Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9030866 zu verkaufen

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ID: 9030866
PVD system, 8" System software ver: C8.622 System Platform: Endura Wafer Shape: SNNF EMO Type: Turn to Release CE Safety Mark: English CIM Configuration: SECS SBC Version: V452 Mainframe Configuration: Buffer Robot Type: HP Buffer Robot Blade: Thin Metal XFER Robot Type: VHP XFER Robot Blade: Original Metal Lid Hoist: Yes Status Light Tower: RYG Remote Monitor: Table Mount Sub-System Configuration: (1) Chiller: Model: None Cryo Pump Type: CTI Cryo- on board 8F Cryo Pump Power: 3 Phase (2) CompressorS Compressor Type: 9600 Loadlock Configuration: Loadlock Type: Narrow body Auto Rotation: Yes Cassette Type: 8" Mapping Function: WFM Vent Type: Variable Speed Fast Vent Option: Yes LLKs NB w/Auto Tilt A Pass-thru B Cool Down E O/D (Std) F O/D (Std) C PCII w/Cryo Std D PVD TiN 101 1 PVD Tungsten (W) HT-ESC - Chamber has UV Flash for ESC E-Clean 2 PVD Hot-Al HT-ESC - Source Assy missing, Process kit still intact. 3 PVD Hot-Al HT-ESC - Source Assy missing, Process kit still intact 4 PVD Al/Cu SLT-ESC Complete 5 Iso-Valve (Manual) - Bfr HP Txfr VHP (Style Lid) PVD Hot-Al Chambers: These are Water-Cooled Chamber bodies (can't use for other processes which use Wide-Body Chambers Gas Information: Gas Box Pneumatic Valve: Single Pneumatic Valve Type: Veriflo Manual Valve Type: Veriflo MFC Type: FC-780C Gas Line Out: Out The Back Modules: M/F Yes Sys/AC Yes EQ1 Yes EQ2 Yes Main/AC Yes AC Dist Box Yes Cryo Comp 3 - 9600 Heat Ex Yes, Neslab III Pumps No Pumps included with any tools Lift Hoist non-AMAT, Gantry & 250lb hoist Umbilical Configuration: Controller to Main AC: 50 Feet Controller to Mainframe: 50 Feet Mainframe to Generator: 50 Feet Remote Monitor: 50 Feet Mainframe to Compressor: 50 Feet Main AC to pump: 50 Feet AC Box to Heat Exchanger: 50 Feet Controller to Gen Rack: 50 Feet Gen Rack to Gen Rack#2: 50 Feet Electrical Configuration: Line Voltage: 200V Full Load Current: 487A Remote Transformer: No Frequency: 60Hz Missing Parts: Chamber E: Orientor PCB Chamber F: Orientor PCB Chamber 2: Missing upper chamber lid Chamber 3: Missing upper chamber lid Chamber C: Missing upper chamber lid 1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 ist ein einzelner Waferbearbeitungsreaktor mit fortschrittlicher Funktionalität für eine breite Palette von Halbleiterverarbeitungsanwendungen. Dieser intuitiv gestaltete Reaktor wurde entwickelt, um die Produktivität und Prozessflexibilität zu maximieren, sodass Anwender nicht planare, planare und komplexe Gerätestrukturen mit überlegenen Prozessfähigkeiten durchführen können. AKT Endura 5500 ist mit einer unübertroffenen thermischen Fähigkeit ausgestattet, die durch seine fortschrittliche Dreizonen-Heiz- und Kühltechnologie angetrieben wird und es Anwendern ermöglicht, die Temperaturen für eine gleichmäßige Reaktion über die gesamte Waferfläche genau zu steuern. Diese Wärmeleistung wird weiter durch die gleichförmige Medieneinspritztechnik ausgestattet, die eine präzise Steuerung und homogene Verteilung von Prozessgasen ermöglicht. Dadurch können Anwender optimale Folienprofile mit wiederholbarer und gleichbleibender Leistung erzielen. Weitere Merkmale des Reaktors sind hohe Verfügbarkeit, reduzierte Ausfallzeiten und eine hervorragende Prozesssteuerung. In Bezug auf Sicherheit und Umweltschutz erfüllt AMAT ENDURA 5500 Sicherheitsstandards wie UL/CSA mit Funktionen wie den hermetischen Gehäusen zum Schutz des Personals vor potentieller Exposition gegenüber gefährlichen Prozessmaterialien. Darüber hinaus ist der Reaktor mit fortschrittlichen Diagnosetools ausgestattet, die eine einfache und effiziente Überwachung sowie eine zusätzliche Prozessvalidierung ermöglichen. Der Reaktor bietet zudem eine verbesserte Prozessgleichmäßigkeit in Kombination mit einem erweiterten Prozessfenster im Vergleich zu herkömmlichen thermischen Prozessen, was eine erhöhte Flexibilität und einen höheren Durchsatz ermöglicht. Neben seiner überlegenen thermischen Leistung bietet APPLIED MATERIALS ENDURA 5500 Anwendern flexible Steuerungsoptionen mit programmierbaren Zufuhr-/Entlüftungsoptionen und erweiterten I/O-Konfigurationen, die eine effiziente In-situ-Prozesssteuerung unterstützen. Zusätzlich nutzt der Reaktor chemische Eindämmung und strömungsarme Modi, um einen effizienten Betrieb und optimierte Erträge zu ermöglichen. Mit seinen präzisen Bewegungsreglern sind Anwender in der Lage, kleine, aber präzise Bewegungssteuerung mit schneller Kalibrierung zu erreichen, und die Integration in Systeme von Drittanbietern ist auch verfügbar. Zusammenfassend ist AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500 ein leistungsstarker, benutzerfreundlicher und sicherer Reaktor, der Abfall und Gesamtkosten minimiert. Es bietet energiesparende Technologie, überlegene thermische Leistung, reduzierte Ausfallzeiten und eine ausgezeichnete Prozesssteuerung und ist damit eine ausgezeichnete Wahl für Halbleiterindustrie.
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