Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9101660 zu verkaufen

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ID: 9101660
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1997
MOCVD System, 8" Process: one Magnetron was Cu Gasses: Ar, N2, O2 for process (2) Standard body chambers (2) Wide body chambers (1) TxZ chamber with no source lid and partial CVD gas box parts Standard body chambers: No adapter or source lids (no magnetrons) Wide body chambers: (1) Dish target magnetron source (one missing) H2O Cooled (2) Narrow body loadlocks (2) Stnd clamped heater for standard body chambers (2) HTHU heaters for wide body chambers (1) TxZ heater All cryos are standard Endura CTI onboards Currently crated in a warehouse 1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 ist ein hochmoderner Niederdruck-Reaktor zur chemischen Dampfabscheidung (LPCVD), der den heutigen Leistungsanforderungen in einer Vielzahl von Forschungs- und Fertigungsanwendungen gerecht wird. Mit patentierter „High-Performance“ -Technologie bietet diese energieeffiziente Ausrüstung eine sichere, wiederholbare und zuverlässige Umgebung. Der modulare Aufbau ermöglicht die Konfiguration des Reaktors auf die spezifischen Bedürfnisse einer Anwendung. Das Design beinhaltet eine leistungsstarke Robotik mit kontrollierter Umgebung, die eine genaue, wiederholbare und effiziente Beladung und Handhabung von Substraten gewährleistet. AKT Endura 5500 verwendet effiziente Wärmemanagementtechnologien für einheitliche, wiederholbare Prozessergebnisse. Die flexible Prozessarchitektur ist in der Lage, eine Vielzahl von Materialien wie Ein- und Mehrschichtmetalle, Oxide, Nitride, Silizium und Siliziumdioxid zu unterstützen. Die LPCVD-Umgebung erzeugt einheitliche Hochleistungs-Dünnschichten gleichmäßig und schnell über eine Vielzahl von Wafergrößen. Der Prozessbereich ist so konzipiert, dass er von äußeren Bedingungen isoliert und mit dynamischen Kammerdruckreglern und einem effektiven Wärmemanagement stark wiederholbar ist. Der Bordtemperaturbereich in AMAT ENDURA 5500 reicht von 20C bis 1000C für präzise Abscheideraten und gleichmäßige Schichtdicke. Das System ist auf die spezifischen Kundenanforderungen ausgelegt und ermöglicht eine präzise Temperaturregelung in einem bestimmten Bereich. Die hochpräzise Automatisierungsplattform ermöglicht es, kleinere oder größere Substratgrößen während der Verarbeitung zu beladen und zu handhaben, um die Flexibilität zu erhöhen. Das Gerät ENDURA 5500 umfasst eine Vielzahl integrierter Werkzeuge, wie eine fortschrittliche Prozessüberwachungsmaschine zur Vermeidung von Partikelverunreinigungen und ein leistungsstarkes Werkzeug zum Handhaben von Material. Die Prozessüberwachung verfügt über komfortable Warnungen, so dass Sie schnell Anpassungen vornehmen können, wenn Prozessparameter außerhalb der festgelegten Grenzen liegen. Das integrierte Materialhandhabungsmodell liefert präzise, wiederholbare Lieferung von Prozessmaterialien. Das Gerät beinhaltet auch ultra-niedrige Partikel-Sprühtechnologie zur Minimierung der Verbreitung von gefährlichen Partikeln, um ein sauberes, sicheres Substrat zu gewährleisten. Darüber hinaus bietet Endura 5500 eine erhöhte Zuverlässigkeit und Wiederholbarkeit mit automatisierten Steuerungssystemen. Insgesamt ist AMAT Endura 5500 eine leistungsstarke und zuverlässige LPCVD-Kammer, die eine Vielzahl von Prozessen für präzise Steuerung, erhöhten Durchsatz und Effizienz optimiert. Mit integrierter Sicherheit, dynamischer Temperaturregelung, fortschrittlicher Prozessüberwachung und intuitivem Materialhandhabungssystem liefert das Gerät eine präzise, sichere und wiederholbare Dünnschichtabscheidung.
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