Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9015795 zu verkaufen

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ID: 9015795
PVD System, 8" Cleanroom Interface: Endura VHP Front Panel PVD Endura Type Controller PVD Endura Type Remote Generator Rack Secondary Generator Rack: (2) 9600 System Cryo Compressors Transfer & Buffer Lid Hoist CE Mark CHAMBER A Pass-Through Chamber Quartz Viewport Lid CHAMBER B Cooldown with Temperature Monitor Quartz Viewport Lid O2 Manifold CHAMBERS C/D (2) Reactive Preclean (RPC) Chambers Preclean UHV Pump Options: Leybold TMP Preclean Smart Pump Interface Kit CHAMBER E/F (2) Orienters with Enhanced Degas TRANSFER ROBOT VHP Robot BUFFER ROBOT HP Robot SYSTEM PUMP OPTION CTI Enhance Fast Regen Low Vibration 3-Phase Cryo - One Each for Transfer & Buffer Chambers SYSTEM PUMP/INTERFACE COMBINATION System Smart Pump Interface Kit (Subject to Availability) CHAMBER 2 Refractory Widebody PVD SIP Ta(N) Chamber Power Supply Options: 24 kW Two Box, Power Supply Mini Panel PVD Wafer Chuck Options: SZBESC style e-chuck Shield Material: Stainless Steel two-piece CHAMBER 3 Widebody PVD SIP Cu Chamber PVD Power Supply Options: 40kW 2 box with Arc Out, Power Supply Mini Panel PVD Wafer Chuck Options: SLT ESC Ceramic Cover Ring Both CHAMBER 2/3 have the following options: PVD UHV Pump Options CTI Enhanced Fast Regen Low Vibration 3-phase Cryo Wafer Bias Power Supply: IMP 13.56MHz Bias Power Supply H/W 3-Position Gate Valves Standard Cryo Restrictors Chamber Conditioning Options: Mag-Coupled Shutter Configuration: Endura Electra Cu.
AKT/AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 Reaktor ist eine industrielle Ausrüstung zur präzisen Abscheidung von Funktionsfolien wie Dielektrika und metallhaltigen Folien für mehrere Gerätetypen. Je nach Anwendungsfall kann das System für eine Vielzahl von Abscheidungsverfahren wie Atomschichtabscheidung (ALD), chemische Dampfabscheidung (CVD) und physikalische Dampfabscheidung (PVD) eingesetzt werden. Der Reaktor besteht aus zwei Hauptkammern: der Hauptkammer und der Duschkopfkammer. Die Hauptkammer ist dort, wo der Abscheidungsprozess stattfindet. Es ist mit drei 300 mm kapazitiv gekoppelten Plasmaquellen, drei Gaszufuhrsystemen und sechs HF-Bias-Quellen ausgestattet. Die Gasfördereinheit kann bis zu 100 Gase bei zwei unterschiedlichen Drücken verteilen. Die HF-Vorspannungsquellen ermöglichen die Optimierung von Abscheiderate und Filmeigenschaften. Die Duschkopfkammer dient zur Vorreinigung von Wafern vor und nach dem Abscheiden. Die Kammer ist mit einem höhenverstellbaren automatisierten Roboterarm ausgestattet, mit dem der Wafer während der Vorreinigungsprozesse gehalten werden kann. Die Kammer kann mit bis zu 500 mtorr Stickstoff oder Argon beaufschlagt werden. AKT Endura 5500 Reaktormaschine ist für die Niedertemperaturabscheidung von Filmen von 25 ° C bis 650 ° C ausgelegt. Es verfügt über ein fortschrittliches Temperaturregelwerkzeug, das eine präzise Temperaturregelung auf 0,1 ° C bietet. Die Anlage ist mit drei Lastschloss-Transferkammern ausgestattet, die jeweils bis zu 60 Wafer speichern können. Es verfügt über einen Energiesparmodus, der dazu beiträgt, Energie im Leerlauf zu sparen. Das Modell ist für die Serienfertigung mit einer Wafer-Zykluszeit von 12 Minuten ausgelegt. Es weist außerdem eine Wafer-für-Wafer-Film-Dicke-Überwachung auf, die eine Echtzeit-Rückkopplung des Abscheidungsprozesses liefert. Darüber hinaus ist die AMAT ENDURA 5500 Reaktorausrüstung sicherheitshalber ausgelegt und verfügt über eine Notabschaltmöglichkeit. Es ist mit einer eingebauten Ausbruchdetektion ausgestattet, die sicherstellt, dass alle Gase und Plasma jederzeit in der Kammer verbleiben. Zusätzlich ist das System mit einer zeitgesteuerten Türeinheit ausgebildet, die es jeweils nur einem Bediener ermöglicht, die Kammer zu betreten oder zu verlassen. Insgesamt ist die AMAT/AMAT Endura 5500 Reaktormaschine ein hochpräzises Werkzeug, das hervorragende Folieneigenschaften für mehrere Gerätetypen bietet. Es ist für Niedrigtemperaturpräzisionsabsetzungsprozesse ideal und wird mit erhöhten Sicherheitseigenschaften für den maximalen Betreiberschutz ausgestattet.
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