisse. Es verfügt auch über eine automatisierte Wafer-Zuordnung und Tracking-Funktionen für die Rückverfolgbarkeit. Das Modell wurde entwickelt, um Verschmutzungen zu verhindern und entspricht den Industriestandards, was es zu einer idealen Wahl für das Keramikkondensatorsintern macht.
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