Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9134838 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9134838
Weinlese: 1999
Frame,
AL sputter
Chamber information
a) Chamber A
- Chamber type: pass thru
- Chamber lid: metal lid
b) Chamber B
- Chamber type: cool down
- Chamber lid: metal lid
- Cooling method: By PCW / by gas
c) Chamber C
- Chamber type:
- Chamber process: PC II
- RF gen/DC power supply 1: Preclean
- RF gen/DC power supply 2: CPS-1001
- Turbo/cryo pump type: LF-10
- Turbo/cryo pump Type: 361C
e) Chamber E
- Chamber type: orient/degas
f) Chamber F
- Chamber type: orient/degas
g) Chamber 1
- Chamber type: wide body
- Chamber process: TiN
- RF gen/DC power supply 1: MDX-L12
- Turbo/cryo pump type: CTI OB-8F
- Gate Valve: 2 Position
h) Chamber 2
- Chamber type: STD body
- Chamber process: AL
- RF gen/DC power supply 1: MDX-L12
- Turbo/cryo pump type: CTI OB-8F
- Gate Valve: 2 position
i) Chamber 3
- Chamber type: STD body
- Chamber process: AL
- RF gen/DC power supply 1: MDX-L12
- Turbo/cryo pump type: CTI OB-8F
- Gate Valve: 2 position
j) Chamber 4
- Chamber type: STD body
- Chamber process: AL
- RF gen/DC power supply 1: MDX-L12
- Turbo/cryo pump type: CTI OB-8F
- Gate Valve: 2 position
j) System component
System Controller
- V440 SBC
- Ion gauge controller
- 15V, 24V DC power supply
- 5Ph driver
- 2Ph driver
Generator rack#1
- MDX-L12 3ea , MDX-L18 1ea
- Turbo controller 1ea
Generator rack#2
- CPS-1001 , LF-10
Cryo compressor
- 9600 comp 2ea
AC rack
- Short body
Cryo Pump
- 2Ph cryo OF-8F 6ea
1999 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 ist ein Halbleiter-Inline-Reaktor, der verwendet wird, um eine Vielzahl von Schichten auf Halbleiterscheiben abzuscheiden. Dieser Reaktor verwendet ein VCD-Verfahren (Vapor Chemical Deposition), um ultraglatte, hocheffiziente Schichten zu erzeugen. AKT Endura 5500 ist so konzipiert, dass Prozessingenieure ihre VCD-Prozesse schnell und einfach einrichten können. AMAT ENDURA 5500 ist ein Produktionsreaktor mit kurzer Taktzeit und hohem Durchsatz. Es kann bis zu einem Dutzend Wafer pro Stunde produzieren, mit einer Zykluszeit von nur 5 Sekunden pro Wafer. Die adaptive Regelungstechnik des Reaktors passt die Prozessparameter kontinuierlich an und optimiert sie und sorgt für konsistente, hochwertige Folien. AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500 bietet mit seinem Inline-Regelungssystem eine verbesserte Kontrolle über den Prozess. Dieses System ist in der Lage, Echtzeit-Detektion und Rückkopplung von wichtigen Prozessparametern wie Temperatur, Druck, Filmdicke und Gleichmäßigkeit bereitzustellen, die eine effiziente Steuerung von Abscheideprozessen und die Gewährleistung konsistenter Schichten ermöglichen. Darüber hinaus bietet AMAT Endura 5500 eine vollständige Integration in andere Halbleiterverarbeitungsanlagen und kann an neu gebaute Prozesswerkzeuge angeschlossen sowie an bestehende Werkzeuge nachgerüstet werden. Der Reaktor bietet 0,1 ° Wiederholbarkeit im Heiz- und Kühlbetrieb und sorgt für wiederholbare Ergebnisse. ANGEWANDTE MATERIALIEN Endura 5500 verwendet ein Verfahren zur chemischen Abscheidung von Dampf, um Schichten mit außergewöhnlicher Geschwindigkeit und Eigenschaften auf Wafern abzuscheiden. Bei diesem VCD-Verfahren werden Filamente aus metallhaltigem Material verwendet, die erhitzt und anschließend verdampft werden. Wenn das verdampfte Material in den Wafer gelangt, wird es in eine dünne Filmschicht umgewandelt. Durch dieses Verfahren der Schichtherstellung entfällt die Maskierung, wodurch Schichten mit hoher Geschwindigkeit und Genauigkeit hergestellt werden können. ANGEWANDTE MATERIALIEN ENDURA 5500 kann im Allgemeinen niederohmige Wolframschichten sowie Kupfer-Wolfram und Aluminiumschichten mit Eigenschaften wie hohe elektrische und thermische Leitfähigkeit und niedrigen Widerstand produzieren. Damit eignet sich der Reaktor für verschiedenste Halbleiterprozesse wie IC-Bauelemente, MEM-Bauelemente und verschiedene Arten von LED und optoelektronischen Produkten. AKT ENDURA 5500 ist ein Produktionsreaktor mit beispielhafter Kontrolle über Abscheideprozesse, genauen und konsistenten Ergebnissen und Integration in bestehende Verarbeitungsanlagen. Dies ist ein unverzichtbares Werkzeug für jeden Halbleiterherstellungsprozess.
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