Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9004064 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9004064
Wafergröße: 8"
HP PVD system, 8"
Wafer type: notch
Buffer robot type: HP
Transfer robot type: HP
Buffer robot blade: metal
Wafer sensors: cassette
Loadlock type: Narrow body with tilt
Fab installation: TTW
Transfer robot blade: metal
Software revision E8.86
Signal tower: Red-amber-green
System umbilicals: 50 ft standard
EMO's: momentary
Loadlock slit valve O rings: Viton (black)
No heat exchangers
Hard drive: 5 Gb
Chamber 2: PVD wide body
Process 2: PVD sputter
Susceptor / pedestal: 101
Process kit type: other
Manometer config: Single
Lid type: 11.3
Wall cooling: None
Manometer 1: 100mTorr
Throttle valve: none
Heater / cathode cooling: other
Pump configuration: Cryo
Manometer 2: None
RF gen / DC supply: AE MDX-L6
Endpoint system: No
Turbo pump: No
Slit valve oring: Viton black
Heated valve stack: No
Chamber orings: Viton brown
RF match: None
Chamber lid clamps: yes
Magnet number: 0010-20328
Chamber gases:
Gas 1 50sccm Nitrogen, STEC 4400 MC mtl seal, MFC18, Standard gas stick configuration
Gas 2 140sccm Argon, STEC 4400 MC mtl seal, MFC19, Standard gas stick configuration
Gas valves: Nupro
Chamber 3: PVD wide body
Process 3: PVD sputter
Susceptor / pedestal: 101
Process kit type: other
Manometer config: Single
Lid type: 11.3
Wall cooling: other
Manometer 1: 100mTorr
Throttle valve: none
Heater / cathode cooling: other
Pump configuration: Cryo
Manometer 2: None
RF gen / DC supply: AE MDX-L6
Endpoint system: No
Turbo pump: No
Slit valve oring: Viton black
Heated valve stack: No
Chamber orings: Viton brown
RF match: None
Chamber lid clamps: yes
Magnet number: 0010-20328
Chamber gases:
Gas 1 140sccm Argon, STEC 4400 MC mtl seal, MFC2, Standard gas stick configuration
Gas 2 100sccm Nitrogen, STEC 4400 MC mtl seal, MFC3, Standard gas stick configuration
Gas valves: Nupro
Chamber 4: PVD wide body
Process 4: PVD sputter
Susceptor / pedestal: 101
Process kit type: other
Manometer config: Single
Lid type: 11.3
Wall cooling: other
Manometer 1: 100mTorr
Throttle valve: none
Heater / cathode cooling: other
Pump configuration: Cryo
Manometer 2: None
RF gen / DC supply: AE MDX-L6
Endpoint system: No
Turbo pump: No
Slit valve oring: Viton black
Heated valve stack: No
Chamber orings: Viton brown
RF match: other
Chamber lid clamps: yes
Magnet number: 0010-01198
Chamber gases:
Gas 1 140sccm Argon, STEC 4400 MC mtl seal, MFC5, Standard gas stick configuration
Gas 2 50sccm Nitrogen, STEC 4400 MC mtl seal, MFC6, Standard gas stick configuration
Gas valves: Nupro
Chamber A: Pass through
Gas valves: Nupro
Slit valve oring: Viton black
Chamber orings: Viton black
Chamber B: Cooldown
Gas valves: Nupro
Slit valve oring: Viton brown
Manometer: None
Heater / cathode cooling: PCW
Chamber pump: Edwards
Chamber orings: Viton black
No turbo pump
Chamber E: Orienter / Degas
Chamber F: Orienter / Degas
AC Rack damaged during transport
1995 vintage.
AKT/AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 ist ein wichtiges Werkzeug zur Herstellung von Halbleiterbauelementen und -systemen. Es wird hauptsächlich verwendet, um hochdauernde, leistungsschwache Teile und Geräte zu schaffen, die einer Vielzahl von Industriestandards entsprechen. AKT Endura 5500 bietet mehr Leistung und Zuverlässigkeit im Vergleich zu vielen anderen Werkzeugen auf dem Markt, so dass es eine ideale Wahl für viele Wafer Herstellungsprozesse. AMAT ENDURA 5500 ist ein Einkammer-Horizontalreaktor, der mehrere Wafergrößen verarbeiten kann. Es ist für schnelle, hochpräzise Plasmaätz- und Abscheidungsprozesse ausgelegt. Das Gerät verwendet eine Gaseinspritzdüse am Boden der Kammer, um die Ätzgeschwindigkeit und den Wirkungsgrad zu erhöhen. Der Revolver des AMAT Endura 5500 ist mit kombinierten Lastschlössern und Gaseinspritzöffnungen ausgestattet, die im Vergleich zum manuellen Betrieb eine schnellere, kostengünstige Be- und Entladung ermöglichen. Das System verfügt über einige verschiedene Betriebsarten, darunter einen „Coil-to-Wafer“ -Modus, der wiederholbare Prozesszyklen und einen verbesserten Durchsatz ermöglicht. ANGEWANDTE MATERIALIEN Endura 5500 ist mit einer hochwertigen Quarzkammer und einem Deckel für die Vakuumintegrität ausgestattet. Diese Kammer ermöglicht hochpräzise Abscheide- und Ätzprozesse mit niedrigen Partikelwerten und deckt dabei einen weiten Bereich von Drücken und Temperaturen ab. Das Gerät ist auch mit einer leistungsstarken programmierbaren Steuerung gebaut, die sowohl automatische als auch manuelle Steuermodi umfasst, um alle Teile des Wafer-Herstellungsprozesses zu handhaben. ENDURA 5500 verfügt auch über eine fortschrittliche Waferreinigungsmaschine, die den Ertrag weiter verbessert. Es verwendet eine spezielle kraftangetriebene Bürste, die sich mit hohen Geschwindigkeiten dreht und alle Partikel effizient von der Oberfläche des Wafers entfernt. Das Tool enthält auch einen Echtzeit-Partikelmonitor, der schnell reagiert, um eine sichere Waferreinigung und Einbrennprozesskontrolle zu gewährleisten. AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500 ist ein äußerst zuverlässiges Werkzeug für die präzise Herstellung der modernsten Halbleiterbauelemente. Es bietet qualitativ hochwertige Leistung in Hochdurchsatz, Single-Wafer-Prozessen, so dass es eine wirtschaftliche Wahl für Wafer-Fertigungsoperationen. Die Anlage wird mit Komponenten mit hoher Ausdauer, niedriger Leistung gebaut, die einen präzisen und genauen Betrieb für viele Jahre gewährleisten können.
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