Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9078245 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9078245
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1995
System, 8"
Wafer Transfer:
Loadlock Type: NB, Tilt-Out
Buffer Robot Type: HP
Transfer Ch Robot Type: HP
Ch#A: Cool-down
Ch#B: Cool-down
Ch#C: PC-II
Ch#D: None
Ch#E: Ori/Degas
Ch#F: Ori/Degas
Chamber 1:
Chamber Process: AL
Wafer Chuck: 101
Chamber Body: NB STD
Wafer Heater: Moterize/101 Pedestal
Cryo Pump: 2 Phase
Gate Valve: 2 Position
Chamber 2:
Chamber Process: Ti
Wafer Chuck: 101
Chamber Body: WB STD
Wafer Heater: Moterize/101 Pedestal
Cryo Pump: 2 Phase
Gate Valve: 2 Position
Chamber 3:
Chamber Process: AL
Wafer Chuck: 101
Chamber Body: NB STD
Wafer Heater: Moterize/101 Pedestal
Cryo Pump: 2 Phase
Gate Valve: 2 Position
Chamber 4:
Chamber Process: Ti
Wafer Chuck: 101
Chamber Body: WB STD
Wafer Heater: Moterize/101 Pedestal
Cryo Pump: 2 Phase
Gate Valve: 2 Position
AC Power:
60 Hz
480V/208V TRSF
Generater Rack:
1st & 2nd
L12 X 2, 20K X1, 10K X2
(2) Cryo compressors: 9600
Pump:
System: QDP40
PC-II QDP40+250RB
Chiller:
Model: Neslab-III
Signal Cable: 50ft STD
1995 vintage.
AKT/AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 Reaktor ist eine fortschrittliche CVD-Ausrüstung (Chemical Vapor Deposition), die für die Erforschung und Herstellung organischer Dünnschichtmaterialien entwickelt wurde. Dieses Reaktorsystem ist sehr vielseitig einsetzbar und kann Dünnschichten aus verschiedenen Materialien wie Dielektrika, Halbleiter, organische Filme, Barrierematerialien und magnetische Materialien herstellen. AKT Endura 5500 nutzt einen modularen Aufbau, der sowohl kostengünstig als auch platzsparend ist, wobei seine Kammer nur 2 Fuß mal 3 Fuß Bodenfläche erfordert. AMAT ENDURA 5500 Reaktorkammer bietet eine leistungsstarke Gasfördersteuerung, die sich ideal für komplexe Abscheidungsprozesse eignet. Eine Reihe von Gasmischventilen ermöglicht eine Temperatur- und Druckregelung innerhalb der Kammer, so dass hohe Abscheideraten bei minimalem Gasverbrauch erreicht werden können. Die Einstellung der Förderventile kann automatisch auf Basis der gewünschten Temperatur des Abscheideprozesses eingestellt werden. Die Temperatur kann von Raumtemperatur bis maximal 700 ° C variiert werden. Zusätzlich kann der Druck von wenigen Millibar auf Atmosphärendruck eingestellt werden. AMAT Endura 5500 Reaktor bietet auch eine präzise Messsteuerung von Dünnschichtmaterialien. Es verwendet eine Echtzeit-Dickenüberwachungsmaschine, die Dünnschichtdicke bis zu 5 Mikrometer mit einer Genauigkeit von 0,1 Mikrometern messen kann. Dieses Überwachungswerkzeug ermöglicht schnelle und schnelle Messungen bei optimaler Qualitätskontrolle von abgelagerten Materialien. ANGEWANDTE MATERIALIEN Endura 5500 Reaktor verwendet eine gerichtete reaktive Ätztechnologie (DRE), die eine Hochdurchsatzverarbeitung ermöglicht. Diese Technologie verwendet einen Strahl von Aerosolionen, um Schichten aus dem Substrat genau zu ätzen und so Filmschichten von Submikrondicke zu erzeugen. Das DRE-Verfahren ermöglicht auch eine präzise Kontrolle der Materialmikrochemie im Filmabscheidungsprozess und ist damit ideal für Nanomaterialforschung. Darüber hinaus bietet AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500 Reaktor eine vereinfachte Wartung. Der modulare Aufbau der Anlage ermöglicht Servicetechnikern einfachen Zugang und Reinigung sowie einfachen Abbau und Austausch von Komponenten. Endura 5500 Reaktor ist mit Sicherheitsfunktionen für den Schutz sowohl des Modells und der Bediener, wie eine automatische Druckkontrolle und Schiebetüren gebaut. AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA 5500 Reaktor ist ein zuverlässiges, Hochdurchsatz-CVD-System, das Forschern und Produktionslinien Arbeitern fortschrittliche Flexibilität und Präzision in der Materialabscheidung bietet. Es bietet eine hervorragende Kontrolle über Parameter wie Temperatur, Druck, Mikrochemie und Nanomaterialien und ermöglicht eine optimale Kontrolle und Qualitätsausgaben.
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