Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #293752210 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 Reaktor ist ein Halbleiterverarbeitungsgerät zur Herstellung integrierter Schaltungen. Es wurde entwickelt, um Poly-Silizium-Strukturen zu schaffen, die dann zur Herstellung von Silizium-Wafern verwendet werden können. AKT Endura 5500 Reaktor ist ein horizontaler Ofenreaktor, der aus einer äußeren Kammer besteht, in der der Siliziumwafer erwärmt werden kann, und einem inneren Hohlraum, in dem Gase für den Ätzprozess eingespritzt werden. Der Ofen wird mit einem internen und externen Heizsystem beheizt. Die internen Heizungen werden durch Wechselstrom angetrieben. Sie bestehen aus Infrarotquarzlampen und elektrisch beheizten Drähten, während die externen Heizungen eine Kochplatte verwenden. Der Reaktor AMAT ENDURA 5500 ist mit einer abgedichteten Kammer ausgestattet, die eine sauerstoffarme Umgebung bietet, um den geätzten Siliziumwafer zu schützen. Die beim Ätzvorgang eingebrachten Gasverunreinigungen werden durch eine Kombination von Filtern, Pumpen, Massenstromreglern und einem Sauerstoffüberwachungssystem entfernt. Der Hohlraum ist so ausgelegt, dass er während der Verarbeitung ein Vakuum von etwa 10-4 bar aufrechterhält, was eine enge Kontrolle des Ätzvorgangs ermöglicht. Es verhindert auch, dass Feuchtigkeit bei Ätzvorgängen austritt. Der Reaktor AKT ENDURA 5500 wurde entwickelt, um den Ätzvorgang präzise zu steuern. Es verfügt über ein ausgeklügeltes, mehrstufiges Design, das eine automatisierte Steuerung des Prozesses ermöglicht. Dies gewährleistet gleichmäßige Ergebnisse von Charge zu Charge. Es verwendet einen digitalen MAPEC-Prozessregler, um den Ätzprozess zu überwachen, so dass der Benutzer die Parameter wie Temperatur, Gasdurchflussraten, Drücke und Zeit genau steuern kann. AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500 Reaktor ist ein zuverlässiges Hochleistungs-Ätzgerät, das sich gut für die moderne Produktion integrierter Schaltungen eignet. Es wurde entwickelt, um konsistente Ergebnisse zu erzielen und hohe Waferbelastungen mit Leichtigkeit zu bewältigen. Darüber hinaus hat der Ofen einen geringen Wartungsaufwand und ist einfach in bestehende Produktionslinien zu integrieren. Seine robuste Konstruktion ermöglicht es ihm, den Strenge der industriellen Produktion zu widerstehen, was es zu einer kostengünstigen Lösung für die Halbleiterherstellung macht.