Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9206635 zu verkaufen

ID: 9206635
Wafergröße: 8"
System, 8".
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 ist ein hochleistungsfähiger reaktiver Ionenätzer (RIE) für die fortschrittliche Halbleiterverarbeitung. Dieser Reaktor ist speziell für ultrahohe Gleichmäßigkeit in Oberflächenbearbeitungsanwendungen konzipiert und bietet eine einheitliche und präzise Tiefenkontrolle. Die AKT Endura 5500 besteht aus einem Gasschrank zur Speicherung und Verwaltung mehrerer Gase, einer Lastschloßkammer zur schnellen Substratbeladung, der Reaktionskammer, in der das Ätzen stattfindet, und schließlich dem Abgaskrümmer, der den Druck in der Kammer senkt, bevor die Gase freigesetzt werden können. AMAT ENDURA 5500 nutzt zweifrequente Hochfrequenz-Stromquellen, um genaues Plasma zum Ätzen zu erzeugen. Es verfügt auch über eine fortschrittliche Plasmaquelle, die konzipiert ist, um gleichmäßigere Ätzprofile und weniger Partikelverunreinigungen zu erzeugen. Die hochstabile Plasmaquelle ermöglicht eine präzise Steuerung der Dotierungskonzentrationen für moderne Gerätegenerationen. Darüber hinaus ermöglicht es AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500 Benutzern, mehrere Ätzrezepte für unterschiedliche Gerätestapelarchitekturen auszuwählen. Durch die Kombination mehrerer Rezepte können Anwender eine Vielzahl von Opernprozessen einhalten. ENDURA 5500 wurde mit Blick auf Sicherheit, Zuverlässigkeit und Produktivität entwickelt. Ein integriertes Überwachungssystem erkennt schnell anormale Prozesszustände und stoppt automatisch den Betrieb des Reaktors. Um einen sicheren und zuverlässigen Betrieb zu gewährleisten, verwendet der Endura fortschrittliche Entlüftungstechnologie, um den Kammerdruck zu steuern. Diese Druckregelung ist wichtig für eine genaue Ätztiefensteuerung beim Ätzen von Geräten mit hohem Seitenverhältnis. Darüber hinaus verwendet APPLIED MATERIALS ENDURA 5500 ein mehrstufiges Turbomolekularpumpensystem, um einen niedrigen Basisdruck in der Kammer aufrechtzuerhalten. Dies gewährleistet einen niedrigen Partikelhintergrund unter Verwendung eines breiten Spektrums von Ätzgasgemischen. Die durch das Plasma erzeugten Submikron-Staubpartikel werden ebenfalls im Inneren gesammelt, um das Risiko einer Langzeitkontamination zu minimieren. Schließlich verfügt Endura 5500 über eine dedizierte Rezept-Editor-Software, mit der Benutzer ihre eigenen Rezepte einfach erstellen und speichern können. So können Anwender schnell Verarbeitungsströme einrichten, die auf ihre spezifischen Anforderungen abgestimmt sind. Abschließend ist AKT ENDURA 5500 ein fortschrittlicher, automatisierter, reaktiver Ionenätzer, der für die fortschrittliche Halbleiterverarbeitung entwickelt wurde. Seine fortschrittliche Plasmaquelle bietet ultrahohe Gleichmäßigkeit in Oberflächenverarbeitungsanwendungen, während seine mehrstufige Turbopumpe den geringstmöglichen Partikelhintergrund garantiert. Schließlich können Benutzer mit der dedizierten Rezepteditor-Software ganz einfach eigene Rezepte erstellen und speichern.
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