Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9191119 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS / AKT Endura 5500 ist ein Ultrahochvakuum, Singleoblate planetarischer Reaktor für fortgeschrittene Halbleiterverarbeitungsanwendungen. Mit einer Ausstattungsarchitektur der Produktionsklasse kann der AKT Endura 5500 Reaktor in 300mm oder größeren Fabs eingesetzt werden und ermöglicht die Abscheidung fortschrittlicher Materialien in Nanometer Präzision. Der Reaktor AMAT ENDURA 5500 verfügt über einen vorjustierten, Dual-Gimbaled Rotating und Stationary Head mit integriertem Quarz Viewing Window, das den Zugriff auf den Bediener erleichtert und eine ungehinderte Sicht während des gesamten Laufs bietet. Dies ermöglicht eine kontinuierliche Überwachung des Wafers während des Bearbeitungslaufs, so dass Abscheiderate und Zieldicke überwacht werden können. Durch das integrierte Quarz Viewing Window kann das System sowohl für die Single-Wafer- als auch für die Batch-Mode-Verarbeitung von Metall- und Dielektrikumfolien verwendet werden. ANGEWANDTE MATERIALIEN Endura 5500 Reaktor ist mit fortschrittlicher Robotik und mehreren Trägerkonfigurationen ausgestattet, die sowohl einfache Integration als auch Skalierbarkeit ermöglichen und eine Vielzahl von Prozessanwendungen ermöglichen. Es verfügt über einen Hochgeschwindigkeitsroboter mit einer reibungsarmen Gleiseinheit, die einen reibungslosen Betrieb, einen effizienten Durchsatz und eine präzise Steuerung während des gesamten Prozesses bietet. Dies ermöglicht eine umfassende Rezepturprüfung und Optimierung in einer einzigen Produktionsumgebung. ENDURA 5500 Reaktor ist auch kompatibel mit mehreren Gasverteilungssystemen, die Flexibilität und Erweiterbarkeit für fortgeschrittene Prozessanwendungen bieten. Eine integrierte Vakuummaschine mit variablen Diffusionspumpendrücken und Abstimmventilen gewährleistet Prozessstabilität und Gleichmäßigkeit bei gleichmäßiger Aufnahme sowohl kontinuierlicher als auch gepulster Gaseinleitung. Dies bietet eine beispiellose Kontrolle über Prozessfeinheiten wie Gas/Quell-Zusammensetzung, Gasdurchflussraten, Filmdicke und Auskleidungsprofile. Endura 5500 Reaktor ist in der Lage, eine breite Palette von Abscheidungsprozessen durchzuführen. Es kann für hochpräzise Filmabscheidung für Nanostrukturen, dotierte Gate-Formation für Transistoren der nächsten Generation und ultraglatte Filmabscheidung für Wafer-Passivierung verwendet werden. Der Reaktor eignet sich auch für erweiterte Speicherbaustein-Architekturen wie NAND Flash und DRAM. Zusätzlich unterstützt es Barriere- und Passivierungsfolien, Haftschichten, ultradünne Gate-Oxide, Back-End-Dielektrika, Diffusionsbarriere/Ätzstoppschichten und Source/Drain-Erweiterungen. AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500 erfüllt mit seiner robusten Automatisierung, hoher Präzision und geringen Betriebskosten die kritischsten und anspruchsvollsten Anforderungen moderner Halbleiterverarbeitungsanwendungen.