Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #194704 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 194704
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1993
Sputtering system, 8"
Wafer size: 8" flat (not notch)
Process: AlCu/ TiN/Ti
Configuration:
Chamber 1: AlCu
Chamber 2: TiN
Chamber 3: Ti
Chamber 4: Ti
Chamber 5: cooling chamber
Preheat
Etch
Clamp (not electrostatic chuck)
Robot:
Buffer: AMAT HP, ceramic blade
Transfer: AMAT HP, metal blade
System monitor:
1: stand alone
2: through the wall
3: stand alone
Includes (1) each monitor rack
Load lock:
Narrow body with tilts in/out
No sliding sensor kit
Chamber A:
- Chamber type: Pass through
- Chamber Lid: Metal Lid
- Cooling method: NA
Chamber B:
- Chamber type: Cool down
- Chamber Lid: Metal lid
- Cooling method: By PCW
Chamber D:
- Chamber type: Preclean I
Chamber F:
- Chamber type: Orient/Degas
Chamber 1:
- Chamber type: Standard body
- Chamber process: AlCu, Preheat
- Process kit type/items/material: UNKNOWN
- RF Gen/DC power supply1: AE, MDX-10K SLAVE
- RF Gen/DC power supply2: A, MDX-20K MASTER
- Chamber pump: CTI CRYO 8F 2phase
- Source (Lid) type: P/N 0010-70086
- Pedestal type: A101 HEATER, Lifter : P/N 0010-20300
- Process gas: Ar, N2
Chamber 2:
- Chamber type: Wide Body
- Chamber process: TiN
- Process kit type/items/material: UNKNOWN
- RF Gen/DC power supply1: AE, MDX-10K MASTER
- RF Gen/DC power supply2: N/A
- Chamber pump: : CTI CRYO 8F 2phase
- Source(Lid) type : UNIDENTIFIED
- Pedestal type: A101 HEATER, Lifter : P/N 0010-20300
- Process gas: Ar, N2
Chamber 3:
- Chamber type: Wide Body
- Chamber process: Ti
- Process kit type/items/material: UNKNOWN
- RF Gen/DC power supply1: AE, MDX-10K MASTER
- RF Gen/DC power supply2: N/A
- Chamber pump: CTI CRYO 8F 2phase
- Source (Lid) type: UNIDENTIFIED
- Pedestal type: A101 HEATER, Lifter : P/N 0010-20300
- Process gas: Ar, N2
Chamber 4:
- Chamber type: Wide body
- Chamber process: Ti, Preheat
- Process kit type/items/material: UNKNOWN
- RF Gen/DC power supply1: AE MDX-10K MASTER
- RF Gen/DC power supply2: N/A
- Chamber pump: CTI CRYO 8F 2phase
- Source (Lid) type: UNIDENTIFIED
- Pedestal type: A101 HEATER, Lifter : P/N 0010-20300
- Process gas: Ar, N2
Includes:
- Chamber type: Wide body
- Chamber process: Ti, Preheat
- Process kit type/items/material: UNKNOWN
- RF Gen/DC power supply1: AE MDX-10K MASTER
- RF Gen/DC power supply2: N/A
- Chamber pump: CTI CRYO 8F 2phase
- Source (Lid) type: UNIDENTIFIED
- Pedestal type: A101 HEATER, Lifter : P/N 0010-20300
- Process gas
Installed
1993 vintage.
AKT/AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 Series Reactor ist ein hochmodernes Werkzeug zur fortgeschrittenen Plasmaätzung und -abscheidung. AKT Endura 5500 wurde entwickelt, um überlegene Funktionalität und Genauigkeit sowie niedrige Betriebskosten und Wartungskosten zu bieten - alles in einem kompakten, einfach zu bedienenden System. AMAT ENDURA 5500 bietet ein umfassendes Leistungsspektrum sowohl für das Ätzen als auch für die Ablagerung in Bezug auf Prozessflexibilität und Gleichmäßigkeit bei einer Vielzahl von Rezepturen. Funktionen wie die patentierte Uniformity Control Technology, das fortschrittliche Ultra High Plasma und die Ätzzeitkontrolle ermöglichen es Benutzern, ihren Prozess zu optimieren, um eine überlegene Leistung zu erzielen. ENDURA 5500 bietet darüber hinaus eine hervorragende Auswahl an Sicherheits- und Umweltmerkmalen, die es zu einer idealen Wahl für den Betrieb auf Labor- und Produktionsebene machen. Das innovative Ultra-Flow-Verfahren, die thermische Optimierung und die dynamische Druckkontrolle schützen Substrate vor hohen Temperaturen und korrosiven Materialien und sorgen für konsistente Ergebnisse. Das System verfügt über eine beeindruckende Auswahl an Werkzeugen, um seine Leistung und Genauigkeit weiter zu verbessern. Endura 5500 ist in der Lage, je nach Anwendung spezielle Prozesshardware wie lineare Elektronenstrahlemitter, Mikrowellenquellen und Ionenstrahlquellen zu verwenden. Es ist auch in der Lage, optimierte Quellmaterialien, Quellleistung und Turbulenzmanagement-Funktionen zu verwenden, um die Wiederholbarkeit und Gleichmäßigkeit der Prozesse zu maximieren. ANGEWANDTE MATERIALIEN Das Hochleistungsdesign des Endura 5500 kombiniert mit seiner Benutzerfreundlichkeit und seinem breiten Spektrum an Sicherheitsmerkmalen machen es zu einer idealen Wahl für eine Vielzahl von Plasmaätz- und Abscheidungsanwendungen. Der Reaktor ist sehr zuverlässig und energieeffizient und liefert konsistente Ergebnisse mit niedrigen Betriebskosten und Wartungskosten. Darüber hinaus kommt es mit einem umfassenden Paket von After-Sales-Support von AMAT und bietet Benutzern die Gewissheit, dass ihre Ausrüstung noch Jahre betriebsbereit bleibt.
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