Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #190620 zu verkaufen

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ID: 190620
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1995
PVD Sputtering system, 8" Chamber Type: 4 Chamber (1 Standard Body, 3 Wide Body), Pre-Clean 1 Type Process: Al Cu, Ti, TiN Wafer size: 8" / JMF Configuration: Chamber A: Pass through Chamber B: Cool down Chamber D: Preclean I Chamber F: Orienter degas Chamber 1: ALCu (clamp) Chamber 2: TiN (101) Chamber 3: Ti (101) Chamber 4: Ti (clamp) Robot: Buffer: HP Transfer: HP Load Lock: Narrow body with tilts in/out No sliding sensor kit Chamber A: Type: pass through Lid: metal Cooling method: N/A Chamber B: Type: cool down Lid: metal Cooling method: by PCW / by gas Chamber D: Type: Preclean I Process: oxide etch RF Gen/DC power supply 1: CPS-1001 RF Gen/DC power supply 2: N/A Leybold 361C: Turbo/Cryo pump Type Chamber 1: Type: standard body Process: Al Cu, 0010-20225 RF Gen/DC power supply 1: AE MDX-L12M (Master) RF Gen/DC power supply 2: AE MDX-L12 (Slave) RF Gen/DC power supply 3: N/A Turbo/Cryo pump Type: Cryo Pump, 3 phase Gate valve type: 2-position Pedestal type: Clamp (4F) Process Gas: Ar STEC 100 N2 100sccm Ar-HTR STEC 100 N2 100sccm Chamber 2: Type: wide body Process: TiN, 0010-20223 B+ RF Gen/DC power supply 1: AE MDX-L12 RF Gen/DC power supply 2: N/A RF Gen/DC power supply 3: N/A Turbo/Cryo pump Type: Cryo Pump, 3 phase Gate valve: 3-position Pedestal type: 101 Process Gas: N2 STEC 200 N2 200sccm Ar STEC 100 N2 100sccm Chamber 3: Type: wide body Process: Ti, 0010-20223 B+ RF Gen/DC power supply 1: AE MDX-L12 RF Gen/DC power supply 2: N/A RF Gen/DC power supply 3: N/A Turbo/Cryo pump Type: Cryo Pump, 3 phase Gate valve: 3-position Pedestal type: 101 Process Gas: N2 STEC 200 N2 200sccm Ar STEC 100 N2 100sccm Chamber 4: Type: wide body Process: Ti, 0010-20223 B+ RF Gen/DC power supply 1: AE MDX-L12 RF Gen/DC power supply 2: N/A RF Gen/DC power supply 3: N/A Turbo/Cryo pump Type: Cryo Pump, 3 phase Gate valve type: 3-position Pedestal type: clamp (4F) Process gas: N2 STEC 200 N2 200sccm Ar STEC 100 N2 100sccm Ar-HTR STEC 100 N2 100sccm Heat exchanger: Neslab Type II Compressor type: CTI 8500, CTI 9600 SBC type in controller: V21 Ion gauge type: nude Main AC box: 220VAC, 3 Phase, 60Hz System Monitor: 1st Monitor: stand alone 2nd Monitor: through the wall 3rd Monitor: - Installed 1995 vintage.
AKT AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 Reactor ist eine fortschrittliche thermische Verarbeitungsausrüstung für effizientes und effizientes Sintern von Keramikkondensatoren. Das System verfügt über eine optimierte thermische Prozesssteuerungsfähigkeit, die eine gleichmäßige und wiederholbare Erwärmung von keramischen Materialien gewährleistet und eine bessere Temperaturregelung über einen weiten Prozessbereich ermöglicht. AKT Endura 5500 bietet darüber hinaus hohe Durchsatzraten mit umfassenden Kontaminationsschutzfunktionen für einen zuverlässigen und wiederholbaren Sinterprozess. AMAT ENDURA 5500 verfügt über eine Niederdruck- und Reaktivgasumgebung für optimales Sintern. Eine unabhängige Modulationssteuerung ermöglicht maximale Flexibilität für einzelne Prozessparameter. Mehrzonige, niederdruckbeheizte Prozesskammern sind thermisch gut isoliert und können zur schnellen Erwärmung und Kühlung der Werkstücke verwendet werden. APPLIKATIONSMATERIALIEN ENDURA 5500 ermöglicht auch Änderungen der Zykluszeiten, um spezifische Anforderungen zu erfüllen. Das Gerät ist mit fortschrittlichen Prozessüberwachungs- und Steuerungsfunktionen ausgestattet, die zur Optimierung der Maschinenleistung verwendet werden können. Dazu gehören aktive Zonensteuerung, Temperaturgleichförmigkeit, Fehlerrückgewinnung, Übertemperaturschutz, Wärmeauslaufschutz, Drucküberwachung, Zyklusabschluss und Profilüberwachung. Dies hilft Benutzern, die Genauigkeit des Sinterzyklus für bessere Qualität und wiederholbare Ergebnisse zu maximieren. Endura 5500 verfügt auch über automatische Wafer-Mapping und Tracking-Funktionen für die volle Rückverfolgbarkeit entlang des Sinterprozesses. Um höchsten Zuverlässigkeitsanforderungen gerecht zu werden, wurde das Werkzeug entwickelt, um die Prozessreinheit zur Vermeidung von Kontaminationen zu unterstützen und entspricht den Industriestandards. AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500 ist ein fortschrittlicher und zuverlässiger Reaktor, der speziell für das Keramikkondensatorsintern entwickelt wurde. Die Anlage bietet eine verbesserte Prozesssteuerung mit aktiver Zonensteuerung, Temperaturgleichmäßigkeit, Fehlerrückgewinnung, Übertemperaturschutz und Drucküberwachung für bessere wiederholbare Ergebnisse. Es verfügt auch über eine automatisierte Wafer-Zuordnung und Tracking-Funktionen für die Rückverfolgbarkeit. Das Modell wurde entwickelt, um Verschmutzungen zu verhindern und entspricht den Industriestandards, was es zu einer idealen Wahl für das Keramikkondensatorsintern macht.
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