Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9117504 zu verkaufen

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ID: 9117504
PVD System, 8" Process: AL Sputter Robot information: Buffer: AMAT HP Transfer: AMAT HP Load Lock information: Wide body with Auto tilts in/out No sliding sensor kit Chamber information: Chamber A Chamber type: Pass Thru Chamber Lid: Metal Lid Chamber B Chamber type: Cool down Chamber Lid: Metal Lid Cooling method: By PCW / By Gas Chamber C: Chamber Type: PC II Chamber process: Preclean RF Gen/DC power supply 1: CPS-1001 RF Gen/DC power supply 2: LF-10 RF Gen/DC power supply 3 Turbo/Cryo pump Type: 361C Chamber D: N/A Chamber E: Chamber type: Orient/Degas Chamber 1: Chamber Type: Wide body Chamber process: TiN RF Gen/DC power supply 1: MDX-L12 RF Gen/DC power supply 2 RF Gen/DC power supply 3 Turbo/Cryo pump Type: CTI OB-8F Gate Valve: (2) Position Chamber 2: Chamber Type: STD Body Chamber process: AL RF Gen/DC power supply 1: MDX-L12 RF Gen/DC power supply 2 RF Gen/DC power supply 3 Turbo/Cryo pump Type: CTI OB-8F Gate Valve: 2 Position Chamber 3: Chamber Type STD Body Chamber process AL RF Gen/DC power supply 1 MDX-L12 RF Gen/DC power supply 2 RF Gen/DC power supply 3 Turbo/Cryo pump Type CTI OB-8F Gate Valve 2 Position Chamber 4: Chamber Type: Wide body Chamber process: TiN RF Gen/DC power supply 1: MDX-L18 RF Gen/DC power supply 2 RF Gen/DC power supply 3 Turbo/Cryo pump Type: CTI OB-8F Gate Valve: (2) Position 1999 vintage.
AKT/AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 ist ein fortschrittlicher CVD-Reaktor für Hochleistungs-Halbleiter- und Flachbildschirme. Es ist eine Einzel-Wafer, Atmosphärendruck, Kassette-zu-Kassette-Lösung, die hoch fortschrittliche, prozessanpassungsfähige Technologie für außergewöhnliche Kammerleistung und überlegene Wafer-Gleichmäßigkeit bietet. Dieser innovative CVD-Reaktor bietet außergewöhnliche Prozessgleichförmigkeit, extrem niedrige Zykluszeit und hohen Durchsatz über eine breite Palette von Prozesschemikalien, unter Beibehaltung hervorragender Kammereigenschaften. AKT Endura 5500 liefert gleichbleibend hochwertige Dünnfolien, die anspruchsvollen Prozessanforderungen gerecht werden. Die durchgängige Prozesssteuerung und -fähigkeit sorgen für hervorragende Waferqualität und lochfreie Folien. Darüber hinaus bietet das System mit Dynamic Gas Re-Balance eine überlegene Prozessflexibilität, die die Laserleistung des CVD-Reaktors aktiv anpasst, um die Wafer-Gleichmäßigkeit in einer Kassette, mehreren Kassetten und darüber hinaus zu maximieren. Dieses System bietet ein verbessertes Verfahren mit einer breiteren Palette von Substratmaterialien wie Glas, Silizium und Quarz. Die automatisierte und benutzerdefinierbare, rezeptgesteuerte Steuerungssoftware ermöglicht eine extrem präzise Kammerregelung, optimierten Betrieb, Reduzierung der Zykluszeit und verbesserte Ausbeute. Automatisierte Aufräum- und Clean™ Routinefunktionen ermöglichen schnelle und wiederholbare Verarbeitungszyklen. AMAT ENDURA 5500 Reaktor verfügt auch über fortschrittliche Bewegungssteuerungstechnologien, wie Scanless-Steuerung, um Zeit- und Gleichmäßigkeitsschwankungen zu minimieren, sowie überlegenen Wafertransport, um Zykluszeit und Erträge wiederholbarer Prozesse zu reduzieren. Nicht zuletzt ermöglicht das System schnellere Wafer- Changeover™ (FWC™) und verbesserte Laser- Reflection™ (ILR™), die die Zuverlässigkeit und Verfügbarkeit des Reaktors verbessern, indem sie die Waferumschaltleistung deutlich verbessern und eine virtuelle reinraumähnliche Atmosphäre bieten. Insgesamt bietet der AMAT/AKT ENDURA 5500 CVD Reaktor höchste Leistung, höchste Qualität und wiederholbare Prozesse, die für eine breite Palette von Substraten geeignet sind. Es ist der fortschrittlichste CVD-Reaktor, der heute erhältlich ist, perfekt für Hochleistungs-, Präzisions-Halbleiter- und Flachbildschirm-Anwendungen.
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