Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #293752145 zu verkaufen

ID: 293752145
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2000
PVD System, 8" Signal cables: 25 M (1) NESLAB (2) Cryo compressors 9600 (2) Frequency converters (2) Gen racks Turbo Controller RF and DC generator for Ch1/2/3/4/C/D System configuration: SNNF HP Robot Ch 1: A101 TiN Ch 2: STD Al Ch 3:STD Al Ch 4: A101 TiN Ch C: PCII Ch D: PCII Chambers: LL: Widebody universal rotate CH E: Orient/Degas CH F: Orient/Degas CH A: Passthrough with clear lid CH B: Cooldown with clear lid CH C: PCII / Comdel 13.56Mhz and RFPP 400kHz CH D: PCII / Comdel 13.56Mhz and RFPP 400kHz CH 1: Widebody G12 TiN – No shutter / AE MDX-L 12M-650 CH 2: Standard Body 12.9” Al / (2) AE MDX-L 12M CH 3: Standard Body 12.9” Al / (2) AE MDX-L 12M CH 4: Wideobdy G12 TiN – AE MDX-L 12M-650 System controller SBC Board missing 2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 ist ein hochmoderner Reaktor für die fortschrittliche Halbleiterverarbeitung. Dieser Reaktor ist eine weit verbreitete Plattform für die Herstellung von fortschrittlichen Materialien durch chemische Dampfabscheidung (CVD). AKT Endura 5500 wurde entwickelt, um eine optimale Temperatur-, Druck- und Gasregelung für eine Vielzahl von Prozessanwendungen bereitzustellen. Der 5500 bietet zudem einen hohen Durchsatz und eine gleichmäßige Abscheiderate, was höhere Ausbeuten und geringere Kosten ermöglicht. Das Gerät verfügt über eine leistungsstarke 8-Wafer-Batch-Box für schnelle und konsistente Verarbeitung. AMAT ENDURA 5500 wurde mit einer robusten Hard- und Softwareplattform gebaut, die maximale Flexibilität und Wiederholbarkeit bietet. Die Hardware umfasst AMAT Endura 5500 PC-gesteuerte Prozesscomputer, Prozessleitstelle und automatisiertes Vergasungssystem. Endura 5500 bietet auch eine breite Palette von Funktionen, um eine qualitativ hochwertige Verarbeitungsleistung zu gewährleisten. Das Gerät verfügt über einen internen Quarz-Darstellungsbereich und Niedertemperaturabscheidungsfunktionen. Der interne Viewport ermöglicht es Benutzern, den Fortschritt des Prozesses in Echtzeit zu überwachen, während die Niedertemperaturabscheidung eine breite Palette von Abscheidungsmaterialien und Temperaturen ermöglicht. Die Maschine ist auch mit fortschrittlichen Sicherheitsfunktionen integriert, um einen sicheren Betrieb zu gewährleisten. ANGEWANDTE MATERIALIEN ENDURA 5500 ist entworfen, um eine Reihe von Niedertemperaturprozessen einschließlich Metall Organische chemische Dampfabscheidung (MOCVD), Niederdruck Chemische Dampfabscheidung (LPCVD), Hochdruck Chemische Dampfabscheidung (HPCVD D) Das Werkzeug bietet auch eine Vielzahl von Temperaturregelmodi einschließlich variable Temperaturabscheidung (VTD) und Konstanttemperaturzone (CTZ). Schließlich ist ENDURA 5500 eine äußerst zuverlässige und langlebige Reaktoranlage. Dieses Modell bietet eine robuste Konstruktion für vibrations- und stoßfeste Leistung, die dazu beiträgt, die Betriebszeit der Geräte zu maximieren und Prozessvariationen zu reduzieren. Darüber hinaus verfügt AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500 über eine benutzerfreundliche Oberfläche für einfache Wartung. All diese Eigenschaften machen APPLIED MATERIALS Endura 5500 zu einer idealen Lösung für fortschrittliche Anwendungen in den Bereichen Nanofabrikation, Chipherstellung und Dichteskalierung.
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