Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9048796 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9048796
CuBs SIP Encore system, 6" - 8"
Currently configured for 8"
(5) Chambers
Capabilities: Hot Al, SIP TTN, SiP Encore Cu, SIP Encore Ta(N), CleanW
Application: copper barrier seed
Interface Type: SECS RS-232
Elevator Type: Universal Manual w/Rotate
External Cooling: Water Cooled
Wide Body Load Locks: variable speed soft vent VHP transfer robot with HTHU compatible blade
HP+ buffer robot with metal blade
SMIF integrated tool control
Chamber 1: Enhanced Hot Aluminum
Standard Body Chamber
Mech. Clamped chuck, Ti clamp ring
CTI Onboard Cryo, fast regen, low vibe
Magnet type: 12.9" Al A, P/N: 0020-26822
Chamber 2: Ti Nitride
Wide Body Chamber
Elec. Chuck: Bias MCS ESC, SST cover ring
Wafer bias power supply, 13.56MHz 600 W
CTI Onboard Cryo, fast regen, low vibe
Magnet type: SIP REV2, P/N: 0010-04065
Chamber 3: SIP Encore Cu
Wide Body Chamber
Elec. Chuck: SLT FDR E-Chuck, Ti cover ring, cryo chilled
Wafer bias power supply, 13.56MHz 1250 W
CTI Onboard Cryo, fast regen, low vibe
Magnet type: LP 8.8, P/N: 0010-12864
Chamber 4: SIP Encore Ta(N)
Wide Body Chamber
Elec.Chuck: SLT FDR E-Chuck, Ti -Arc-Sp
Wafer bias power supply, 13.56MHz 600W, ICE RF Match
CTI Onboard Cryo, fast regen, low vibe
Magnet Type: Encore Rev 2, P/N:0010-14875
Chamber 5: CleanW PVD
Wide Body Chamber
Elec. Chuck: MCS+ ESC, SST-Arc-Sp cover ring
CTI Onboard Cryo, fast regen, low vibe
Magnet type: PVD WII, P/N: 0010-11925
Accessories:
(3) CTI 9600 Compressor, p/n: 3620-01389, water cooled
(3) CTI Onboard Terminal, p/n: 3620-01553
(2) Neslab System III Heat Exchanger
(1) CTL Inc subzero chiller, Model: BCU-L310F1-AMAT
(1) Toyota T100L Dry Pump
(2) Toyata T600 Dry Pump
Buffer Chamber:
Position "A": Pass thru with clear plastic lid
Position "B": Cooldown with temp monitor
Position "D": Reactive Preclean, Leybold TMP
Position "E" Orienter degas with temp feedback
Position "F" Orienter degas with temp feedback
50' cable harness
480V, 500.0A, 60Hz, 3 phase
CE marked
2007 vintage.
AKT AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 ist ein hochmoderner plasmaverbesserter PECVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der eine effiziente und kostengünstige Möglichkeit bietet, dünne Filme aus Siliziumoxid, Nitrid und anderen Materialien auf Substraten verschiedener Größen abzuscheiden. AKT Endura 5500 ermöglicht Prozessingenieuren in der Halbleiter-, Flachbildschirm-, optischen und Photovoltaik-Industrie überlegene Prozessgleichförmigkeit, Wiederholbarkeit und Hochdurchsatz-Fertigungsfunktionen. AMAT ENDURA 5500 bietet ein erstklassiges, produktivitätsstarkes Abscheideverfahren, das sich bei der Skalierung über herkömmliche Produktgrenzen hinaus auszeichnet. Seine sub-nano dünnen Filmüberzugfähigkeiten, sowie seine einzigartige plasmaerhöhte Absetzungstechnologie, ermöglichen Ingenieuren, Filmgleichförmigkeit zu optimieren, ohne Durchfluss zu opfern. AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500s kompakte Stellfläche und geringe Installationskosten bieten Verfahrenstechnikern die Möglichkeit, wertvolle Bodenflächen zu sparen und gleichzeitig zielgerichtete Leistungskriterien zu erreichen. Herzstück der Architektur von ENDURA 5500 ist das proprietäre Process Monitoring System (PMS), eine proprietäre Überwachungssuite, die Prozessbedingungen wie Prozessdruck, Ionenenergie, Temperatur und Filmzusammensetzung überwachen kann. Dieses System bietet auch Funktionen zur Steuerung von Rückkopplungen mit geschlossenem Kreislauf, wodurch die Prozessstabilität gewährleistet ist, um Zeit für Zeit eine einheitliche und wiederholbare Leistung zu erzielen. Die robusten Fertigungsmöglichkeiten von APPLIED MATERIALS ENDURA 5500 werden durch sein innovatives Design ermöglicht - Premium-Komponenten, hochmoderne Materialien und überlegene Fertigungspräzision mit viel Liebe zum Detail. Seine Zweikammerreaktorquelle ist für eine Vielzahl von Substratkonfigurationen ausgelegt, und sein Gasmanagementsystem ermöglicht eine zuverlässige, einheitliche Prozesssteuerung. Das optionale integrierte Netzteil liefert eine maximale Leistung von 13 MHz bei bis zu 1000-Watts mit minimalem Abstimmen/Driften, was eine optimale Leistungsgleichförmigkeit und minimale Leistungs- und Bauteilverschlechterung gewährleistet. Die fortschrittlichen Funktionen und die steile technische Skalierbarkeit von Endura 5500 machen es zu einer Top-Wahl unter fortgeschrittenen, hochvolumigen Prozessingenieuren. Seine fortschrittlichen Technologien und seine Leistungsfähigkeit auf höchstem Niveau ermöglichen die Abscheidung von Folien mit überlegener Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit bei Nanosheet-Dicken-Niveaus, so dass es die beste Wahl für anspruchsvolle, Multi-Material-Abscheidungsprozesse ist. Alles in allem ist APPLIED MATERIALS Endura 5500 ein fortschrittlicher PECVD-Reaktor, der kosteneffiziente, wiederholbare und zuverlässige Verarbeitungsfunktionen für eine breite Palette von Halbleiter-, Flachbildschirm-, optischen und photovoltaischen Anwendungen bietet.
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