Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9186543 zu verkaufen

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ID: 9186543
PVD Systems, 12" INTEL FAB68 Intel original configuration Process group Retrofit B (2) TTN, NiPt NISPUT (2) SiCoNi + (NiPt+NiPt) + (2) Versa TTN+Degas (2) TTN, NiPt CUALSPUT MHM (2) TTN+TTN+Degas CU, TTN, PCXT CUSPUT LDR PCXT + PCXT + (2) EnCoRe II TaN + Cu + Cu + Degas Suspect CU, TTN, PCXT BSI-BATTN PCXT + PCXT + (2) IMP Ti + (2) CVD TiN + Degas CU, TTN, PCXT BSI-PADAL PCXT + PCXT + Versa TTN + TTN+(2) HP Al + Degas.
AKT/AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 ist ein Vollwafer-Prozessreaktor, der speziell für fortschrittliches dielektrisches Ätzen in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Dieses Reaktionswerkzeug bietet erstklassige Ätzgleichmäßigkeit und eine fortschrittliche Kontrolle von Druck, Temperatur und Durchfluss. Es ist optimal, um dielektrische Funktionen mit hohem Seitenverhältnis mit hoher Produktivität und überlegener Prozesssteuerung zu schaffen. AKT Endura 5500 bietet außergewöhnliche Leistung kombiniert mit überlegener Strahlerzeugung. Es arbeitet bei prozessbezogenen Temperaturen zwischen 25-200 Grad Celsius mit Vorspannungen zwischen 0-600 VDC und einem einstellbaren Druckbereich zwischen 0,2-1,0 Torr. Die Reaktionskammer nutzt fortschrittliche Mehrkammerkonstruktionen, die zu einer verbesserten Stabilität und höheren Prozessflexibilität führen. Das System verfügt über ein leistungsstarkes Multi-Kathoden-Design und bietet eine hervorragende Energieversorgung für fortschrittliches dielektrisches Ätzen. Der Reaktor bietet fortschrittliche automatische Parametersteuerung, so dass der Benutzer Prozessparameter wie Temperatur, Druck, Fluss und Spannung einfach überwachen, steuern und anpassen kann. Dies trägt dazu bei, dass Prozesse optimal angepasst und überwacht werden, um konsistente und wiederholbare Ergebnisse zu erzielen. Es enthält auch eine erweiterte Rückkopplungskompensation, die eine pulsweitenmodulierte Leistungssteuerung in Echtzeit für verbesserte Leistung und erhöhte Genauigkeit bietet. AMAT ENDURA 5500 ist mit einer verbesserten, stickstoffgekühlten Auskleidung für den Einsatz bei der Ätzung von Eigenschaften mit hohem Seitenverhältnis ausgestattet und für den Schutz gegen Partikel, den Prozess und das Plasma vor Kontamination optimiert. Der integrierte Liner Shield erhöht die Produktionskonsistenz und Effizienz. Es verfügt auch über ein fortschrittliches Luft-Blase-Reinigungssystem, das Hochdruckluftstrahlen und eine erhöhte Plasmaerzeugung kombiniert, um das Prozesssystem gründlich zu reinigen. Der Reaktor enthält auch fortschrittliche benutzerfreundliche Software. Mit Hochleistungsmodellierung kann die Software die effizientesten Prozessparameter für nahezu jede Prozessanwendung ermitteln. Dies hilft, Variabilität zu reduzieren und Prozesse für optimale Leistung zu optimieren. Abschließend ist AMAT/AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500 einer der führenden Vollwafer-Prozessreaktoren, der speziell für das fortschrittliche dielektrische Ätzen entwickelt wurde. Es ist optimal, um dielektrische Funktionen mit hohem Seitenverhältnis mit hoher Produktivität und überlegener Prozesssteuerung zu schaffen. Der Reaktor enthält eine Vielzahl von erweiterten Funktionen, um sicherzustellen, dass Benutzer schnelle und zuverlässige Ergebnisse erzielen.
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