Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9203801 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500
ID: 9203801
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1998
PVD System, 8" 1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 Reaktor ist ein hochmoderner Ätz- und Abscheidungsprozessreaktor, der in der Halbleiter- und Mikroelektronikindustrie eingesetzt wird. Dieser Reaktor ist für höchste Stabilität ausgelegt, um die höchsten Qualitätsergebnisse in der Industrie zu erzielen. Seine Grundkonfiguration umfasst eine Kammer, einen Pump-/Prozessgaskrümmer, eine Stromversorgung und ein Teilsystem Lade-/Entlader. Alle diese Systeme sind in einem robusten Gehäuse eingeschlossen, das schwer entflammbar und schalldämpfend ist und höchste Sicherheitsstandards und Leistung ermöglicht. Die Kammer hat einheitliche vertikale und radiale Seitenwand induzierte Gas/Plasma-Gleichmäßigkeit, gleichmäßige Prozessgasverteilung, ausgezeichnete Reaktorreinigbarkeit und überlegenen optischen Zugang. Es erfordert keine Plasmaquelle, um die höchste Leistung zu erreichen, und ist langlebig genug, um thermischen Schocks standzuhalten. Der Pump-/Prozessgaskrümmer bietet Steuerung und Druck für Eingangsprozessgase und für Verteilerreinigung und Wartung. Es hat eine minimale zehnfache Druckdifferenz über die Kammer für Prozessfunktionalität, sowie eine optimale Wiederholbarkeit. Die Stromversorgung für den Reaktor kann zum Ätzen hochintensiv kapazitiv gekoppeltes Plasma (CCP) oder induktiv gekoppeltes Plasma (ICP) erzeugen. Die Leistung hat sechs unabhängige Ausgänge und ist in der Lage, hohe Plasmaenergiedichte, optimale Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit sowie einheitliche Ätzprofile mit Nachätzreinigung zu liefern. Das Teilsystem Lader/Entlader ermöglicht eine effiziente Verarbeitung von Substraten und Wafern. Es verfügt über einen Einzelpass-Lader/Entlader, so dass Wafer schnell und effizient geladen/entladen werden können. Das System bietet zudem präzise Wafer- und Substrathandhabung mit engen mechanischen Toleranzen. AKT Endura 5500 Reactor ist die ideale Option, um einen sauberen, wiederholbaren und gleichmäßigen Abscheide- oder Ätzprozess zu entwickeln. Es ist in der Lage, extrem hohe Präzisionsprozesse für höchste Ergebnisqualität mit minimalem Abfall zu produzieren. Sein hochmodernes Design sorgt für maximale Effizienz der Materialien und Langlebigkeit der Leistung in der Halbleiter- und Mikroelektronikindustrie.
Es liegen noch keine Bewertungen vor