Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9112164 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9112164
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1999
PVD System, 8"
Process: STD AL/TiN
Wafer type: SNNF
Buffer robot: HP
Transfer robot: HP
Wide body load lock with auto-tilt in/out
Sliding sensor kit: no
Chambers A/B:
Chamber type: cool down
Chamber lid: metal lid
Cooling method: By PCW / By Gas
Chamber C:
Chamber type: empty
Chamber process: PCII
RF generator / DC power supply 1: LF-10
RF generator / DC power supply 2: CPS-1001
RF generator / DC power supply 3: -
Turbo / cryo pump type: 361C
Chamber D: -
Chamber E: Orient / Degas
Chmaber F: Orient / Degas
Chamber 1:
Chamber type: STD body
Chamber process: TiN
RF generator / DC power supply 1: MDX-L12
RF generator / DC power supply 2: -
RF generator / DC power supply 3: -
Turbo / cryo pump type: CTI OB-8F
Chambers 2:
Chamber type: wide body
Chamber process: AL
RF generator / DC power supply 1: -
RF generator / DC power supply 2: -
RF generator / DC power supply 3: -
Turbo / cryo pump type: CTI OB-8F
Chambers 3:
Chamber type: wide body
Chamber process: AL
RF generator / DC power supply 1: MDX-L12
RF generator / DC power supply 2: -
RF generator / DC power supply 3: -
Turbo / cryo pump type: CTI OB-8F
Chamber 4:
Chamber type: STD body
Chamber process: TI
RF generator / DC power supply 1: -
RF generator / DC power supply 2: -
RF generator / DC power supply 3: -
Turbo / cryo pump type: CTI OB-8F
1999 vintage.
AKT/AMAT / APPLIED MATERIALS / AKT Endura 5500 Reaktor ist eine, für die Halbleitergerätherstellung verwendete Hochleistungsmehrraumabsetzungsausrüstung. Es ist in der Lage, ein breites Spektrum von Prozessanwendungen mit verschiedenen Substraten durchzuführen, einschließlich Oxid, Nitrid und Metallabscheidung. AKT Endura 5500 bietet hochpräzise Kontrolle für Gleichmäßigkeit der Dicke, Konformität der Funktionen und erweiterte Schicht-zu-Schicht-Schritte für die Herstellung von führenden Geräten. AMAT ENDURA 5500 verfügt über ein modernes Vakuumsystem und eine hocheffiziente rezirkulierte Chemikalienliefereinheit zur Minimierung der Gesamtbetriebskosten und der Umweltbelastung durch verbesserte Energieeffizienz, Gleichmäßigkeit, Reduzierung des Maschinendrucks und Beseitigung schädlicher gasförmiger Nebenprodukte. Es ist auch in der Lage, ein temperaturgesteuertes Substratlieferwerkzeug mit einer Vielzahl von Parametern für die fortschrittliche Wafer-Prozesssteuerung bereitzustellen. Das ENDURA 5500 Kammerdesign nutzt eine kreisförmige Geometrie, um Prozessparameter wie Gleichmäßigkeit, Temperatur und Druck zu optimieren. Die fortschrittliche Gasspaltregelung ermöglicht die effiziente und gleichmäßige Abgabe von einem oder zwei separaten festen, flüssigen oder gasförmigen Reagenzien. Die Anlage bietet auch einen fortschrittlichen thermischen Hochwasserkühlungsprozess für effiziente, emissionsarme Prozesssteuerung und eine breite Palette von Injektorkonstruktionen, um eine breite Palette von Prozessbedingungen und Anforderungen zu erfüllen. APPLIED MATERIALS ENDURA 5500 bietet eine intuitive grafische Benutzeroberfläche, um Prozessrezepte schnell zu definieren und zu verwalten und die Mehrkammerparameter des Modells zu nutzen. Eine breite Palette von APIs stehen für die Integration mit Prozessüberwachung und -verfolgung während der Entwicklungs- und Validierungsphasen der Produktion zur Verfügung. Die fortschrittlichen Prozesssteuerungsalgorithmen, die in der Ausrüstung verwendet werden, gewährleisten eine genaue Produktion und hohe Ertragsergebnisse. Endura 5500 bietet überlegene Zuverlässigkeit und Leistung und führt bis zu 40 gleichzeitige Prozessschritte in einem einzigen System durch. Die fortschrittliche Materialkompatibilität, die Vielseitigkeit der Prozesse und die flexible, leistungsstarke Lösung können die höchsten Anforderungen der Branche erfüllen. Das Gerät ist auf Skalierbarkeit ausgelegt und arbeitet mit einer Vielzahl von Vorläufern, die eine einfache Produktexpansion und einen erhöhten Prozessdurchsatz ermöglichen.
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