Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #190624 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 ist ein vielseitiger Reaktor für eine Vielzahl von Anwendungen auf dem Halbleitermarkt. Es wird in einer Vielzahl von Verfahren wie chemische Dampfabscheidung (CVD), Ätzen, Oxidation und Diffusion verwendet. AKT Endura 5500 ist eine thermische Verarbeitungsanlage mit in-situ schnellen thermischen Verarbeitungsfähigkeit und beispielloser Temperaturgleichförmigkeit. Es hat einen hohen Temperaturbereich von bis zu 1700 ° C (3100 ° F), so dass es für eine Reihe von fortschrittlichen Halbleitermaterialien geeignet ist. Der Reaktor ist mit einer dualen Plasmabetriebsfähigkeit zur verbesserten Materialabscheidungsprozesssteuerung ausgelegt. Dieser Reaktor zeichnet sich auch durch die Ionenstrahlabscheidungstechnologie zur präzisen Abscheidungsgleichförmigkeit auf dem Wafer aus. AMAT ENDURA 5500 hat eine 5.7 "Waferkapazität und ist mit zwei unabhängigen Heizzonen ausgestattet. Dies ermöglicht bessere Chancen, ein gleichmäßiges thermisches Profil über den Wafer zu erzielen. AMAT Endura 5500 ist zudem mit einem Graphitsensizeptor ausgestattet, der ein hervorragendes Wärmemanagement und eine hervorragende Gleichmäßigkeit bietet. AKT ENDURA 5500 verfügt auch über automatisierte Prozesssteuerung mit einem computergestützten System und dedizierter, einfach zu bedienender Software. Diese Einheit bietet konsistente Prozessleistung und schnellere Prozesszeit, während seine elektrostatischen Spannfutter-Waferhalter ein hohes Maß an Wafer-Ebenheit und ausgezeichnete Gleichmäßigkeit bieten. Weitere Hauptmerkmale des Endura 5500 sind eine Kassetten-zu-Kassetten-Transfermaschine und eine integrierte Wafer-Mapping-Funktion zur präzisen Wafer-Mapping. Darüber hinaus weist der Reaktor eine konforme Beschichtungskammer auf, die eine verbesserte konforme Beschichtungsqualität für Low-K-Materialien bietet. ANWENDUNGSMATERIALIEN ENDURA 5500 Reaktor hat ein branchenführendes, unübertroffenes Niveau der Temperaturregelung und Gleichmäßigkeit, die optimale Prozessleistung für eine Vielzahl von Anwendungen bietet. Es ist ideal für die Verarbeitung einer Vielzahl von Materialien, einschließlich fortschrittlicher Materialien für Halbleiterbauelemente der nächsten Generation. Sein robustes Design und seine Spitzentechnologie sowie seine Benutzerfreundlichkeit machen es zu einer bevorzugten Wahl für Halbleiteranwendungen.