Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9048796 zu verkaufen

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ID: 9048796
CuBs SIP Encore system, 6" - 8" Currently configured for 8" (5) Chambers Capabilities: Hot Al, SIP TTN, SiP Encore Cu, SIP Encore Ta(N), CleanW Application: copper barrier seed Interface Type: SECS RS-232 Elevator Type: Universal Manual w/Rotate External Cooling: Water Cooled Wide Body Load Locks: variable speed soft vent VHP transfer robot with HTHU compatible blade HP+ buffer robot with metal blade SMIF integrated tool control Chamber 1: Enhanced Hot Aluminum Standard Body Chamber Mech. Clamped chuck, Ti clamp ring CTI Onboard Cryo, fast regen, low vibe Magnet type: 12.9" Al A, P/N: 0020-26822 Chamber 2: Ti Nitride Wide Body Chamber Elec. Chuck: Bias MCS ESC, SST cover ring Wafer bias power supply, 13.56MHz 600 W CTI Onboard Cryo, fast regen, low vibe Magnet type: SIP REV2, P/N: 0010-04065 Chamber 3: SIP Encore Cu Wide Body Chamber Elec. Chuck: SLT FDR E-Chuck, Ti cover ring, cryo chilled Wafer bias power supply, 13.56MHz 1250 W CTI Onboard Cryo, fast regen, low vibe Magnet type: LP 8.8, P/N: 0010-12864 Chamber 4: SIP Encore Ta(N) Wide Body Chamber Elec.Chuck: SLT FDR E-Chuck, Ti -Arc-Sp Wafer bias power supply, 13.56MHz 600W, ICE RF Match CTI Onboard Cryo, fast regen, low vibe Magnet Type: Encore Rev 2, P/N:0010-14875 Chamber 5: CleanW PVD Wide Body Chamber Elec. Chuck: MCS+ ESC, SST-Arc-Sp cover ring CTI Onboard Cryo, fast regen, low vibe Magnet type: PVD WII, P/N: 0010-11925 Accessories: (3) CTI 9600 Compressor, p/n: 3620-01389, water cooled (3) CTI Onboard Terminal, p/n: 3620-01553 (2) Neslab System III Heat Exchanger (1) CTL Inc subzero chiller, Model: BCU-L310F1-AMAT (1) Toyota T100L Dry Pump (2) Toyata T600 Dry Pump Buffer Chamber: Position "A": Pass thru with clear plastic lid Position "B": Cooldown with temp monitor Position "D": Reactive Preclean, Leybold TMP Position "E" Orienter degas with temp feedback Position "F" Orienter degas with temp feedback 50' cable harness 480V, 500.0A, 60Hz, 3 phase CE marked 2007 vintage.
AKT AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 ist ein hochmoderner plasmaverbesserter PECVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der eine effiziente und kostengünstige Möglichkeit bietet, dünne Filme aus Siliziumoxid, Nitrid und anderen Materialien auf Substraten verschiedener Größen abzuscheiden. AKT Endura 5500 ermöglicht Prozessingenieuren in der Halbleiter-, Flachbildschirm-, optischen und Photovoltaik-Industrie überlegene Prozessgleichförmigkeit, Wiederholbarkeit und Hochdurchsatz-Fertigungsfunktionen. AMAT ENDURA 5500 bietet ein erstklassiges, produktivitätsstarkes Abscheideverfahren, das sich bei der Skalierung über herkömmliche Produktgrenzen hinaus auszeichnet. Seine sub-nano dünnen Filmüberzugfähigkeiten, sowie seine einzigartige plasmaerhöhte Absetzungstechnologie, ermöglichen Ingenieuren, Filmgleichförmigkeit zu optimieren, ohne Durchfluss zu opfern. AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500s kompakte Stellfläche und geringe Installationskosten bieten Verfahrenstechnikern die Möglichkeit, wertvolle Bodenflächen zu sparen und gleichzeitig zielgerichtete Leistungskriterien zu erreichen. Herzstück der Architektur von ENDURA 5500 ist das proprietäre Process Monitoring System (PMS), eine proprietäre Überwachungssuite, die Prozessbedingungen wie Prozessdruck, Ionenenergie, Temperatur und Filmzusammensetzung überwachen kann. Dieses System bietet auch Funktionen zur Steuerung von Rückkopplungen mit geschlossenem Kreislauf, wodurch die Prozessstabilität gewährleistet ist, um Zeit für Zeit eine einheitliche und wiederholbare Leistung zu erzielen. Die robusten Fertigungsmöglichkeiten von APPLIED MATERIALS ENDURA 5500 werden durch sein innovatives Design ermöglicht - Premium-Komponenten, hochmoderne Materialien und überlegene Fertigungspräzision mit viel Liebe zum Detail. Seine Zweikammerreaktorquelle ist für eine Vielzahl von Substratkonfigurationen ausgelegt, und sein Gasmanagementsystem ermöglicht eine zuverlässige, einheitliche Prozesssteuerung. Das optionale integrierte Netzteil liefert eine maximale Leistung von 13 MHz bei bis zu 1000-Watts mit minimalem Abstimmen/Driften, was eine optimale Leistungsgleichförmigkeit und minimale Leistungs- und Bauteilverschlechterung gewährleistet. Die fortschrittlichen Funktionen und die steile technische Skalierbarkeit von Endura 5500 machen es zu einer Top-Wahl unter fortgeschrittenen, hochvolumigen Prozessingenieuren. Seine fortschrittlichen Technologien und seine Leistungsfähigkeit auf höchstem Niveau ermöglichen die Abscheidung von Folien mit überlegener Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit bei Nanosheet-Dicken-Niveaus, so dass es die beste Wahl für anspruchsvolle, Multi-Material-Abscheidungsprozesse ist. Alles in allem ist APPLIED MATERIALS Endura 5500 ein fortschrittlicher PECVD-Reaktor, der kosteneffiziente, wiederholbare und zuverlässige Verarbeitungsfunktionen für eine breite Palette von Halbleiter-, Flachbildschirm-, optischen und photovoltaischen Anwendungen bietet.
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